「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 9 10 11 12 13 14 15 16 17 .... 85 86 次へ＞- To solve a problem that a processing liquid stays near a nip part between an application roller and a squeezing roller, utilization efficiency of the processing liquid falls, and unevenness of coating generates.
塗布ローラとスクイーズローラのニップ部近傍に処理液が留まり、処理液の利用効率が低下し、塗布ムラが発生する。 - 特許庁 - FINE PROCESSING SURFACE TREATING LIQUID FOR GLASS SUBSTRATE HAVING MULTI-COMPONENTS
多成分を有するガラス基板用の微細加工表面処理液 - 特許庁 - ROLLER CLEANING LIQUID FOR SILVER SALT PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL PROCESSING APPARATUS
銀塩写真感光材料処理装置用ローラー洗浄液 - 特許庁 - METHOD FOR REPLENISHING PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE WITH REPLENISHING LIQUID
感光材料処理装置における補充液の補充方法 - 特許庁 - METHOD FOR RECYCLING WASTE ALKALI VOLUME DECREASE PROCESSING LIQUID OF POLYESTER FIBER
ポリエステル繊維のアルカリ減量加工廃液の再利用方法 - 特許庁 - The spray nozzles 1, 1a and 1b discharge the processing liquid while swinging.
スプレーノズル１，１ａ，１ｂが揺動しつつ処理液を吐出する。 - 特許庁 - COLOR IMAGE PROCESSING METHOD AND DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
カラー画像処理方法、カラー画像処理装置、液晶表示装置 - 特許庁 - To prevent misty processing liquid from invading between treating chambers.
処理室間においてミスト状処理液の侵入を防止する。 - 特許庁 - A dip tank 37 is provided at the entrance part of a liquid chemical processing part.
薬液処理部の入口部分にディップ槽３７を設ける。 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING ORGANIC WASTE LIQUID
有機性廃液の処理装置及び有機性廃液の処理方法 - 特許庁 - To prevent a processing liquid from overflowing to be discharged unnecessarily when carrying a photosensitive material on the outside of the liquid and processing it.
感光材料を液外搬送して処理するときに、処理液が不必要にオーバーフローして排出されてしまうのを防止する。 - 特許庁 - To provide a method for performing easily and conveniently a processing of a plurality of kinds of liquid of different quality or a processing both liquid and item.
品質の異なる複数の液体の加工、もしくは液体と物品との加工を、簡単に手軽に行う方法を得ること。 - 特許庁 - To realize an ultrasonic processing apparatus which can prevent lowering in substrate processing by a liquid chemical even when the liquid chemical of high temperature is used.
高温の薬液を用いても、薬液による基板処理の低下を防止できる超音波処理装置を実現すること。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING LANDING POSITION OF PROCESSING LIQUID EJECTION NOZZLE
処理液吐出ノズルの着弾位置決定方法および装置 - 特許庁 - RADIOACTIVE WASTE LIQUID PROCESSING METHOD AND APPARATUS
放射性廃液処理方法および放射性廃液処理装置 - 特許庁 - DEVELOPMENT PROCESSOR AND METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID
現像処理装置及び現像処理液の温度調整方法 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID SUPPLY NOZZLE AND SUBSTRATE PROCESSOR PROVIDED THEREWITH
処理液供給用ノズルおよびこれを備える基板処理装置 - 特許庁 - CLEANING LIQUID AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING METHOD EMPLOYING IT
洗浄液およびこれを用いる半導体基板の処理方法 - 特許庁 - A carrier is made to exist together in a processing liquid containing a function imparting agent for the fiber when treating the polyester fiber with the processing liquid.
ポリエステル繊維を対繊維機能付与剤を含む加工液で処理するに際し、該加工液中にキャリアーを併存させる。 - 特許庁 - WET-PROCESS METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SURFACE AND ITS PROCESSING LIQUID
半導体基板表面のウェット処理方法及びその処理液 - 特許庁 - The temperature regulator 4 regulates temperatures of the processing liquid H.
温度調節装置４は加工液Ｈの温度を調節する。 - 特許庁 - COLLECTING TRAY FOR PUTTY PROCESSING LIQUID FOR USE IN SHEET METAL COATING OF CAR
自動車板金塗装におけるパテ処理済液の回収皿 - 特許庁 - LIQUID PROCESSING TANK AND IMAGE FORMATION DEVICE EQUIPPED WITH THE TANK
液体処理タンクおよびこれを搭載した画像形成装置 - 特許庁 - To suppress damage on a substrate caused by a discharge between a processing liquid and the substrate upon supplying the processing liquid to the substrate.
処理液を基板上に供給する際に、処理液と基板との間の放電により生じる基板へのダメージを抑制する。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID JETTING HEAD
基板の処理方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF REMOVING FLUORINE FROM PROCESSING LIQUID USED IN WET ZINC SMELTING
湿式亜鉛製錬用工程液からフッ素を除去する方法 - 特許庁 - METHOD OF PROCESSING VIDEO IMAGE SEQUENCE IN LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
液晶ディスプレイパネルにおけるビデオ画像シーケンスの処理方法 - 特許庁 - a liquid solution used in photographic image processing, called accelerator
現象促進剤という,写真の現像を促進させる薬剤 - EDR日英対訳辞書 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND INFORMATION PROCESSING DEVICE PROVIDED WITH THEREWITH
液晶表示装置及びこれを有する情報処理装置 - 特許庁 - To provide a liquid processing method and a device which are capable of restraining liquid processing marks such as water marks from being formed on a substrate.
