「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 85 86 次へ＞- To solve the following problems: processing liquid remains in a ring-like state at each end portion of a roller for applying the processing liquid, then, the processing liquid scatters and drops down with the rotation of the roller.
処理液を塗布するローラの両端部に処理液がリング状に溜まり、ローラの回転によって飛び散り、液だれを生じる。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus capable of uniformly feeding processing liquid over the whole surface of a wafer.
ウェハ表面全体に均一に処理液を供給できる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which enable efficient liquid processing to be performed on a surface of a substrate while holding the substrate securely.
確実な基板保持を実現しつつ、基板表面を効率的に液処理可能な液処理装置及び液処理方法を提供する。 - 特許庁 - APPARATUS FOR APPLYING PROCESSING LIQUID, AND APPARATUS FOR RECORDING IMAGE
処理液塗布装置および画像記録装置 - 特許庁 - To provide a means for surely preventing a type of processing liquid from being erroneously selected in exchange of processing liquid container of a processing liquid supply device.
処理液供給装置の処理液容器の交換時における処理液の種別の取り違えを確実に防止する手段を提供する。 - 特許庁 - DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID MANAGEMENT SYSTEM AND MEASURING INSTRUMENT
現像処理液管理システム、及び、測定装置 - 特許庁 - LIQUID JETTING APPARATUS AND INFLOW PROCESSING METHOD
液体噴射装置、及び、流入処理方法 - 特許庁 - DIGITAL VIDEO SIGNAL PROCESSING DEVICE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY
液晶ディスプレイのデジタルビデオ信号処理装置 - 特許庁 - To obtain a processing liquid production system for producing processing liquid with exact concentration through a simple arrangement.
正確な濃度で処理液を製造できる簡単な構成の処理液製造装置の実現。 - 特許庁 - DEVELOPMENT APPARATUS, LIQUID PROCESSING APPARATUS, AND DEVELOPMENT METHOD
現像装置、液処理装置及び現像方法 - 特許庁 - The processing liquid feed device 21 has a supersonic vibrator 34 as a liquid-spraying part for making fog from the processing liquid.
加工液供給装置２１は、加工液を霧状にする霧状化部としての超音波振動子３４を有している。 - 特許庁 - LIQUID SUPPLY DEVICE AND LIQUID SUPPLY METHOD, SUBSTRATE PROCESSING FACILITY HAVING LIQUID SUPPLY DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
液供給装置及び液供給方法、液供給装置を有する基板処理設備、ならびに基板処理方法 - 特許庁 - To provide a processing liquid replenishing tank which is capable of surely recovering the processing liquid leaking to the upper part of a tank body when stirring the processing liquid and a development processing device for a photographic sensitive material having the processing liquid replenishing tank.
処理液を攪拌するときにタンク本体上部に漏出する処理液を確実に回収できる処理液補充タンクと、この処理液補充タンクを備えた写真感光材料の現像処理装置を提供する。 - 特許庁 - LIQUID SUPPLY METHOD AND LIQUID SUPPLY DEVICE IN PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE
感光材料処理装置の液供給方法及び液供給装置 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING METHOD AND APPARATUS FOR LIQUID COATING, AND LIQUID COATING APPARATUS
液体塗布物の画像処理方法及び装置、並びに液体塗布装置 - 特許庁 - ORIENTATION PROCESSING BOARD FOR FERROELECTRIC LIQUID CRYSTAL, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
強誘電性液晶用配向処理基板および液晶表示素子 - 特許庁 - MEMBER FOR LIQUID CHROMATOGRAPHY, AND PROCESSING METHOD BY LIQUID CHROMATOGRAPHY
液体クロマトグラフィー用部材、及び液体クロマトグラフィーによる処理方法 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus capable of washing deposit inside a processing chamber and a washing method of the liquid processing apparatus.
処理室内の付着物を洗浄可能な液処理装置および液処理装置の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁 - The processing liquid is force fed by a processing liquid replenishing system which is equipped with a pump to the photosensitive planographic printing plate processing apparatus.
ポンプを備えた処理液補充装置によって処理液を感光性平版印刷版処理装置へ圧送する - 特許庁 - Processing liquid replacing means 72 to replace the processing liquid stored in the processing space 74 are provided in the housing 42.
ハウジングには、処理空間内に貯留された処理液を交換するための処理液交換手段７２を設ける。 - 特許庁 - A manual switching bulb 13 is connected to processing liquid piping 11 for supplying sulfuric acid as a processing liquid to a processing liquid tank 3, and cleaning liquid piping 12 for supplying pure water as a cleaning liquid to the processing liquid tank 3.
処理液としての硫酸を処理液タンク３に供給するための処理液配管１１と、洗浄液としての純水を処理液タンク３に供給するための洗浄液配管１２とに、手動式切替バルブ１３が介装されている。 - 特許庁 - WOODY PLATE AND LIQUID-PROOF PROCESSING METHOD OF WOODY PLATE
木質板及び木質板の耐液処理方法 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID CONTAINER LOADING MECHANISM FOR PHOTOGRAPH PROCESSOR
写真処理装置の処理液容器装填機構 - 特許庁 - FLUID HEATING DEVICE AND PROCESSING LIQUID DISCHARGE MECHANISM
流体加熱装置および処理液吐出機構 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING LIQUID MATERIAL
液状原料の処理装置および処理方法 - 特許庁 - LIQUID CONSUMING APPARATUS, RECORDING APPARATUS, AND MEDIA PROCESSING APPARATUS
液体消費装置、記録装置、メディア処理装置 - 特許庁 - DISPLAY DATA PROCESSING CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY
表示データ処理回路及び液晶表示装置 - 特許庁 - LIQUID REPELLING PROCESSING METHOD FOR NOZZLE PLATE AND HEAD UNIT
ノズルプレートの撥液処理方法およびヘッドユニット - 特許庁 - To provide a liquid processing method and a liquid processing apparatus which prevent a process liquid from remaining on a substrate and reduce the processing time when rinse treatment is performed on the substrate after processing the substrate with the process liquid.
