「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 12 13 14 15 16 17 18 19 20 .... 85 86 次へ＞- The liquid processing system 1 comprises a tubular processing chamber 26, and a mechanism disposed in the processing chamber 26 and liquid processing an article, e.g. a wafer W held rotatably, while rotating by supplying a specific processing liquid thereto.
液処理装置の一実施形態である洗浄処理装置１は、筒状の処理チャンバ２６と、処理チャンバ２６内に設けられ、回転自在に保持されたウエハＷ等の被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理機構とを具備する。 - 特許庁 - By using these discharge nozzles according to the processing conditions, the substrate processing apparatus 1 can satisfy both a request to increase the uniformity of treatment by the processing liquid and a request to efficiently substitute the processing liquid stored inside the inner chamber 11 by the other processing liquid.
基板処理装置１は、処理の状況に応じてこれらの吐出ノズルを使い分けることにより、処理液による処理の均一性を向上させたい要求と、内槽１１の内部に貯留された処理液を他の処理液に効率よく置換させたい要求とを、共に満足させることができる。 - 特許庁 - In the meantime, regarding a pigment ink group of which the wettability with the processing liquid is poor (having a large contact angle to the processing liquid), the imparting ratio of the processing liquid to the position to which the pigment ink is imparted is made relatively large.
一方、濡れ性が悪い（処理液に対する接触角が大きい）顔料インクグループに関しては、当該顔料インクが付与される位置に対する処理液の付与割合を相対的に大きくする。 - 特許庁 - Regarding a pigment ink group which has a good wettability with the processing liquid (having a small contact angle to the processing liquid), the imparting ratio of the processing liquid to a position to which the pigment ink is imparted is made relatively small.
処理液との濡れ性がよい（処理液に対する接触角が小さい）顔料インクグループに関しては、当該顔料インクが付与される位置に対する処理液の付与割合を相対的に小さくする。 - 特許庁 - The photographic film 1 is conveyed while being in close contact with the conveyance belt 200 and the processing liquid is applied on the emulsion surface 1a of the photographic film 1 from a first processing liquid applying head 30 and a second processing liquid applying head 40.
写真フィルム１を搬送ベルト２００に密着させながら搬送し、第１処理液塗布ヘッド３０及び第２処理液塗布ヘッド４０から写真フィルム１の乳剤面１ａに処理液を塗布する。 - 特許庁 - As a result, a force of collision of the processing liquid moving on the substrate 9 and the processing liquid emitted from the nozzle 34 can be reduced to restrain dispersion of the processing liquid upward from the substrate 9.
その結果、基板９上を移動する処理液とノズル３４から吐出される処理液との衝突の勢いが低減され、基板９から上方へと処理液が飛散することをより抑制することができる。 - 特許庁 - As the meniscus is displaced, the processing liquid R flows to be developed.
このメニスカスの変位により、処理液Ｒが流動して展開される。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND ORGANIC PROCESSING LIQUID USED IN THE METHOD
パターン形成方法及びこの方法に用いられる有機系処理液 - 特許庁 - The slurry drain after the breaking processing is sent to a liquid quality adjusting device 22.
破砕処理後のスラリー廃液は液質調整装置２２に送られる。 - 特許庁 - To provide a liquid processing device which is capable of developing a substrate as a work uniformly by restraining the air from mixing into a processing liquid.
処理液中への空気の混入を抑制して、被処理基板に対する均一な現像処理が可能な液処理装置を提供すること。 - 特許庁 - PROCESS LIQUID FEEDING UNIT AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD USING THE SAME
処理液供給ユニットと、これを用いた基板処理装置及び方法 - 特許庁 - The processing liquid supply means supplies a processing liquid individually to the central discharge opening 11, the intermediate discharge opening 12 and the peripheral discharge opening 13.
処理液供給手段は、中央吐出口１１、中間吐出口１２、および周縁吐出口１３に個別に処理液を供給する。 - 特許庁 - To reduce consumption of process liquid used for processing a substrate.
