「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 85 86 次へ＞- APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE AND METHOD OF EXCHANGING PROCESS LIQUID THEREOF
基板処理装置及びその処理液交換方法 - 特許庁 - This method for treating waste photographic processing liquid comprises the steps of physicochemically oxidizing the waste photographic processing liquid having ≥0.5 g/L total nitrogen quantity, decreasing a sulfate ion in the physicochemically oxidized waste photographic processing liquid and biologically treating the sulfate ion-decreased waste photographic processing liquid.
全窒素量が０．５ｇ／Ｌ以上の写真廃液に物理化学的酸化処理を施し、ついで硫酸イオン低減処理を施し、さらに生物処理を施すことを特徴とする写真廃液の処理方法。 - 特許庁 - When the temperature of the processing liquid drops to a previously-set predetermined value N1 or below, the processing liquid in the processing liquid tank TB is returned to the processing liquid tank TB through the piping 18, 19 and 21 by the operation of the pump P2.
処理液の温度が予め定められた規定値Ｎ１以下になると、処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２１を通して処理液タンクＴＢに戻される。 - 特許庁 - SYSTEM FOR AUTOMATICALLY PREPARING LIQUID FOR PROCESSING PRINT SURFACE
印刷用表面加工材料自動調液システム - 特許庁 - A processing liquid supply pipe 41 for supplying a processing liquid into the internal tank 40, and a processing liquid discharging pipe 42 for discharging the processing liquid in the internal tank 40, are connected to the bottom of the internal tank 40.
内槽４０の底部には、内槽４０内に処理液を供給するための処理液供給管４１および内槽４０内の処理液を排出するための処理液排出管４２が接続されている。 - 特許庁 - LIQUID FEEDING APPARATUS AND LIVING BODY STRUCTURE PROCESSING APPARATUS
液体供給装置および生体組織処理装置 - 特許庁 - When a trouble is generated in a processing liquid supplying source 30 during the supply of processing liquid to a tank T1, the supply of the processing liquid is interrupted, without the processing liquid in the tank T1 has reaching a prescribed supply stop line.
タンクＴ１への処理液供給中に処理液供給源３０にトラブルが発生した場合、タンクＴ１内の処理液が所定の供給停止ラインに到達することなく、処理液供給が中断される。 - 特許庁 - DISPLAY SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
表示信号処理装置および液晶表示装置 - 特許庁 - LIQUID SUPPLY DEVICE, LIQUID DISCHARGE DEVICE, AND DEW CONDENSATION PREVENTION PROCESSING METHOD
液体供給装置及び液体吐出装置並びに結露防止処理方法 - 特許庁 - The cleaning processing liquid of a cleaning processing liquid tank 28 is poured into a cleaning tank 44 after the waste liquid is discharged, and stored into the cleaning tank 44.
廃液吐出後、洗浄処理液タンク２８の洗浄処理液を洗浄槽４４へ注ぎ込み、洗浄槽４４に貯留させる。 - 特許庁 - The equipment is provided with a liquid chemical switching section 21 to change over the liquid chemicals to be supplied to the liquid chemical processing tank 12.
薬液切替部２１を設けて、薬液処理槽１２に供給する薬液を切り換える。 - 特許庁 - This can prevent the processing liquid sticking to the inside surface of the spin cup 22 from flying up like mist and sticking to the substrate 12, during the processing using the processing liquid.
スピンカップ22の内面に付着した薬液が乾燥処理時にミスト状に巻き上がり基板12に付着することを防止できる。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of restraining a generation of a new particle even if alkaline processing liquid and acid processing liquid are used.
アルカリ性処理液及び酸性処理液を用いても、新たなパーティクルの発生を抑制し得る基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - The tank unit 18 has a processing tank 20 for storing developing processing liquid, and the processing tank 20 is provided with a liquid level detection part 32.
タンクユニット１８は現像処理液を収容する処理タンク２０を有し、処理タンク２０には液面検出部３２が設けられる。 - 特許庁 - To provide a water-soluble silicone processing liquid that can suppress generation of hydrogen by reaction of silicone and a processing liquid during processing of silicone.
