「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
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気液分離装置及びこれを含む基板処理装置 - 特許庁 - LIQUID FEEDER, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD
送液装置、基板処理装置および基板処理方法 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING TRANSPARENT ELECTRODE FILM OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
液晶表示装置の透明電極膜加工方法 - 特許庁 - ANAEROBIC ORGANISM PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR ORGANIC WASTE LIQUID
有機排液の嫌気性生物処理方法および装置 - 特許庁 - PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR LIQUID INCLUDING RADIONUCLIDE
放射性核種を含有する液体処理方法と装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING REELED THREAD WITH LIQUID AMMONIA
綛糸の液体アンモニア加工装置および加工方法 - 特許庁 - SOLIDIFICATION PROCESSING METHOD OF RADIOACTIVE WASTE LIQUID AND ITS DEVICE
放射性廃液の固化処理方法およびその装置 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID DISCHARGE DEVICE, CLEANING UNIT AND CLEANING METHOD
処理液吐出装置、洗浄ユニット及び洗浄方法 - 特許庁 - The side wall 321 is subjected to liquid repellency processing.
前記側壁３２１に撥液処理が施されている。 - 特許庁 - To generate a processing liquid with a predetermined concentration regardless of the flow rate of the processing liquid used simultaneously.
同時に使用する処理液の流量にかかわらず所定濃度の処理液を生成できるようにすること。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus suppressing variation in temperature of a liquid used for processing an object to be processed.
被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To enable proper feeding of processing liquid without staining an ink ribbon while reducing the consumption amount of the processing liquid.
処理液の消費量を削減し、インクリボンを汚すことのない処理液の適度な供給を可能にする。 - 特許庁 - To provide a processing liquid supply device which can supply processing liquid, whose temperature is made sufficiently uniform.
温度が十分に均一化された処理液を供給することができる処理液供給装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing liquid storage device making it possible to accurately determine the level of a processing liquid in a tank.
貯留槽内の処理液の液面を正確に知ることができる処理液貯留装置を提供する。 - 特許庁 - A sucker 48 provided on the side of a recording head 36T for processing liquid collects mist of processing liquid.
処理液用記録ヘッド３６Ｔ側に設けられた吸引装置４８によって、処理液のミストが回収される。 - 特許庁 - A component concentration of a processing liquid 14 in the processing liquid tub 10 is measured by a component concentration measuring instrument 20.
処理液槽１０の処理液１４の成分濃度は、成分濃度測定器２０によって測定される。 - 特許庁 - DIGITAL SIGNAL PROCESSING CIRCUIT, ITS PROCESSING METHOD, DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND LIQUID CRYSTAL PROJECTOR
デジタル信号処理回路およびその処理方法、並びに表示装置、液晶表示装置および液晶プロジェクタ - 特許庁 - To collect ink and a processing liquid without blending them and to prevent nozzles from being dogged by reaction of ink and a processing liquid.
インクと処理液を混合することなく回収し、インクと処理液の反応によるノズルの閉塞を防止する。 - 特許庁 - To provide a substrate liquid processing apparatus which can improve a collection rate of a processing liquid scattered from a substrate.
基板から飛散した処理液の回収率を向上させることができる基板液処理装置の提供。 - 特許庁 - To provide a substrate liquid processing apparatus which can prevent a processing liquid scattered from a substrate from reattaching to the substrate.
基板から飛散した処理液が基板へ再付着することを防止できる基板液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a storage tank which prevents the oxidation of a processing liquid in storing the processing liquid into the storage tank.
貯留タンクで処理液を貯留する場合における処理液の酸化を防止する貯留タンクを提供する。 - 特許庁 - The manual switching bulb 13 permits supply of the processing liquid from processing liquid piping 11 to the processing liquid tank 3 and inhibits supply of the cleaning liquid from cleaning liquid piping 12 to the processing liquid tank 3, while a lever 19 which is manually operated is lodged to one side.
手動式切替バルブ１３は、手動操作されるレバー１９を一方側に倒伏させた状態で、処理液配管１１から処理液タンク３への処理液の供給を許可し、洗浄液配管１２から処理液タンク３への洗浄液の供給を阻止する。 - 特許庁 - Housing 42 in which a processing space 74 which stores a processing liquid has been formed is disposed in a partition wall between processing chambers which are arranged in a main body of a processing tank and each store a processing liquid.
