「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 85 86 次へ＞- To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that process a substrate with a processing liquid reduced in oxygen concentration.
酸素濃度を低減した処理液で基板を処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, capable of improving processing performance while efficiently using a processing liquid.
処理液を効率的に利用しつつ処理性能を向上させることのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することである。 - 特許庁 - By connecting side parts 40 of a process liquid bath to the bottom 30 of a process liquid bath 30, where a substrate is held, a liquid processing by a process liquid can be applied to the substrate.
基板を保持した処理液槽底部３０に処理液槽側部４０を接続することで、処理液による液処理を施すことができる。 - 特許庁 - The processing liquid regenerating device 30 includes adsorbing containers 32 and 33 filled with an adsorbent for adsorbing metal components and a processing liquid circulating mechanism 34 for supplying the processing liquid to the adsorbing containers 32 and 33 to circulate it and reflux the processing liquid that has flown out to the storage tank 11.
処理液再生装置30は、金属成分を吸着する吸着材が充填された吸着容器32,33と、処理液を吸着容器32,33に供給して流通させ、流出した処理液を貯留槽11に還流させる処理液循環機構34とを備える。 - 特許庁 - To provide a processing liquid supply nozzle and substrate processor that enable reduction in the consumption of a processing liquid and redeposition of the processing liquid onto a substrate, while securing uniformity of supply of the processing liquid to the surface of the substrate, without causing cost increase.
コストアップを招くことなく、基板の表面に対する処理液の供給の均一性を確保しつつ、処理液の消費量、および基板への処理液の再付着の低減を図ることができる、処理液供給用ノズルおよび基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that excellently carry out substrate processing using processing liquid and make a processing time shorter.
処理液を用いた基板処理を良好に行うことができるとともに、処理時間をより短縮することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The substrate subjected to freezing processing is conveyed by the substrate conveying mechanism 3 from the spin processing unit 2 to the cleaning processing unit 1, and is dipped into a processing liquid in the processing chamber.
そして、凍結処理された基板は、基板搬送機構３によりスピン処理ユニット２から洗浄処理ユニット１に搬送され、処理槽内の処理液中に浸漬される。 - 特許庁 - To provide a supplementary liquid replenishing device for a developing processor which can forcibly replenish supplementary liquid not depleted and left in a supplementary liquid storage part of a cartridge without spoiling the photographic processing quality of processing liquid in a processing tank.
全て消費されずにカートリッジの補充液収容部に残存した補充液を処理槽内の処理液の写真処理品質を損ねることなく、強制補充可能な現像処理装置の補充液補充装置を提供すること。 - 特許庁 - To prevent a processing liquid inside a processing tank from splashing and foaming when the processing liquid squeezed by a carrying roller pair from a photosensitive material carried on the outside of the liquid is dropped from the carrying roller pair.
液外搬送される感光材料から搬送ローラ対によって絞り取った処理液が、搬送ローラ対から落下したときに、処理槽内の処理液が飛散したり泡立つのを防止する。 - 特許庁 - To provide a developing device which stabilizes the quality of a processing liquid by curtailing the number of pats disposed in supply paths and reflux paths for the processing liquid and stably supplies the processing liquid.
処理液の供給路、還流路に配設される部品点数を削減して処理液の水質を安定させると共に、処理液の安定供給を図った現像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method for processing liquid food comprises supplying supercritical fluid into a first processing container 2 charged with the liquid food such as fish oil so that the supercritical fluid comes in contact with the liquid food in the first processing container 2.
魚油等の液状食品を収容した第一処理容器２内へ超臨界流体を供給すると、第一処理容器２内において超臨界流体が液状食品に接触する。 - 特許庁 - To provide a recording device and a coating device that suppress thickening of a processing liquid due to evaporation, volatilization, and drying or the like of the processing liquid at a coating part for applying the processing liquid to a recording medium.
記録媒体に処理液を塗布する塗布部において、処理液の蒸発、揮発および乾燥等に起因する処理液の増粘を抑制することができる記録装置および塗布装置の提供。 - 特許庁 - When processing liquid having no fluctuation is supplied to the substrate, the substrate can be supplied with the processing liquid under optimal state and good liquid processing can be carried out.
従って、揺らぎのない処理液を基板に供給するようにすれば、結果として基板にとって最適な状態の処理液を供給することができ、良好な液処理を行うことができる。 - 特許庁 - This invention relates to a high dynamic contrast processing device and a high dynamic contrast processing method for a liquid crystal display device.