シリコンの加工において、シリコンと加工液との反応による水素の発生を抑制できる水溶性シリコン加工液を提供すること。 - 特許庁 - FRACTIONAL RECOVERY SYSTEM OF LIQUID FOR PROCESSING SUBSTRATE, PROCESSING SYSTEM OF SUBSTRATE EQUIPPED WITH THAT SYSTEM, AND FRACTIONAL RECOVERY METHOD OF LIQUID FOR PROCESSING SUBSTRATE
基板の処理液の分別回収装置及び該装置を備えた基板の処理装置、並びに基板の処理液の分別回収方法 - 特許庁 - Subsequently, a processing liquid having a molecule density below the molecule density threshold is selected as a processing liquid capable executing processing with respect to a substrate.
続いて、分子密度が分子密度閾値以下の選定処理液を基板に対する処理を実行可能な処理液として選定する。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment which can control generation of new particles even if alkaline processing liquid and acid processing liquid are used.
アルカリ性処理液及び酸性処理液を用いても、新たなパーティクルの発生を抑制し得る基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - METHOD FOR RE-PROCESSING LIQUID DROPLET DELIVERING HEAD, METHOD FOR USING LIQUID DROPLET DELIVERING APPARATUS, LIQUID DROPLET DELIVERING HEAD AND LIQUID DROPLET DELIVERING APPARATUS
液滴吐出ヘッドの再加工方法、液滴吐出装置の使用方法、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置 - 特許庁 - The invention relates to the method for processing liquid food comprising addition of an impact liquid pressure onto the liquid food for extinction of organisms in the liquid food.
液状食品に衝撃液圧を加えることにより液状食品中の生物を死滅させることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method for restraining splash of the processing liquid when the processing liquid is supplied and for preventing entering of the processing liquid to an aperture not opposing to the end surface of substrate.
処理液供給時における処理液の飛び跳ねを抑制し、基板の端面に対向していない開口部への処理液の飛入を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, since the auxiliary liquid replacement processing ex-b and the regular liquid replacement processing ex can be prevented from being executed in a short time, wasteful use of the processing liquid can be prevented even if the processing includes the auxiliary liquid replacement processing ex-b.
したがって、付随液交換処理ｅｘ−ｂと定期液交換処理ｅｘが短時間のうちに行われることが防止できるので、処理に付随液交換処理ｅｘ−ｂがある場合であっても処理液の浪費を防止できる。 - 特許庁 - DEVELOPED RESIST SUBSTRATE PROCESSING LIQUID AND METHOD OF PROCESSING RESIST SUBSTRATE USING THE SAME
現像済みレジスト基板処理液とそれを用いたレジスト基板の処理方法 - 特許庁 - IMAGE PROCESSOR, IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGE PROCESSING PROGRAM AND LIQUID DROPLET EJECTION APPARATUS
画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラム、及び液滴吐出装置 - 特許庁 - PRODUCTION APPARATUS AND PRODUCTION METHOD OF PROCESS LIQUID, PROCESSING EQUIPMENT AND PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE
処理液の製造装置、製造方法及び基板の処理装置、処理方法 - 特許庁 - METHOD FOR DEVELOPMENT PROCESSING OF SUBSTRATE, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE AND DEVELOPING LIQUID SUPPLY NOZZLE
基板の現像処理方法，基板の処理方法及び現像液供給ノズル - 特許庁 - PROCESSING LIQUID, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR PROCESSING USING THE SAME
加工液およびその製造方法ならびにその加工液を用いた加工方法 - 特許庁 - PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL PROCESSING SYSTEM INCLUDING WASHING LIQUID RECOVERING EQUIPMENT AND PROCESSING METHOD
水洗液回収装置を含む写真感光材処理システム及び処理方法 - 特許庁 - DATA PROCESSOR, DATA PROCESSING METHOD, DATA PROCESSING PROGRAM, AND LIQUID DROPLET DISCHARGE DEVICE
データ処理装置、データ処理方法、データ処理プログラム、及び液滴吐出装置 - 特許庁 - PROCESSING METHOD AND PROCESSING DEVICE FOR RADIOACTIVE WASTE LIQUID INCLUDING SURFACTANT
界面活性剤を含む放射性廃液の処理方法及びその処理装置 - 特許庁 - To provide a processing system and a processing method capable of improving safety and productivity, in automatically determining that a processing liquid reservoir tank is empty when a liquid is actually runs out in the processing liquid reservoir tank and the processing liquid is not supplied to a line for draining the processing liquid from the processing liquid reservoir tank, thereby supplying the processing liquid drained from the processing liquid reservoir tank to a workpiece.