処理槽本体内に設けた各々処理液を貯留する処理室間の隔壁に、処理液を貯留する処理空間７４を内部に形成したハウジング４２を配置する。 - 特許庁 - LIQUID FUEL VAPORIZER, LIQUID FUEL PROCESSING APPARATUS AND FUEL CELL POWER GENERATION SYSTEM
液体燃料気化装置、液体燃料処理装置および燃料電池発電システム - 特許庁 - To provide an automatic developing machine for a photosensitive material which is excellent in rapid processing capacity and can reduce feeling of processing by a processing liquid.
迅速処理能力に優れ、処理液での処理を感じさせることを軽減可能である。 - 特許庁 - To maintain processing capacity of processing tanks by suppressing leak of processing liquid between the tanks with a simple structure.
簡単な構造で処理槽間の処理液のリークを抑制し、処理槽の処理能力を維持する。 - 特許庁 - The substrate 3 is subjected to processing by spraying the processing liquid from processing liquid nozzles 5 and thereafter the air or gas, such as inert gas, containing the solvent mist of the processing liquid is ejected toward the substrate 3 from air knives 6, by which the processing liquid on the substrate 3 is removed and the drying and crystallizing of the processing liquid are prevented.
基板３に処理液ノズル５から処理液を散布して処理を行った後、エアナイフ６から基板３に向けて処理液の溶媒ミストを含むエアや不活性ガスなどの気体を噴出することにより基板３上の処理液を除去し、処理液が乾燥して結晶化するのを防止するようにした。 - 特許庁 - The processing liquid replenishing system is provided with a replenishing container housing processing liquid to be replenished to a development processing tank in which a photographic sensitive material is developed, a liquid surface sensor 64 for detecting a processing liquid level in the replenishing container and a replenishing pump 8 for sending out the processing liquid from the replenishing container to the processing tank.
写真感光材料を現像処理する現像処理槽に補充するための処理液を収納している補充容器と、この補充容器中の処理液レベルを検出する液面センサ６４と、補充容器から処理液を処理槽へ送り出す補充ポンプ８とを備えた処理液補充システム。 - 特許庁 - To supply processing liquid under optimal state to a substrate by detecting the state of processing liquid based on presence of fluctuation of liquid, for example, when the substrate is processed by supplying predetermined processing liquid thereto.
所定の処理液を基板に供給して液処理するにあたり、例えば液の揺らぎの有無に基づいて処理液の状態を検出して基板にとって最適な状態の処理液を供給すること - 特許庁 - To provide a processing liquid discharge device which is capable of accurately monitoring the discharge state of a processing liquid when the processing liquid, such as a photoresist liquid etc., is discharged out on a processed substrate, such as a semiconductor substrate etc.
半導体基板等の被処理基板上にフォトレジスト液等の処理液を吐出させる場合において、処理液の吐出状態を正確にモニタリングすることができる吐出装置を提供すること。 - 特許庁 - The development processing method includes processing liquid supply processes S14-S16 of supplying a processing liquid, where a hydrophobic agent for hydrophobizing the resist pattern is diluted by hydrofluoroether onto the substrate where the rinse liquid is supplied, after the resist pattern is developed; and processing liquid removal steps S18, S19 for removing the processing liquid from an area on the substrate to which the processing liquid has been supplied.
レジストパターンが現像された後、リンス液が供給された基板上に、レジストパターンを疎水化する疎水化剤がハイドロフルオロエーテルで希釈されてなる処理液を供給する処理液供給工程Ｓ１４〜Ｓ１６と、処理液が供給された基板上から、処理液を除去する処理液除去工程Ｓ１８、Ｓ１９とを有する。 - 特許庁 - To suppress an amount of taking out a processing liquid from a unit for supplying the processing liquid without using any liquid end roller and any air.
液切りローラやエアーを用いることなく、処理液を供給する装置から処理液の持ち出し量を抑制することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid method, that allow processing liquid that is applied to a substrate to flow out quickly from the substrate.
基板に塗布された処理液を短時間で基板上から流し出すことができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a device for processing a waste liquid capable of safely and easily processing the waste liquid by recovering the waste liquid by surely making the same harmless solid.