本発明は液晶表示装置の高ダイナミックコントラスト処理装置と処理方法に関する。 - 特許庁 - To provide a substrate-processing apparatus which can facilitate the control of processing-liquid property.
処理液の特性制御を容易なものとすることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The processing described above is performed to each of the combinations of the entire photographic paper and the entire processing liquid (S8).
以上の処理を、全印画紙および全処理液の各組み合わせに対して行う（Ｓ８）。 - 特許庁 - RUBBING PROCESSING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL USING RUBBING PROCESSING METHOD
ラビング処理方法及びこのラビング処理方法を用いた液晶表示パネルの製造方法 - 特許庁 - ABRASIVE PROCESSING LIQUID FOR ALUMINUM ALLOY PLATE TO BE USED IN MAGNETIC DISK SUBSTRATE AND ABRASIVE PROCESSING METHOD
磁気ディスク基板に用いるアルミニウム合金板用研削加工液および研削加工方法 - 特許庁 - To collect a plurality of kinds of processing liquid while sorting them without mixing different kinds of processing liquids.
複数種の処理液をそれぞれ他種の処理液を混入させることなく分別回収する。 - 特許庁 - To efficiently and inexpensively perform circulation and temperature control of processing liquid in a photosensitive material processing apparatus.
感光材料処理装置における処理液の循環や温調を安価に効率よく行う。 - 特許庁 - To provide a technology for supplying a large quantity of processing gas evaporated from processing liquid with high concentration.
処理液から気化した処理ガスを、高濃度で大量に供給できる技術を提供する。 - 特許庁 - The processing unit has a liquid processing unit BARC, RESIST (DEV) and a heat treatment unit.
処理ユニットは、液処理ユニットＢＡＲＣ、ＲＥＳＩＳＴ（ＤＥＶ）と熱処理ユニットを含む。 - 特許庁 - ULTRAVIOLET PROCESSING APPARATUS, ULTRAVIOLET PROCESSING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL BY USING THE APPARATUS AND METHOD
紫外線処理装置、紫外線処理方法、及びこれらを用いた液晶パネルの製造方法 - 特許庁 - AUTOMATIC UNSEALING DEVICE FOR SOLID BODY PACKAGE, PHOTOGRAPHIC PROCESSING LIQUID PREPARING DEVICE, AND PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE
固形物包装体の自動開封装置、写真処理液調製装置及び写真処理装置 - 特許庁 - IPA liquid is supplied to an upper processing space 41 and a lower processing space 42 respectively.
上処理空間４１および下処理空間４２にそれぞれＩＰＡ液が供給される。 - 特許庁 - To provide a method of making a lithographic printing plate which shows safe and excellent developing property and processing capability in one-liquid processing with a processing liquid within a weak alkali pH range, preferably with a processing liquid having pH of 8.5-10.5.
弱アルカリ領域のｐＨ領域の処理液、好ましくはｐＨ８．５〜１０．５の処理液による１液処理において、安全かつ、優れた現像性及び処理能力を示す、平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁 - The cleaning liquid is given to the first wiper 4 by a processing liquid applying device 10, while the cleaning liquid is not applied to the second wiper 5.
処理液付与器１０によって第１ワイパー４にクリーニング液の付与し、第２ワイパー５にはクリーニング液を付与しない。 - 特許庁 - To provide a microtiter plate for processing a sample comprising a liquid ingredient, a liquid and a solid ingredients, or a liquid and a gel ingredients.
液体成分、液体と固体成分、液体とゲル成分を有するサンプルを処理するためのマイクロタイタ・プレートを提供する。 - 特許庁 - The slurry drain after the liquid quality adjusting processing is sent to enriched film units 49, 50, to be separated to an enriched liquid and a permeated liquid.
液質調整処理後のスラリー廃液は濃縮膜ユニット４９，５０に送られ、濃縮液と透過液とに分離される。 - 特許庁 - To provide a liquid processing method capable of preventing protrusions on a processed substrate from being destructed when rinse liquid is dried, and to provide a liquid processing apparatus and a storage medium.
リンス液を乾燥する際、被処理基板の凸状部が倒壊することを防止することが可能な液処理方法、液処理装置および記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - To make liquid concentration easily measurable, and to operate efficiently a liquid processing system by utilizing automatically a measured value in the liquid processing system.
