「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 85 86 次へ＞- By installing a sealing body 50 which floats up in accordance with a change in the liquid level L of the processing liquid on the liquid level position of a processing liquid in a processing tank, evaporation of water from the liquid level of the processing liquid and a phenomenon that the liquid is oxidized when the liquid level comes in contact with the air are prevented.
処理槽の処理液の液面位置に、処理液の液面レベルＬの変化に追従して浮揚するシール体５０を配置することにより、処理液の液面からの水分の蒸発と、この液面が空気と接触して酸化する現象を阻止する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of holding processing liquid atmosphere within a processing liquid guide member, and suppressing or preventing flowing-out of the processing liquid atmosphere from the processing liquid guide member.
処理液案内部材の内方に処理液雰囲気を保持することができ、処理液案内部材外への処理液雰囲気の流出を抑制または防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - As a result, the stream of the processing liquid in a processing liquid supply pipe 5 is cut-off to stop the discharge of the processing liquid from the nozzle 3.
これにより、処理液供給配管５内の処理液の流通が阻止され、ノズル３からの処理液の吐出が停止される。 - 特許庁 - Processing liquid feedback piping 12 is branch-connected to a branch part J1, and the processing liquid feedback piping 12 is led to the processing liquid tank 5.
分岐部Ｊ１には処理液帰還配管１２が分岐接続され、処理液帰還配管１２は処理液タンク５に導かれている。 - 特許庁 - The magnetic field producing body is arranged in a circulation path for circulating the processing liquid between a stabilization processing liquid tank and a processing liquid supply subtank.
磁場発生体は、安定処理液タンクと処理液供給サブタンクとの間で処理液を循環させる循環路などに設ける。 - 特許庁 - TWO-FLUID NOZZLE, SUBSTRATE LIQUID PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM, IN WHICH SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM IS RECORDED
２流体ノズル、基板液処理装置、基板液処理方法、及び基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁 - If it is decided as not being a proper processing liquid, a processing liquid conditioning section 3 dissolves nitrogen gas in the processing liquid.
処理液が適正処理液でないと判断された場合には、処理液調整部３において処理液に窒素ガスを溶解させる。 - 特許庁 - The substrate processing system 1 includes a substrate processing device 12, a processing liquid regenerating device 30 and a new liquid supply device 70.
基板処理システム1は、基板処理装置12、処理液再生装置30及び新液供給装置70を備える。 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE AND DEVICE FOR CONTROLLING CONCENTRATION OF PROCESSING LIQUID
基板処理装置および基板処理方法ならびに処理液の濃度管理装置 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND COLOR PROCESSING METHOD
液晶表示装置および色処理方法 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ITS PROCESSING METHOD
液晶表示装置及びその処理方法 - 特許庁 - To remove foreign matters mixed to processing liquid in a processing liquid storage unit from the processing liquid storage unit without using a waste tank for recovering the foreign matters in the processing liquid.
処理液中の異物を回収する廃タンクを用いずに、処理液貯留部内の処理液中に混入した異物を処理液貯留部から除去することを課題とする。 - 特許庁 - MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF PROCESSING LIQUID
処理液の製造装置及び製造方法 - 特許庁 - PRODUCTION OF SPRAY PIPE FOR DISCHARGING PROCESSING LIQUID
処理液吐出用スプレーパイプの製造方法 - 特許庁 - LIQUID-WEIGHING APPARATUS AND SUBSTRATE-PROCESSING APPARATUS
液体秤量装置及び基板処理装置 - 特許庁 - GLASS BEAD FOR PROCESSING HIGH-LEVEL RADIOACTIVE WASTE LIQUID
高レベル放射性廃液処理用ガラスビーズ - 特許庁 - SIGNAL PROCESSING DEVICE AND LIQUID-DROPLET EJECTION DEVICE
信号処理装置及び液滴吐出装置 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID APPLICATION DEVICE AND IMAGE FORMING APPARATUS
処理液塗布装置及び画像形成装置 - 特許庁 - SIGNAL PROCESSING BOARD AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY
信号処理基板および液晶表示装置 - 特許庁 - IMAGE FORMING APPARATUS AND PROCESSING LIQUID COATING APPARATUS
画像形成装置及び処理液塗布装置 - 特許庁 - LIQUID PROCESSING APPARATUS AND PROCESS OF SUBSTRATE
基板の液処理装置及び液処理方法 - 特許庁 - EDGE PROTECTING PROCESSING METHOD FOR PAPER CONTAINER FOR LIQUID
液体用紙容器のエッジプロテクト加工方法 - 特許庁 - DISCHARGE ELECTRODE AND LIQUID PLASMA PROCESSING APPARATUS
放電電極および液体プラズマ処理装置 - 特許庁 - COATING PROCESSING DEVICE AND COATING LIQUID EJECTION METHOD
塗布処理装置および塗布液吐出方法 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
画像処理回路及び液晶表示装置 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DRIPPING DEVICE AND PROCESSING METHOD IN THE LIQUID CRYSTAL DRIPPING DEVICE
液晶滴下装置及び該液晶滴下装置での処理方法 - 特許庁 - LIQUID SUPPLY DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND LIQUID SUPPLY METHOD
液体供給装置、基板処理装置および液体供給方法 - 特許庁 - The IO chip 9 performs the image processing using an LCDC (Liquid Crystal Display Controller).