液体を確実に無害な固体にして回収し、安全かつ容易に廃液処理を行えるようにした廃液処理装置を提供する。 - 特許庁 - In this case, the waste liquid which is different in waste liquid processing method can easily be segregated and collected, and no hindrance to the waste liquid processing is caused.
この場合、廃液処理手法の異なる廃液を簡単に分別回収することができ、廃液処理に支障が生じることが少ない。 - 特許庁 - This photosensitive material processing device is constituted to exactly maintain a level 235 of the processing liquid by maintaining a level of the top surface of the processing liquid at a position lower than the processing liquid outlet of a high-impact device.
この感光材処理装置は、処理液の上面のレベルを、高衝撃装置の処理液出口より低い位置に保持することによって、処理液のレベル２３５を正確に維持するようにしている。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which stabilize for image processing the condition of a process liquid at the tip of one nozzle selected for use in processing from among a plurality of nozzles supplying a process liquid on to a substrate.
基板上に処理液を供給する複数のノズルのうちの処理に供される選択された１つのノズル先端部の処理液の状態を安定して画像処理する液処理装置及び液処理方法を提供すること。 - 特許庁 - At this point, while the processing liquid is discharged from the processing liquid nozzle, a cleaning liquid is concurrently discharged from a cleaning liquid nozzle 38, and hence the processing liquid received by the cup 5 is rapidly cleaned away and discharged through a drainage port 32.
このとき、処理液ノズルからの処理液の吐出と並行して、洗浄液ノズル３８から洗浄液が吐出されており、カップ５により受け止められた処理液は、速やかに洗い流されて排液口３２から排液される。 - 特許庁 - To provide a scheduling method of a substrate processing apparatus capable of preventing wasteful use of a processing liquid, even if lot processing includes auxiliary liquid replacement processing, and to provide a program thereof.
ロットの処理に付随液交換処理がある場合でも、処理液の浪費を防止することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁 - The jet nozzle emits processing liquid onto the substrate and also injects processing gas toward the processing liquid emitted from the jet nozzle while adjusting flow of the processing gas.
噴射ノズルは処理液を基板に排出すると同時に、処理ガスの気流を調節して処理ガスを噴射ノズルから排出される処理液側に噴射する。 - 特許庁 - When it has been reached the feed length of ten films, a solenoid valve 31 is opened, the whole processing liquid is discharged from each processing tank, and a new processing liquid is fed to each processing tank.
フイルム１０本分の給送長に達していたら、電磁弁３１を開けて各処理槽から処理液を全て排出し、新たな処理液を各処理槽に送る。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus by which a processing liquid is applied stably and which is miniaturized, and to provide a substrate processing method by which the processing liquid is applied stably.
処理液を安定に塗布することができる共に小型化された基板処理装置及び処理液を安定に塗布することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a development processing apparatus wherein it is prevented that liquid intrudes to the rear side of a substrate in development processing.
現像処理時に液体が基板の裏面側に回り込むことを防止する。 - 特許庁 - To suppress particle contamination of a substrate impregnated with processing liquid in a processing tank.
処理槽の処理液の浸漬された基板へのパーティクルによる汚染を抑制する。 - 特許庁 - A sample processing system for processing the sample contained in a liquid is disclosed.
液体に含まれるサンプルを処理するためのサンプル処理システムが開示されている。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus 1 includes a spin chuck 3, a processing liquid nozzle, and a cup 5.
基板処理装置１は、スピンチャック３、処理液ノズルおよびカップ５を備えている。 - 特許庁 - LIQUID-SCATTERING PREVENTION CUP OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR OPERATING THE APPARATUS
基板処理装置の液飛散防止カップ、基板処理装置、及びその運転方法 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus in which replenishing processing liquid is accurately replenished.
正確な処理液補充を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of replacing processing liquid so as not to leave air bubbles inside a magnet pump after the replacement of the processing liquid.
処理液の交換後に、マグネットポンプ内部に気泡が残存しないように処理液を交換することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The liquid feeding apparatus includes a liquid feed mechanism 80 for feeding resist liquid (processing liquid) to a slit nozzle 41, which is equipped with a resist pump 81 and a driving mechanism 82.
スリットノズル４１に対してレジスト液（処理液）を送液する送液機構８０に、レジストポンプ８１と駆動機構８２とを設ける。 - 特許庁
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