基板の処理に使用される処理液の消費量を低減すること。 - 特許庁 - DEVELOPMENT METHOD AND DEVICE, AND LIQUID PROCESSING METHOD AND DEVICE
現像方法及び現像装置及び液処理方法及び液処理装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING LIQUID DISCHARGE HEAD SUBSTRATE AND METHOD OF PROCESSING THIS SUBSTRATE
液体吐出ヘッド用基板の製造方法及び基板の加工方法 - 特許庁 - IMAGE DATA PROCESSOR, IMAGE DATA PROCESSING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
画像データ処理装置、画像データ処理方法、及び液晶ディスプレイ装置 - 特許庁 - Inkjet recording is performed with both liquids or pigment ink and processing liquid.
顔料インクと処理液との２液を用いてインクジェット記録を行う。 - 特許庁 - CLEANING METHOD, LIQUID PROCESSING APPARATUS, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM
洗浄方法、液処理装置およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 - 特許庁 - To provide a system for recovering processing liquid in which recovery efficiency of the processing liquid can be enhanced without deteriorating the quality of a substrate.
基板の品質を劣化させることなく、処理液の回収効率を向上することが可能な処理液の回収装置を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, the stable supply of the processing liquid (water W) is made possible.
したがって、処理液（水Ｗ）の安定供給を図ることができる。 - 特許庁 - LIQUID DISCHARGING APPARATUS, PRINTER EQUIPPED WITH THE SAME, AND MEDIA PROCESSING APPARATUS
液体吐出装置およびそれを備えた印刷装置、メディア処理装置 - 特許庁 - A substrate 12 for a liquid crystal is held by a substrate chuck 13 and is subjected to a processing using a processing liquid, pure wafer rinsing, and spin drying in the same spin cup 22.
液晶用の基板12を基板チャック13で保持し、同一のスピンカップ22内で、薬液処理、純水リンス、およびスピン乾燥処理を行う。 - 特許庁 - The processing liquid in a processing liquid tank TB is led to a simple type heat exchanger S2 through piping 18, 19 and 23 by operation of a pump P2.
処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２３を通して簡易式熱交換器Ｓ２に導かれる。 - 特許庁 - Top and reverse surfaces Wa and Wb of this substrate W is supplied with processing liquid from 1st and 2nd processing liquid supply mechanisms 3 and 4.
この基板Ｗの上下面Ｗａ，Ｗｂに対して、第１および第２処理液供給機構３，４から処理液が供給される。 - 特許庁 - To smoothly flow out drainage from a liquid receiving vessel such as a processing cup.
処理カップのような受液容器から排液をスムーズに流出させる。 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID HEATING DEVICE AND AUTOMATIC DEVELOPING DEVICE FOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL
処理液加熱装置および写真感光材料用自動現像装置 - 特許庁 - To prevent a processing liquid from sticking to a substrate, when the substrate is being dried.
乾燥処理時に薬液が基板12に付着することを防止する。 - 特許庁 - As the meniscus is displaced, the processing liquid R flows to be agitated.
このメニスカスの変位により、処理液Ｒが流動して撹拌される。 - 特許庁 - LIQUID DISCHARGE APPARATUS, INKJET RECORDER AND ITS RECOVERY PROCESSING METHOD
液体排出装置、インクジェット記録装置およびその回復処理方法 - 特許庁 - To provide a secondary slime processing method by partial substitution of a stabilized liquid.
安定液の部分置換による二次スライム処理方法を提供する。 - 特許庁 - To eliminate processing delay in images displayed in a liquid crystal display device.
液晶表示装置に表示する画像において処理落ちをなくす。 - 特許庁 - To drastically reduce a cost for treating a processing liquid and to eliminate the need for an occupying space of a tank for storing the processing liquid for a specified period or the like.
処理液を処理するコストを著しく押え、また処理液を一定期間貯蔵するタンク等の占有スペースが不用となること。 - 特許庁 - Since the waste liquid of plum processing is not specially treated, the feeding-stuff added with the waste liquid of plum processing can be produced at low cost.
また、梅加工廃液には特殊な処理は施されないため、梅加工廃液の添加された飼料を低コストで製造することができる。 - 特許庁 - To provide an effective method for collecting silver from a waste photographic processing liquid.
