To provide a processing method using a liquid which prevents undissolved components contained in a process liquid from adhering to a substrate such as semiconductor wafer to be processed and reduces the residual liquid of the process liquid in processing the substrate, etc., with the liquid. 半導体ウエハ等の基板を液処理する際に、基板上への処理液に含まれる不溶解物のウエハへの付着を防止しつつ、処理液の残渣を低減する液処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal panel processing apparatus capable of saving energy in liquid crystal panel processing by speedily heating a liquid crystal panel and efficiently separating liquid crystal from the liquid crystal panel. 液晶パネルの加熱を迅速に行うことで液晶パネル処理の省エネルギー化を実現でき、また液晶パネルから効率よく液晶を分離することができる液晶パネル処理装置を提供する。 - 特許庁
This photosensitive material processing device 10 has a processing tank for processing the photosensitive materials 20, a circulating pump for circulating the processingliquid in this processing tank and filters 56 disposed on the processingliquid inflow side of the circulating pump. 感光材料処理装置10は、感光材料20を処理する処理槽と、この処理槽の中の処理液を循環させる循環ポンプと、循環ポンプの処理液流入側に設けられたフィルタ56と、を有する。 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID DROPLET JET HEAD, AND LIQUID DROPLET JET DEVICE 基板の加工方法、液滴吐出ヘッドの製造方法および液滴吐出装置 - 特許庁
To provide a liquid sucking sheet excellent in sucking property of a liquid and excellent in folding processing property. 液の吸い上げ性に優れ、かつ折り加工性に優れた液吸い上げ材を提供する。 - 特許庁
To control a manufacturing cost of a liquid crystal display by reducing the amount of processingliquid. 処理液量を削減することにより、液晶表示装置の製造コストを抑制する。 - 特許庁
MAINTENANCE METHOD OF LIQUID EJECTOR, LIQUID EJECTOR, PRINTER AND MEDIUM PROCESSING APPARATUS 液体吐出装置のメンテナンス方法、液体吐出装置、印刷装置及びメディア処理装置 - 特許庁
APPARATUS FOR PRODUCING SMOKE LIQUID, SMOKE LIQUID AND METHOD FOR PROCESSING FRESH MARINE FISH AND SHELLFISH USING THE SAME くん液生成装置及びくん液並びにくん液による生鮮魚介類加工法 - 特許庁
METHOD FOR ALIGNMENT PROCESSING OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL BY ION BEAM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL イオンビームによる液晶表示パネルの配向処理方法及び液晶表示パネル - 特許庁
To provide a processingliquid discharge nozzle capable of controlling processing size variance of a substrate to be processed when various processing is performed by jetting processingliquid to the substrate to be processed from the processingliquid discharge nozzle, a processing method for the substrate to be processed, and a photomask manufactured by using the processingliquid discharge nozzle and the processing method for the substrate to be processed. 被処理基板に対し処理液吐出ノズルから処理液を噴射して各種処理を行う際、被処理基板の処理寸法バラツキを制御できる処理液吐出ノズル及び被処理基板の処理方法並びに処理液吐出ノズル及び被処理基板の処理方法を用いて作製したフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁
LIQUIDPROCESSING DEVICE AND INKJET RECORDING APPARATUS HAVING THE SAME 液体処理装置、およびこれを備えたインクジェット記録装置 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR COOLING THERMALLY PROCESSINGLIQUID 熱加工液冷却装置および熱加工液冷却方法 - 特許庁
SIGNAL PROCESSING DEVICE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS HAVING THE SAME 信号処理装置及びこれを有する液晶表示装置 - 特許庁
To provide a new processingliquid containing a curl suppressing component. カール抑制成分を含む新規な処理液を提供する。 - 特許庁
FILTERING DEVICE AND PROCESSING DEVICE OF HIGH-VISCOSITY LIQUID FOR FINISHING MACHINE 加工機用高粘性液体の濾過装置及び加工装置 - 特許庁
LIQUID SUPPLY SYSTEM AND SYSTEM FOR PROCESSING SUBSTRATE USING IT 液体供給装置及びそれを用いた基板処理装置 - 特許庁
IMAGE PROCESSINGLIQUID AND INKJET RECORDING METHOD/DEVICE 画像処理液、インクジェット記録方法、及びインクジェット記録装置 - 特許庁
PICTURE PROCESSING METHOD AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME 画像処理方法及びそれを用いた液晶表示装置 - 特許庁
BOARD PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID JETTING HEAD 基板加工方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR SIMULTANEOUS OPTICAL PROCESSING OF LIQUID AND GAS AND DEVICE THEREFOR 液体及び気体の同時光処理方法及び装置 - 特許庁
