「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 85 86 次へ＞- LIQUID PROCESSING APPARATUS AND METHOD, AND LIQUID STATE DETECTOR
液処理装置、液処理方法及び液状態検出装置 - 特許庁 - To improve processing accuracy by supplying a processing liquid with liquid pressure kept unchanged, and ensure continuous processing by the processing liquid by enabling a single processing liquid storage container to be exchanged, and by continuously processing without interruption of the processing even when the processing liquid storage container becomes empty.
処理液を液圧一定に供給して処理精度の向上を図り、単一の処理液貯留容器の交換を行うことができ、処理液貯留容器が空になっても処理を止めることなく継続して処理液による連続処理を行えるようにする。 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING CIRCUIT FOR DRIVING LIQUID CRYSTAL, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND IMAGE PROCESSING METHOD FOR DRIVING LIQUID CRYSTAL
液晶駆動用画像処理回路、液晶表示装置、および液晶駆動用画像処理方法 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID TANK WALL SURFACE STRUCTURE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE
感光材料処理装置用処理液槽壁面構造 - 特許庁 - To restrain dispersion of processing liquid in a substrate processing device.
基板処理装置において処理液の飛散を抑制する。 - 特許庁 - NOZZLE DEVICE FOR PROCESSING LIQUID AND PROCESSING DEVICE USING THIS NOZZLE DEVICE
処理液用ノズル装置およびそれを用いた処理装置 - 特許庁 - RESIST HYDROPHILICIZATION PROCESSING LIQUID COMPOSITION AND PROCESSING METHOD OF THE SAME
レジスト親水化処理液組成物およびその処理方法 - 特許庁 - LIQUID FLAME-RETARDANT PROCESSING AGENT AND PROCESSING METHOD USING THE SAME
液状難燃加工剤およびそれを用いた難燃加工法 - 特許庁 - WRINGER MECHANISM OF PROCESSING LIQUID FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE
感光材料処理装置における処理液の絞り機構 - 特許庁 - APPARATUS FOR PREPARATION OF PROCESSING LIQUID AND APPARATUS FOR PROCESSING OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL
処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置 - 特許庁 - LIQUID PROCESSING APPARATUS, AND LIQUID PROCESSING METHOD, AS WELL AS COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM
液処理装置および液処理方法ならびにコンピュータ読取可能な記憶媒体 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL PROJECTOR AND IMAGE PROCESSING SYSTEM
液晶プロジェクターおよび画像処理システム - 特許庁 - CONVERSION PROCESSING SYSTEM FOR SMALL LIQUID CRYSTAL SCREEN
小型液晶画面の変換処理システム - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING LIQUID FOOD AND APPARATUS
液状食品処理方法及び装置 - 特許庁 - To provide a liquid processing device capable of arranging plural processing liquid supply parts on a rear side of a substrate, and a liquid processing method in the liquid processing device.
複数の処理液供給部を基板の裏面側に配置することが可能な液処理装置、及びこの液処理装置における液処理方法を提供する。 - 特許庁 - CART AND DEVICE FOR BIO-LIQUID PROCESSING
生体液体処理用のカート及び装置 - 特許庁 - APPARATUS FOR SUPPLYING PROCESSING LIQUID, AND COATING APPARATUS
処理液供給装置及び塗布装置 - 特許庁 - METHOD FOR DETECTING IMPURITY IN PROCESSING LIQUID
処理液中不純物の検出方法 - 特許庁 - GLASSIFICATION PROCESSING METHOD OF RADIOACTIVE WASTE LIQUID
放射性廃液のガラス固化処理方法 - 特許庁 - The apparatus may be structured so that a processing liquid S1 to be ejected from the processing-liquid ejection head 13 and a processing liquid S2 to be applied by the processing-liquid coating part 19 are different in physical properties.
処理液吐出ヘッド１３から打滴される処理液Ｓ1 と処理液塗布部１９によって塗布される処理液Ｓ2 との物性が異なるように構成してもよい。 - 特許庁 - SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM IN WHICH SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM IS RECORDED
基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁 - CHEMICAL LIQUID TANK, PRODUCTION OF CHEMICAL LIQUID TANK AND ITS PROCESSING DEVICE
薬液槽および薬液槽の製造方法並びに処理装置 - 特許庁 - LIQUID SUPPLY MEMBER, LIQUID SUPPLY PUMP,AND PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING APPARATUS
液供給部材、液供給ポンプ、感光材料処理装置 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID DROPLET EJECTING HEAD AND LIQUID REPELLENT PROCESSING UNIT
液滴吐出ヘッドの製造方法及び撥液処理装置 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT PROCESSING METHOD, LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND RUBBING CLOTH
液晶配向処理方法、液晶表示パネル及びラビング布 - 特許庁 - PHOTORESIST STRIPPING LIQUID AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE LIQUID
フォトレジスト用剥離液およびこれを用いた基板の処理方法 - 特許庁 - To provide a reliable liquid processing apparatus in which an accident occurred at a liquid processing section has little effect on other mechanisms or processing sections in the liquid processing system.