処理液により処理した後、基板をリンス処理する際に、処理液が基板に残留することを防止でき、処理時間を短縮できる液処理方法及び液処理装置を提供する。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD AND APPARATUS FOR LIQUID FOR USE IN AGRICULTURE
農業用液体の処理方法および装置 - 特許庁 - EXCESS LIQUID GUIDE STRUCTURE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING UNIT
感光材料処理装置用溢液案内構造 - 特許庁 - CHEMICAL LIQUID AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE SAME
薬液及びそれを用いた基板処理方法 - 特許庁 - A liquid processing apparatus processes the workpiece W.
液処理装置は被処理体Ｗを処理する。 - 特許庁 - INSIDE PLUG OF PHOTOGRAPHIC PROCESSING COMPOSITION CONTAINER FOR PHOTOGRAPHIC LIQUID
写真用液体処理組成物容器の中栓 - 特許庁 - CONTINUOUS PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR LIQUID SUBSTANCE
液状物質の連続処理方法及び装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PROCESSING LIQUID FOOD
液状食品の処理方法および処理装置 - 特許庁 - MOLD SURFACE PROCESSING METHOD BY FLUORORESIN DISPERSION LIQUID
フッ素樹脂分散液による型面加工方法 - 特許庁 - LIQUID RESIN COATING DEVICE AND LASER PROCESSING DEVICE
液状樹脂被覆装置およびレーザー加工装置 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR SUPPLYING GAS-DISSOLVED LIQUID AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE
基板処理装置とガス溶解液供給方法と基板処理方法 - 特許庁 - HIGH DYNAMIC CONTRAST PROCESSING DEVICE AND PROCESSING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
液晶表示装置の高ダイナミックコントラスト処理装置と処理方法 - 特許庁 - A substrate processing apparatus includes a processing tank 2 in which the processing liquid 3 is accumulated and the target surface 4a of the wafer 4 is processed with the processing liquid 3.
内部に処理液３を貯留し、処理液３によりウェーハ４の被処理面４ａに対する処理が行われる処理槽２を備える。 - 特許庁 - PROCESSING DEVICE AND PROCESSING METHOD FOR HIGH DYNAMIC CONTRAST OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
液晶表示装置の高ダイナミックコントラスト処理装置と処理方法 - 特許庁 - After the waste photographic processing liquid is evaporated and concentrated to the concentrated waste photographic processing liquid, the waste liquid is evaporated and concentrated to the concentrated waste photographic processing liquid exhibiting a slurry-like form and is further concentrated and solidified to solid not containing liquid-components.
又、濃縮写真廃液まで蒸発・濃縮した後、スラリー状を呈する濃縮写真廃液まで蒸発・濃縮し、更に、液状成分を含まない固形物まで濃縮・固化する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus that can reduce the amount to be used of a processing liquid even when the used processing liquid is not reutilized by recovering the liquid.
使用済みの処理液を回収して再利用しなくても、処理液の使用量を低減させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which optimize the state of air flow above a substrate according to a process of the liquid processing.
液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a liquid processing method capable of cleanly drying a substrate surface after processing the substrate surface with a liquid, and to provide a liquid processing device.
基板表面を液処理した後に、基板表面を清浄に乾燥させることが可能な液処理方法及び液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing device with a cleaning function which is capable of cleaning adhered a processing liquid together with materials to be processed when performing liquid processing.
液処理を行う際に被液処理材料と共に処理液が付着するものを、浄化可能とした浄化機能付液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a highly reliable substrate processor capable of supplying a processing liquid from the outside of a processing room to a processing liquid supply tool in the processing room, while preventing the leakage of the processing liquid and atmosphere from the processing room and capable of transmitting rotation force from the outside of the processing room to the processing liquid supply tool in the processing room.
処理室内の処理液および雰囲気の漏洩を防止しつつ、処理室外から処理室内の処理液供給具に処理液を供給することができかつ処理室外から処理室内の処理液供給具に回動力を伝達することができる信頼性の高い基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - Prior to the processing liquid supply section 2 begins to supply processing liquid to the processing section 1, a control section 5 decides whether the processing liquid being supplied is a proper processing liquid which is less likely to cause damages to the substrate, by comparing the molecule density of the processing liquid with a threshold.
制御部５は、処理液供給部２から処理部１に対して処理液の供給を開始するに先だって、当該供給される処理液が基板にダメージを与えにくい適正処理液であるか否かを、当該処理液の分子密度の値と分子密度閾値との比較によって判断する。 - 特許庁 - A substrate processing apparatus 1 includes: a processing chamber 10 that performs processing of a substrate W by using processing liquid; and a processing liquid supplying apparatus 30 having a mixing valve 33.
基板処理装置１は、基板Ｗに対して処理液による処理を行う処理チャンバ１０と、ミキシングバルブ３３を有する処理液供給装置３０とを備えている。 - 特許庁
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