「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
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液晶表示装置の映像信号処理回路及び映像信号補正処理方法 - 特許庁 - RUBBING PROCESSING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE BY THE RUBBING PROCESSING DEVICE
ラビング処理装置とそのラビング処理装置による液晶表示装置の製造方法 - 特許庁 - The substrate processing apparatus includes a jet nozzle which injects processing liquid and dries a substrate.
基板処理装置は、処理液を噴射して基板を乾燥する噴射ノズルを備える。 - 特許庁 - After exposure processing, the resist cover film is removed in the liquid immersion processing block 13.
露光処理後に、液浸露光用処理ブロック１３においてレジストカバー膜が除去される。 - 特許庁 - DEVELOPMENT PROCESSING METHOD AND DEVELOPMENT PROCESSING APPARATUS USING LIQUID DEVELOPER CONTAINING ORGANIC SOLVENT
有機溶剤を含有する現像液を用いた現像処理方法及び現像処理装置 - 特許庁 - Micro bubbles are supplied from a micro bubble generator 30 to processing liquid in the processing tank 10.
マイクロバブル発生部３０から、処理槽１０内の処理液へマイクロバブルを供給する。 - 特許庁 - To provide a wafer processing apparatus which is capable of suppressing flow fluctuation of a processing liquid.
処理液の流量変動を抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - TWO-FLUID NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF GENERATING LIQUID DROPLET, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
二流体ノズル、基板処理装置、液体の液滴の生成方法、および基板処理方法 - 特許庁 - Prior to exposure processing, a resist cover film is formed in the liquid immersion processing block 13.
露光処理前に、液浸露光用処理ブロック１３においてレジストカバー膜が形成される。 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID DISCHARGE NOZZLE, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE TO BE PROCESSED BY USING SAME, AND PHOTOMASK
処理液吐出ノズル及びそれを用いた被処理基板の処理方法並びにフォトマスク - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of reducing the consumption of a processing liquid.
処理液の消費量を低減することができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device that can supply a processing liquid maintained in a state that is suitable for processing to the rear surface of a substrate.
基板の裏面に処理に適した状態の処理液を供給できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - PROCESSING DEVICE, METHOD FOR PROCESSING PROCESS LIQUID OF PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL, AND METHOD FOR PROCESSING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL
処理装置、平版印刷版材料処理液の処理方法、および平版印刷版材料の処理方法 - 特許庁 - To provide a substrate processing device that supplies a processing liquid maintained at a temperature that is suitable for processing, to the rear surface of a substrate.
処理に適した温度の処理液を基板の裏面に供給できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photographic processing device which is capable of urging an operator to make the measurement of a supply rate of a replenishing liquid and the correction of a processing liquid temperature when the specifications of the processing liquid are changed.
処理液の仕様を変更した場合に、オペレータに補充液の供給量の測定乃至処理液温度の補正を促すことの出来る写真処理装置を提供する。 - 特許庁 - In a side section of the head 34L for a processing liquid, a recovery device 60L for a processing liquid which carries out electrostatic attraction of processing liquid mist is prepared at an opposite side of the head 34Y for ink.
処理液用ヘッド３４Ｌの側部には、インク用ヘッド３４Ｙの反対側に処理液ミストを静電吸着する処理液用回収装置６０Ｌが設けられている。 - 特許庁 - Therefore, when the processing liquid nozzle moves between a waiting part and each liquid processing part in order to process a substrate, the dripping of the drops from the processing liquid nozzle onto the substrate can be prevented.
従って、処理液ノズルが基板に処理を行うために待機部と各液処理部とを移動するにあたって、基板上への処理液ノズルからの前記液滴の落下を防ぐことができる。 - 特許庁 - By molding the belt after applying surface processing liquid on the surface of the cylindrical rigid body, the surface processing liquid is transferred to the belt surface and the surface processing liquid is carried on the belt surface.
該円筒状剛体の表面に表面処理剤を塗布したのち該成形を行うことで、ベルト表面に該表面処理剤を転写させ該表面処理剤を担持させる。 - 特許庁 - When fluctuation of the processing liquid is detected, state of the processing liquid in the processing liquid supply passage 31 can be determined with high accuracy.