液処理部で生じた事故が液処理装置内の他の機構や処理部へ影響を及ぼし難い信頼性に優れた液処理装置を提供する。 - 特許庁 - When the processing liquid is discharged during the processing using the processing liquid, pure water is injected from a spin cup cleaning unit 26 to clean the processing liquid which stuck to the inside surface of a spin cup 22.
薬液を吐出する薬液処理時に、スピンカップ洗浄手段26から純水を吐出し、スピンカップ22内面に付着した薬液を洗浄する。 - 特許庁 - The processing liquid cabinet 2 is provided with a supply piping 10 for supplying the processing liquid reserved in a processing liquid tank 9 to the processing chamber 1.
処理液キャビネット２には、処理液タンク９に貯留されている処理液を処理室１に供給するための供給配管１０が備えられている。 - 特許庁 - To inhibit a processing liquid from pulsating, keeping the processing liquid high enough in responsiveness while it is transported.
処理液を送液する際の応答性を確保しつつ、処理液の脈動を抑制する。 - 特許庁 - To efficiently process a substrate by spraying processing liquid to the whole substrate with a processing liquid spray nozzle.
処理液噴射ノズルで基板全体に処理液をかけて、基板を効率的に処理する。 - 特許庁 - ROTATING SHAFT SEALING MECHANISM AND LIQUID PROCESSING APPARATUS
回転軸シール機構および液処理装置 - 特許庁 - DIAMOND-CONTAINING PROCESSING LIQUID COMPOSITION FOR POLISHING
ダイヤモンド含有研磨用加工液組成物 - 特許庁 - SIGNAL PROCESSING SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
液晶表示装置用信号処理基板 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND ITS PROCESSING METHOD
液晶表示装置及びその加工方法 - 特許庁 - METHOD OF PROCESSING WASTE LIQUID OF PHOTOSENSITIVE RESIN PLATE
感光性樹脂版の廃液処理方法 - 特許庁 - SIGNAL-PROCESSING METHOD AND LEAKED LIQUID DETECTOR
信号処理方法および漏液検出器 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING ALKALINE DEVELOPING WASTE LIQUID
アルカリ性現像処理廃液の処理方法 - 特許庁 - WASTE LIQUID COMBUSTION PROCESSING METHOD AND DEVICE
廃液燃焼処理方法及びその装置 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of reducing the consumption of processing liquid such as liquid chemicals.
薬液などの処理液の使用量を低減できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The liquid temperature of the processing liquid is lowered down to the determined energy-saving liquid temperature.
そして、その決定した省エネ液温度まで処理液の液温度を低下させる。 - 特許庁 - RACK WITH TRANSPORT MECHANISM OUTSIDE PROCESSING LIQUID TANK OF PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE
写真処理装置の処理液槽外用搬送機構付きラック - 特許庁 - PROCESSING LIQUID SUPPLYING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME
処理液供給装置およびこれを備えた基板処理装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE AND CIRCULATING MECHANISM FOR PROCESSING LIQUID
感光材料処理装置及びその処理液の循環機構 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, LIQUID FILM FREEZING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
基板処理装置、液膜凍結方法および基板処理方法 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID FEEDING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME
処理液供給装置およびそれを備えた基板処理装置 - 特許庁 - METHOD OF DISTRIBUTING PROCESSING LIQUID TO PROCESSING DEVICE AND DISTRIBUTION DEVICE
処理液を処理装置へ配給する方法及び配給装置 - 特許庁 - A chemical cabinet 1 supplies the processing liquid to the plurality of substrate processing units 5 for processing a substrate W with the processing liquid.
薬液キャビネット１は、基板Ｗに処理液による処理を施すための複数の基板処理部５に処理液を供給する。 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING LIQUID AND METHOD FOR PROCESSING RESIST SUBSTRATE USING THE SAME
基板処理液およびそれを用いたレジスト基板処理方法 - 特許庁 - PROCESSING DEVICE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND METHOD FOR CIRCULATING PROCESSING LIQUID
感光材料用処理装置及び処理液の循環方法 - 特許庁
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