写真廃液からの有効な銀回収方法を提供すること。 - 特許庁 - To prevent a process liquid from leaking outside a processing chamber along a surface of a substrate.
処理室外へ基板を伝って処理液が漏れ出すのを防止する。 - 特許庁 - To prevent splash of processing liquid on the upper surface of a substrate especially.
とくに基板の上面における処理液の跳ね返りを抑制する。 - 特許庁 - SUBSTRATE SPIN PROCESSOR AND SUBSTRATE SPIN PROCESSING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL PANEL
基板スピン処理装置及び基板スピン処理方法並びに液晶パネル - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which comparatively easily manages treating liquid such as etching liquid, and much more enhances the uniformity of processing such as etching.
エッチング液等の処理流体の管理が比較的容易で、しかもエッチング等の処理の均一性をより高めることができるようにする。 - 特許庁 - PROCESSED EEL FOOD AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, SEASONING LIQUID FOR PROCESSING EEL
鰻加工食品とその製造方法、及び鰻加工用調味液 - 特許庁 - To provide a manufacturing apparatus of processing liquid capable supplying processing liquid not containing bubbles larger than nano bubbles.
この発明はナノバブルよりも大径な気泡を含んでいない処理液を供給することができる処理液の製造装置を提供することにある。 - 特許庁 - Also by irradiating the substrates with the ultraviolet light, oxygen radicals are generated in the processing liquid containing ozone, to enhance the activity of the processing liquid.
また、基板に紫外線を照射することにより、オゾン水を含む処理液に酸素ラジカルを発生させて処理液の活性度を高められる。 - 特許庁 - Nitrogen gas is supplied from a pressure source 33 to a processing liquid storage tank 31 and processing liquid is delivered from a nozzle 23 through delivery piping 36.
加圧源３３から処理液貯留槽３１に窒素ガスを供給して、吐出配管３６を介してノズル２３から処理液を吐出する。 - 特許庁 - To provide a development processor capable of effectively suppressing oxidation of processing liquid by efficiently dissolving inert gas in the processing liquid.
処理液中に不活性ガスを効率良く溶け込ませて処理液の酸化を効果的に抑制することが可能な現像処理装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF CLASSIFYING AND PROCESSING UNEVENNESS OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, APPARATUS FOR THE SAME AND PROGRAM
液晶ディスプレイパネルムラの分類処理方法、その装置及びプログラム - 特許庁 - The excess processing liquid applied to the photosensitive materials 17 is removed by a processing liquid removing means 31 during the transportation of the photosensitive materials 17.
感光材料１７を搬送中に、感光材料１７に塗布された余剰の処理液を処理液除去手段３１で除去する。 - 特許庁 - To provide a development processing device that can perform secure development processing, wherein speedy development processing and normal development processing are achieved with simple constitution, and a sufficient liquid contacting time and excellent processing liquid change efficiency are secured even in the speedy processing.
迅速な現像処理と通常の現像処理とを簡単な構成で実現するとともに、迅速処理においても十分な接液時間及び良好な処理液交換効率を確保し、確実な現像処理が可能な現像処理装置を提供する。 - 特許庁 - Subsequently, processing liquid stored in the processing tank 1 is heated to processing temperature, a voltage corresponding to a pressure detected under that state is employed as a processing voltage, and actual specific gravity of the processing liquid is determined based on the processing voltage and the reference voltage at a concentration calculating section 27.
次に、処理槽１に貯留した処理液を処理温度に加熱し、その状態で検出した圧力に応じた電圧を処理電圧とし、この処理電圧と基準電圧とに基づいて濃度算出部２７により処理液の実比重を求める。 - 特許庁 - The prescribed processing is successively performed at each of the processing portions to a glass substrate G for a liquid crystal in a casing 2.
ケーシング２内の液晶用ガラス基板Ｇに対して処理部毎に連続して処理が行われる。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which is capable of controlling the temperature of a processing liquid accurately.
処理液を精度良く温調することができる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a processing device and processing method for high dynamic contrast of a liquid crystal display.
本発明は、液晶表示装置の高ダイナミックコントラスト処理装置と処理方法に関するものである。 - 特許庁
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