この場合、処理液に揺らぎがあるか否かを検出することにより、例えば処理液供給路３１内に介在する処理液の液状態を高い正確性をもって見極めることができる。 - 特許庁 - To provide a processing liquid and a substrate processing method and apparatus using the processing liquid whereby any water mark can be suppressed from being formed on the surface of a low-permittivity material (low-k material).
低誘電率材料（Ｌｏｗ−ｋ材料）の表面にウォータマークが形成されてしまうことを抑制することができる処理液を提供する。 - 特許庁 - To provide a coating film formation apparatus which does not affect a processing, when a processing part is supplied with a chemical liquid, or gas and liquid are discharged from the processing part.
処理部への薬液供給、および処理部からの排気、排液の際にプロセスに悪影響を及ぼさない塗布膜形成装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate-processing apparatus and method for measuring the temperature of a processing liquid, accurately measuring the temperature of the processing liquid supplied to a substrate.
基板に供給される処理液の温度を精度良く測定することができる基板処理装置および処理液温度測定方法を提供すること。 - 特許庁 - An aggregation processing layer of a solid state with a uniform film thickness is formed by carrying out drying processing to prevent the processing liquid of a liquid state from being uneven.
液状の処理液が不均一にならないように乾燥処理を施すことで、均一な膜厚を持つ固体状の凝集処理層が形成される。 - 特許庁 - A wafer processing apparatus 1 comprises a spin chuck 2 which holds a wafer W, and a processing liquid supply nozzle 3 which supplies a processing liquid to the wafer W.
基板処理装置１は、基板Ｗを保持するスピンチャック２と、基板Ｗに処理液を供給する処理液供給ノズル３を備えている。 - 特許庁 - To provide a developing apparatus for appropriately developing by reducing the deterioration of a processing liquid caused by such a failure that the processing liquid in a processing tank comes in contact with the air.
処理槽の処理液が空気に接触することに起因する劣化を低減して適正な処理を行う現像処理装置を構成する。 - 特許庁 - To provide a processing-liquid supplying unit capable of maintaining processing liquid to be supplied to a nozzle at a constant temperature, and to provide a substrate-processing apparatus and method using the same.
ノズルへ供給される処理液を一定温度に維持できる処理液供給ユニットと、これを利用する基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - At this time, the processing liquid is brought into contact with the surface of the wafer W, and the processing by the processing liquid is applied to the surface of the wafer W.
このとき、ウエハＷの表面に処理液が接液した状態となり、そのウエハＷの表面に対して処理液による処理が施される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system for maintaining the concentration of surfactant contained in a processing liquid at a required concentration, even if the processing liquid is regenerated.
処理液を再生処理しても、処理液中に含まれる界面活性剤の濃度を必要濃度に維持することができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of preventing reduction in the concentration of a surfactant included in processing liquid caused by regeneration of the processing liquid.
処理液の再生により処理液に含まれる界面活性剤の濃度が低くなるのを防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which prevent a substrate in a processing chamber from being contaminated by residual chemicals adhered to a cup.
カップに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁 - In addition, a processing liquid feeding section 40 that supplies the processing liquid to the peripheral portion of the substrate W located in the processing space 36 is also provided.
また、処理空間３６内にある被処理基板Ｗの周縁部に処理液を供給する処理液供給部４０が設けられている。 - 特許庁 - To provide a device for preparing photosensitive material processing liquid in which neither processing liquid raw materials nor processing liquid sticks on the hand and when a container is unsealed, the processing liquid raw materials never scatter around the device, and a storage container suitable to this device.
処理液原料や処理液が手に付着することなく、しかも容器の開封時に処理液原料が装置のまわりに飛散することがない感光材料処理液調製装置、およびこの装置に適した収納容器を提供する。 - 特許庁 - After the processing liquid is applied on the surface of a sheet of recording paper 12 at a processing liquid applying part 100, the processing liquid is dried at a processing liquid drying part 200, and thereafter, ink droplets are delivered on the surface of the recording paper 12 at a colored ink applying part 300 to form the image.
処理液付与部１００で記録用紙１２の表面に処理液を付与した後、処理液乾燥部２００で処理液を乾燥させ、その後、色インク付与部３００で記録用紙１２の表面にインク滴を吐出して画像を形成する。 - 特許庁 - To keep liquid level by which processing liquid is stably fed to a squeeze roller by keeping the liquid level constant by preventing the liquid level of a liquid chamber from lowering when the squeeze roller rotates.