The processingliquid cooled by the heat exchanger S2 is returned to the processingliquid tank TB through piping 23 and 25. 簡易式熱交換器S2により冷却された処理液は、配管23,25を通して処理液タンクTBに戻される。 - 特許庁
The processingliquid feeder 3 feeds a water-soluble processingliquid H to the rolling dies 11, 12 through a feeding system 22. 加工液供給装置3は、その液供給系統22により水溶性加工液Hを各ロールダイス11,12に供給する。 - 特許庁
The substrate W is immersed in cleaning liquid stored in a cleaning tank 6 in a liquidprocessing part 2 of the substrate processing apparatus 1. 基板処理装置1の液処理部2において洗浄槽6に貯留された洗浄液に基板Wを浸す。 - 特許庁
To solve a problem wherein a processingliquid is collected in ring shape at both ends of a roller for applying the processingliquid and is scattered by the rotation of the roller. 処理液を塗布するローラの両端部に処理液がリング状に溜まり、ローラの回転によって飛び散る。 - 特許庁
CLOTH TRACTION DEVICE OF LIQUID FLOW PROCESSING APPARATUS FOR CLOTH 布帛の液流式処理装置における布帛牽引装置 - 特許庁
A reciprocating pump 30 is interposed on a line 22 (23) for draining the processingliquid from the processingliquid reservoir tank 20. 処理液貯留槽20から処理液を引き抜くためのライン22(23)には往復動ポンプ30が介設されている。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING MIST OF STERILIZATION LIQUID IN PLASTIC CONTAINER プラスチック容器の殺菌液ミストの処理方法および装置 - 特許庁
The ink and the processingliquid are mixed and react with each other on papers. インクと処理液は用紙上で混合して反応する。 - 特許庁
The processingliquid includes water-soluble resin including acid group. 処理液は酸性基を含有する水溶性樹脂を含む。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR METERING COATING LIQUID WITH PROCESSING MACHINE 加工機械でコーティング液を調量する方法および装置 - 特許庁
IMAGE PROCESSING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME 画像処理方法及びそれを用いた液晶表示装置 - 特許庁
DEVICE FOR PREPARING PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSINGLIQUID AND STORAGE CONTAINER 感光材料処理液調製装置および収納容器 - 特許庁
IMAGE PROCESSING METHOD AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE EMPLOYING THE SAME 画像処理方法及びそれを用いた液晶表示装置 - 特許庁
To restrict the consumption volume of a treatment liquid in a batch processing. バッチ処理における処理液の消費量を抑制する。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT PROCESSING 液晶配向処理装置及び液晶配向処理方法 - 特許庁
SLURRY SCATTERING PREVENTING SHIELD USED FOR LIQUID HONING PROCESSING 液体ホーニング加工に用いるスラリー飛散防止用遮蔽具 - 特許庁
LUBRICATED STEEL SHEET AND PROCESSINGLIQUID FOR FORMING LUBRICATIVE MEMBRANE 潤滑処理鋼板および潤滑皮膜形成用処理液 - 特許庁
WASTE LIQUID RECOVERY DEVICE IN PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL PROCESSING MACHINE 写真感光材料処理機における廃液回収装置 - 特許庁
The substituting liquid used for the replacing stage has less surface tension than the processingliquid and has the same density as the processingliquid. 置換する工程に用いられる置換液は、処理液の表面張力よりも小さい表面張力を有し、かつ、処理液の密度と同一の密度を有する。 - 特許庁
The processingliquid container 76 has a waste liquid line 107 at the bottom and a spray nozzle 109 on a wall surface which cleans the inside of the processingliquid container. 前記処理液体格納容器76は、底部に廃液ライン107、壁面に前記処理液体格納容器内を洗浄するスプレーノズル109を有する。 - 特許庁
To save consumption of processingliquid when supplying the processingliquid such as developing liquid through horizontal scanning the supply nozzle against almost a circular substrate. 略円形の基板に対し供給ノズルを水平にスキャンさせて処理液例えば現像液の供給を行うにあたり、処理液の省量化を図ること。 - 特許庁
Material is so selected for a guide plate disposed on the liquid surface of a development processingliquid L in such a manner that the friction angle of the development processingliquid L attains ≥40°. 現像処理液Lの液面に設けられた案内板は、現像処理液Lの摩擦角が40°以上となるように材料が選択されている。 - 特許庁
To surely supply a development processingliquid of the necessary for a development processing tank. 現像処理槽に対して必要とする量の現像処理液を確実に供給する。 - 特許庁