容易に液体の濃度を測定することができるとともに、測定値を自動的に液体処理システムにおいて利用させることにより液体処理システムを効率よく稼動させる。 - 特許庁 - To provide a processing liquid tank which is capable of suppressing the fall of the liquid level height of a processing liquid stored in a tank body to a lower level than the bottom edge of an overflow port.
タンク本体内に貯留する処理液の液面高さがオーバーフロー口の下縁よりも下方に低下するのを抑制することの出来る処理液タンクを提供する。 - 特許庁 - A wet processing apparatus includes a wafer holding portion 3 for holding the wafer 1 and a processing tank 2 in which peeling processing, cleaning processing, or etching processing is carried out on the processing surface 15 of the wafer 1 with a processing liquid 19 reserved inside.
ウェハ１を保持するウェハ保持部３と、内部に貯留している処理液１９によりウェハ１の被処理面１５に対し、剥離処理、洗浄処理又はエッチング処理が行われる処理槽２とを備える。 - 特許庁 - The substrate treating method includes a stage of treating the substrate W with processing liquid, and a stage of supplying a replacing liquid onto the substrate to replaces the processing liquid left on the substrate with the replacing liquid.
基板処理方法は、処理液によって基板Ｗを処理する工程と、基板上に置換液を供給し、基板上に残留する処理液を置換液で置換する工程と、を備える。 - 特許庁 - To provide a fluid supply member, a liquid processing apparatus, and a liquid processing method which can improve uniformity of cleaning on the substrate surface.
基板表面の洗浄均一性を向上できる流体供給部材、液処理装置、および液処理方法を提供する。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF SILICON SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID EJECTION HEAD
シリコン基板の加工方法、および液体吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF PROCESSING SILICON SUBSTRATE, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID EJECTION HEAD
シリコン基板の加工方法及び液体吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DRIVE CONTROLLER, MOBILE TERMINAL SYSTEM, AND DATA PROCESSING SYSTEM
液晶駆動制御装置、携帯端末システム及びデータ処理システム - 特許庁 - PROJECTION TYPE DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL PROJECTOR, AND IMAGE PROCESSING SYSTEM
投射型表示装置、液晶プロジェクタ装置、および画像処理システム - 特許庁 - To provide a substrate processing method and apparatus, capable of stably holding a liquid film of processing liquid on a substrate.
安定して基板上に処理液の液膜を保持させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a novel microfluidic processing unit for the automated processing of a liquid sample capable of mixing one or more reagents with the liquid sample.
１つ以上の試薬と液体試料を混合できる、液体試料の自動化処理用の新規マイクロ流体処理ユニットを提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing method, a liquid processing device, and a thin film formation system, by which the periphery of an object can be cleaned in finely controllable state.
被処理体の周縁の洗浄を微細に制御可能な液処理方法、液処理装置、薄膜形成システムを提供する。 - 特許庁 - To efficiently discharge a processing liquid atmosphere nearby a workpiece.
被処理体近傍の処理液雰囲気を効率よく排出すること。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF SILICON SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID DISCHARGE HEAD
シリコン基板の加工方法、及び液体吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING SILICON WAFER AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID JET HEAD
シリコンウェハの処理方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁 - The replenishing amount of the processing liquid by the processing liquid replenishing mechanism 20 is calculated by a control unit 30 connected to a replenishing pump 27.
処理液補充機構２０による処理液の補充量の算出を、補充ポンプ２７に接続された制御部３０によって行う。 - 特許庁 - METHOD FOR CLEANING SUPER-HIGH CONCENTRATION LIQUID WASTE FROM FOOD PROCESSING WITHOUT DILUTING
超高濃度液状食品加工廃棄物の無希釈浄化法 - 特許庁 - This liquid processing device is used for spraying a processing liquid to a surface of a substrate supported to a substrate support base to process the surface of the substrate.
基板支持台に支持された基板の表面に処理液をかけて当該基板の表面の処理を行う液処理装置である。 - 特許庁 - To provide a photographic processing system in which a photographic processing waste liquid can be easily reused at a low cost and no waste liquid is substantially produced.
簡易かつ低コストで写真処理廃液が再利用でき、実質的に廃液が発生しない写真処理システムを提供する。 - 特許庁 - Respective rotary joints 8 are connected to a processing liquid pipe 9.
各回転継手８は処理液用配管９に接続されている。 - 特許庁
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