スクイーズローラの回転時に液室の液面が低下することを防止して液面を一定に保ち処理液がスクイーズローラへ安定供給する液面を保つ。 - 特許庁 - To provide a processing liquid replenishing system realizing failsafe in liquid shortage detection using a liquid surface sensor for detecting a liquid surface level.
液面レベルを検出する液面センサを用いた液切れ検出におけるフェールセーフを実現した処理液補充システムを提供すること。 - 特許庁 - In the method for processing a substrate, including steps of: a liquid chemical processing step of processing a substrate W with a liquid chemical; and then a drying processing step of drying the substrate W, humidity around the substrate W is adjusted depending on type of the liquid chemical used in the liquid chemical processing step.
薬液を用いて基板Ｗを処理する薬液処理工程を行った後，基板Ｗを乾燥させる乾燥処理工程を行う基板処理方法であって，前記薬液処理工程で使用される薬液の種類に応じて，基板Ｗの周囲の湿度を調節する。 - 特許庁 - To provide a liquid treatment apparatus which can restrict pressure fluctuations inside a liquid treatment unit where a processing body is treated with liquid.
処理体を液処理する液処理部内の圧力の変動を抑制することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - The apparatus is provided with a new-liquid supplying line NL for supplying a new processing-liquid to a multifunctional tank MB and a processing-liquid circulating line CL for supplying the processing-liquid flowed out from the multifunctional tank MB to the tank MB again by circulating the flowed-out liquid through a line different from the new-liquid supplying line NL.
多機能槽ＭＢに新たな処理液を供給する新液供給ラインＮＬと、多機能槽ＭＢから流出した処理液を新液供給ラインＮＬとは異なる経路にて循環させて多機能槽ＭＢに再供給する処理液循環ラインＣＬとが設けられている。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which improve replaceability of the atmosphere in a processing chamber and prevent the atmosphere of chemicals scattered when the liquid processing of a substrate is performed and the like from remaining in the processing chamber.
処理室内の雰囲気の置換性を向上させることができ、基板の液処理を行う際に飛散した薬液等の雰囲気が処理室内に残存しないようにすることができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁 - To exactly detect the completion of filling of a processing liquid of a processing liquid replenishing device having replenishing means for sending the processing liquid taken out of a cartridge C to a processing tank where the processing of photosensitive materials is carried out.
本発明は、カートリッジＣから取出した処理液を感光材料の処理を行う処理槽に送る補充手段を備えている処理液補充装置において、処理液の充填の完了を正確に検出することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a liquid heating unit capable of monitoring the temperature of a liquid storage tank or pipe in which liquid is heated by permeation of radiated light, to provide a liquid processing apparatus including the same, and to provide a liquid processing method.
放射光の透過により内部の液体が加熱される液体貯留槽または導管の温度を監視することができる液体加熱ユニット、これを備える液処理装置、および液体処理方法を提供する。 - 特許庁 - FINE-PROCESSING SURFACE-TREATMENT LIQUID FOR GLASS SUBSTRATE CONTAINING MULTI-COMPONENT
多成分を有するガラス基板用の微細加工表面処理液 - 特許庁 - DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY, DATA PROCESSING METHOD, AND PROGRAM
表示装置、液晶表示装置、データ処理方法及びプログラム - 特許庁 - METHOD FOR EVALUATION EVAPORATED QUANTITY OF LIQUID MATERIAL IN FILM FORMING PROCESSING SYSTEM
成膜処理システムの液体原料の気化量評価方法 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID, METHOD OF MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
処理液、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び表示装置 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING APPARATUS, LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS AND COLOR CORRECTION METHOD
画像処理装置、液晶表示装置および色補正方法 - 特許庁 - IMAGE PROCESSOR, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND IMAGE PROCESSING METHOD
画像処理装置、液晶表示装置および画像処理方法 - 特許庁 - An exhaust member 71 is provided between the first processing liquid collection tank 61 and the second processing liquid collection tank 62.
第１処理液回収用タンク６１と第２処理液回収用タンク６２との間には、排気部材７１が設けられている。 - 特許庁 - MIXING APPARATUS AND MIXING METHOD FOR TREATING LIQUID, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
処理液の混合装置、混合方法及び基板処理装置 - 特許庁 - AUTOMATIC DEVELOPING MACHINE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING LIQUID APPLYING DEVICE
感光材料用自動現像機及び処理液塗り付け装置 - 特許庁
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