処理液貯留槽において実際に処理液がなくなり、この処理液貯留槽から処理液を引き抜くためのラインに処理液が流れなくなった場合において、当該処理液貯留槽が空状態であることを自動的に判定することができ、このことにより、処理液貯留槽から引き抜かれた処理液を被処理体に供給するような処理において安全性や生産性の向上を図ることができる処理システムおよび処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing liquid feeder and a method for feeding a processing liquid for correcting a component concentration of a processing liquid without considerably damaging productivity.
生産性を著しく損なうことなく、処理液の成分濃度を補正することができる処理液供給装置および処理液供給方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing liquid supplying device which eliminates the possibility of the early deterioration of a processing liquid by preventing the oxidation of the processing liquid stored in replenishing tanks equipped with a plurality of piping for supplying the processing liquid to the replenishing tanks and a stirring member 81 for stirring the processing liquid to a uniform state.
処理液を補充タンクに供給するための複数の配管と、処理液を均一状態に攪拌するための攪拌部材を備えた補充タンクに貯められる処理液の酸化防止を図り、処理液の早期劣化の虞をなくした処理液供給装置の提供。 - 特許庁 - In this manufacturing method, the whole coating of the processing liquid at a coating roller part 15 and the selective giving of the processing liquid in response to image data by a processing liquid discharging head 16 are properly employed in combination.
塗布ローラ部１５による処理液の全体的塗布と、処理液吐出ヘッド１６による画像データに応じた処理液の選択的付与とを適切に併用する。 - 特許庁 - The substrate processor comprises a processing unit 6 for processing a substrate W with a process liquid; and a process liquid supplying part 25 for supplying the process liquid to the processing unit 6.
基板処理装置は、処理液で基板Ｗを処理するための処理ユニット６と、この処理ユニット６に処理液を供給する処理液供給部２５とを含む。 - 特許庁 - To prevent the contact of liquid with air by preventing a tank in which processing liquid for photographic paper is reserved from being deformed by liquid pressure in a photosensitive material processing device for processing the photographic paper.
印画紙を処理する感光材料処理装置において、印画紙の処理液が貯留される槽の液圧による変形を防止して液と空気との接触を防止する。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING OBJECT WITH LIQUID
流体で物品を処理するためのシステム及び方法 - 特許庁 - TRANSMISSION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND PICTURE PROCESSING METHOD
透過型液晶表示装置および画像処理方法 - 特許庁 - DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID, AND PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL
現像処理液及び感光性平版印刷版材料 - 特許庁 - LIQUID PRODUCING APPARATUS, PROCESSING APPARATUS, AND SURFACE MACHINING APPARATUS
液体製造装置、処理装置および表面加工装置 - 特許庁 - LIQUID SUPPLYING DEVICE, PRINTING APPARATUS AND MEDIUM PROCESSING APPARATUS
液体供給装置、印刷装置及びメディア処理装置 - 特許庁 - PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR RADIOACTIVE WASHING LIQUID WASTE
放射性洗濯廃液の処理方法および処理装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING LIQUID CRYSTAL PANEL
液晶パネル処理装置及び液晶パネル処理方法 - 特許庁 - SECONDARY SLIME PROCESSING METHOD BY PARTIAL SUBSTITUTION OF STABILIZED LIQUID
安定液の部分置換による二次スライム処理方法 - 特許庁 - CLEANING LIQUID FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE
ホトリソグラフィー用洗浄液および基板の処理方法 - 特許庁 - LIQUID PROCESSING APPARATUS AND WASHING METHOD OF THE SAME
液処理装置および液処理装置の洗浄方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND PROCESS LIQUID COMPONENT REFILLING METHOD
基板処理装置および処理液成分補充方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD, LIQUID CUTTING MIST-KNIFE
基板の処理装置及び処理方法、液切りミストナイフ - 特許庁 - ANAEROBIC BIOLOGICAL PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR ORGANIC WASTE LIQUID
有機排液の嫌気性生物処理装置および方法 - 特許庁 - METHOD OF REUSING PHOTOGRAPHIC LIQUID PROCESSING COMPOSITION STORAGE CONTAINER
写真用液体処理組成物容器の再使用方法 - 特許庁
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