基板におけるウォーターマーク等の液処理跡の発生を抑制する液処理方法および液処理装置を提供する。 - 特許庁 - SIGNAL PROCESSOR, LIQUID DROP DISCHARGE DEVICE AND SIGNAL PROCESSING METHOD
信号処理装置、液滴吐出装置及び信号処理方法 - 特許庁 - LIQUID TREATMENT APPARATUS AND METHOD, AND DEVELOPMENT PROCESSING SYSTEM
液処理装置および液処理方法ならびに現像処理装置 - 特許庁 - To suppress the sticking of the mist of a processing liquid on a substrate, and to prevent leakage of the mist of the processing liquid to the outside of a processing apparatus, when processing or drying the substrate, while rotating it.
基板を回転しながら基板の処理又は乾燥を行う際、処理液のミストが基板に付着するのを抑制し、かつ処理液のミストが装置の外へ漏れるのを防止する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of reducing consumption of a processing liquid, and spreading the processing liquid over a wide area of a substrate and to provide a substrate processing method.
処理液消費量の低減を実現できるとともに、基板の広範囲に処理液を行き渡らせることができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁 - A method is provided for completing a liquid crystal cell, in which a bonding process, a liquid crystal injection processing, a sealing processing, a foreign matter inspection processing and a polarizing plate attachment processing are carried out, after manufacturing a TFT and a color filter.
ＴＦＴとカラーフィルタとを製造した後、貼り合わせ処理、液晶注入処理、封止処理、異物検査処理、偏光板貼り付け処理を行って液晶セルを完成させる。 - 特許庁 - To provide a processing device which can sufficiently stir the liquid in an intermediate tank without increasing the circulating flow rate between a processing tank of the processing device and the intermediate tank when circulating the processing liquid stored in the processing tank through the intermediate tank outside the system and a method for circulating the processing liquid.
処理装置の処理槽に貯留された処理液を系外の中間槽を通して循環するときに、処理槽と中間槽の間の循環流量を上げることなしに、中間槽内の攪拌を十分に行う事のできる処理装置及び処理液の循環方法を提供する - 特許庁 - A horizontal conveyance unit which is detachably mounted on a processing tank and horizontally conveys the photosensitive material received outside the processing liquid of the processing tank is provided with a processing liquid applying means 80 for applying the processing liquid of the mounted processing tank to the photosensitive material under horizontal conveyance.
処理槽に着脱可能に装着されるとともに処理槽の処理液外で受け取った感光材料を水平に搬送する水平搬送ユニットには水平搬送中の感光材料に対して装着された処理槽の処理液を付与する処理液付与手段８０が設けられている。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF SURFACE GLOSS BASE MATERIAL FOR LIQUID CONTAINER AND SURFACE GLOSS BASE MATERIAL FOR LIQUID CONTAINER
液体容器用表面光沢基材の加工方法および液体容器用表面光沢基材 - 特許庁 - After the film of the processing liquid is formed on the circumferential edge part, the film of the coating liquid is formed.
ウエハＷの周縁部に処理液の膜を形成した後に塗布液の膜を形成する。 - 特許庁 - To uniformly form a film thickness of treatment liquid, and to operate liquid processing at low cost.
処理液の膜厚を均一に形成することができ，かつ液処理を安価に行うことができる。 - 特許庁 - CHEMICAL ENGINEERING PROCESSING TOWER DEVICE WITH LIQUID REDISTRIBUTOR, AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID REDISTRIBUTOR FOR USE THEREIN
液再分布器付化工処理塔装置及び当該装置に用いる液再分布器の製作方法 - 特許庁 - MASK FOR EXPOSURE PROCESSING, SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR THE LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT
露光処理用マスク、液晶配向用基板及び液晶配向用基板の製造方法 - 特許庁 - To prevent the clogging of a liquid jetting port due to a solid material of a processing liquid which is produced by drying.
乾燥によって生じる処理液の固形物による液噴出口の詰まりを防止する。 - 特許庁 - To restrain adhesion of a processing liquid to the discharge face of a recording liquid head and degradation in image quality.
記録液ヘッドの吐出面への処理液の付着、及び画像品質の低下を抑制する。 - 特許庁 - In a chemical liquid processing, the intermediate cup wall 30 is lowered, and the chemical liquid is recovered with the cup 15.
薬液処理のときは中間カップ壁３０を下降させて薬液をカップ１５で回収する。 - 特許庁 - To provide a replenishing liquid supply device which is adaptive to large variation in used amount of processing liquid.
処理液使用量が大きく変化しても対応できる補充液供給装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing apparatus capable of determining a concentration of a processing liquid for processing a substrate.
この発明は基板を処理する処理液の濃度を求めることができるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a photosensitive material processing device which utilizes a narrow processing channel and is small in the volume of a processing liquid.
狭い処理チャネルを利用した処理液の容量の小さい感光材の処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that reduce an influence of an airborne processing liquid mist in a chamber.
チャンバ内の浮遊処理液の影響を低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The processing base 70 is disposed below the processing head 12 and supplies liquid or gas jet for processing the wafer.
処理ベース７０は、処理ヘッド１２の下方に配置され、液体又はガスのジェットをウエーハの処理のために供給する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
- Copyright © National Institute of Information and Communications Technology. All Rights Reserved.