ＩＯチップ９は、ＬＣＤＣ（Liquid Crystal Display Controller）を用いて画像処理を行う。 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING DECANTER LIQUID INTO LIQUID FERTILIZER USING SUPER DEEP LAYER AERATING TANK
超深層曝気槽を用いたデカンター汁液の液肥化処理方法 - 特許庁 - The substrate processing device 12 includes a storage tank 11 for storing the processing liquid, a processing tank 13 for supplying the processing liquid onto the substrate K to process it, a conveying mechanism 14 for conveying the substrate K, and a processing liquid supply mechanism 20 for supplying the processing liquid L to the processing tank 13 to reflux the processing liquid L in the processing tank 13 to the storage tank 11.
基板処理装置12は、処理液を貯留する貯留槽11と、基板K上に処理液を供給して処理する処理槽13と、基板Kを搬送する搬送機構14と、処理液Lを処理槽13に供給し、処理槽13内の処理液Lを貯留槽11に還流させる処理液供給機構20とを備える。 - 特許庁 - A chemical liquid processing is carried out by charging up chemical liquid on a substrate from a chemical liquid nozzle 5.
薬液ノズル５から基板上に薬液を液盛りして薬液工程が行われる。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method that can prevent a processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and thereby can prevent the processing liquid from being attached to the rear surface of the substrate after the liquid processing.
基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止し、このことにより液処理後の基板の裏面に処理液が付着することを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁 - To improve processing performance of a processing liquid and to improve an agitation property when immersing a photosensitive material in the processing liquid stored in a processing tank and processing it.
感光材料を処理槽に貯留している処理液に浸漬して処理する時の、処理液の処理性能の向上及び攪拌性の向上を図る。 - 特許庁 - To provide a liquid processing system in which liquid component can be recovered efficiently from processing liquid in mist/liquid mixture state while preventing mist from being liquefied in an exhaust duct, and a liquid processing method employing the liquid processing system.
ミスト／液体混合状態にある処理液から効率よく液体成分を回収し、排気ダクト内でのミストの液化を防止することができる液処理装置と、この液処理装置を用いた液処理方法を提供する。 - 特許庁 - The bulb permits supply of the cleaning liquid from cleaning liquid piping 12 to the processing liquid tank 3, and inhibits supply of the processing liquid from processing liquid piping 11 to the processing liquid tank 3 while the lever 19 is lodged to the other side.
一方、レバー１９を他方側に倒伏させた状態で、洗浄液配管１２から処理液タンク３への洗浄液の供給を許可し、処理液配管１１から処理液タンク３への処理液の供給を阻止する。 - 特許庁 - The processing liquid coating device 200 has a coating roller 232 for coating the processing liquid to a recording medium, the squeeze roller 250 for feeding the processing liquid to the coating roller, and the liquid chamber 206 for holding the processing liquid and for feeding the liquid to the squeeze roller.
処理液塗布装置２００は、記録媒体に処理液を塗布する塗布ローラ２３２と、塗布ローラに処理液を供給するスクイーズローラ２５０と、処理液を保持し前記スクイーズローラに液を供給する液室２０６とを有している。 - 特許庁 - To provide a liquid processing device including a plurality of liquid processing parts having substrate holding parts arranged in a lateral direction in a straight line and a processing liquid nozzle shared by the liquid processing parts which can prevent processing liquid from dripping from the processing liquid nozzle onto the substrate in order to restrain yield reduction.
横方向に一列に配置された基板保持部を備えた複数の液処理部と、これら液処理部に対して共用化された処理液ノズルと、を備えた液処理装置において、前記処理液ノズルからの基板への処理液の落下を抑え、歩留りの低下を防ぐこと。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of preventing a mixture of another kind of processing liquid into a processing liquid to be recovered when the processing liquid used for processing of a substrate is recovered.
基板の処理に用いた処理液を回収する場合に、その回収される処理液への他の種類の処理液の混入を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - TIMBER PROCESSING LIQUID BY CURABLE OLIGOMER AND ITS PROCESSING METHOD
硬化性低重合物による木材処理液とその処理方法 - 特許庁 - To prevent occurrence of dew condensation on a processing liquid nozzle, and to uniformly perform processing in a substrate surface, in a processing process using a low-temperature processing liquid.
低温の処理液を用いた処理処理において、処理液ノズルの結露の発生を防止し、処理を基板面内で均一に行う。 - 特許庁 - OPTICAL MASTER DISK PROCESSING LIQUID, AND METHOD OF PROCESSING OPTICAL MASTER DISK
光ディスク原盤処理液及び光ディスク原盤の処理方法 - 特許庁 - PROCESSING DEVICE FOR SENSITIVE MATERIAL AND OXIDATION PROMOTING METHOD FOR PROCESSING LIQUID
感光材料の処理装置及び処理液の酸化促進方法 - 特許庁 - Fine particles are mixed in a processing liquid for processing a thin film.
薄膜を加工するための処理液中に微粒子を混入する。 - 特許庁 - METHOD FOR SUPPLYING CONCENTRATED LIQUID PROCESSING COMPOSITION FOR COLOR PHOTOGRAPHIC PROCESSING
カラー写真処理用濃厚液体処理組成物の供給方法 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND INFORMATION PROCESSING DEVICE
液晶表示装置および情報処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY SUBSTRATE
液晶表示体基板用プラズマ処理装置 - 特許庁 - To prevent the liquid from splashing up the stream, which becomes a problem in a liquid film processing before shower processing.
シャワー処理に先立つ液膜処理で問題となる上流側への液飛散を防止する。 - 特許庁 - RESIST LIQUID SUPPLY DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
レジスト液供給装置及び基板処理システム - 特許庁 - PROCESSING METHOD FOR CHEMICAL DECONTAMINATION LIQUID AND ITS SYSTEM
化学除染液処理方法およびその装置 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID TEMPERATURE CONTROL METHOD AND APPARATUS
処理液の温度制御方法及びその装置 - 特許庁
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