「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 85 86 次へ＞- To provide an exposure apparatus that excellently performs exposure processing and measurement processing through liquid.
液体を介した露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID SUPPLY NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
処理液供給ノズルおよびこれを用いた基板処理装置、並びに処理液供給ノズルの製造方法 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus that can reduce the diameter of the common pipeline of processing liquid supplying means.
処理液供給手段の共通管路を小径化することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - DRILLING PROCESSING DEVICE OF FINE HOLE, METHOD OF PROCESSING THEREFOR, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID JET HEAD USING THE SAME
微細穴の穿設加工装置、その加工方法およびそれを用いた液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁 - To easily and surely replenish a processing liquid to a plurality of photosensitive planographic printing plate processing apparatuses.
複数の感光性平版印刷版処理装置へ処理液を容易に且つ確実に補充すること - 特許庁 - PROCESS LIQUID SUPPLY NOZZLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING SAME
処理液供給ノズルおよびそれを備えた基板処理装置ならびにそれを用いた基板処理方法 - 特許庁 - To suppress generation of processing defect at the time of supplying processing liquid onto a developed substrate.
現像処理後の基板上に処理液を供給する際に、処理欠陥の発生を抑制すること。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device in which black insertion processing can be performed in IP conversion processing.
ＩＰ変換処理において、黒挿入処理を行なうことができる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a wafer processing method that includes a wafer processing process of executing liquid chemical processing, heating treatment or processing accompanied by heat generation, and is capable of reliably processing a wafer without breakage or the like.
薬液処理、加熱処理又は発熱を伴う処理を施すウエハ処理工程を有し、破損等することなく確実にウエハを処理できるウエハの処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of applying processing to a processing object surface by processing liquid, while maintaining the processing object surface of a substrate in a non-contact state.
基板の処理対象面を非接触状態で保持することができながら、その処理対象面に処理液による処理を施すことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - It is advisable that the liquid phase from which the euglena is removed is solid-liquid separated after aeration processing, and that the solid-liquid separated water is served for euglena cultivation together with the digestion liquid D.
ユーグレナを除去した液相は曝気処理した後に固液分離処理し、この固液分離水を消化液Ｄと共に前記ユーグレナの培養に供するとよい。 - 特許庁 - The image forming apparatus may be constituted to directly give the processing liquid and the ink liquid to a recording medium 16 and remove liquid components after solid liquid separation from a surface of the recording medium 16.
処理液およびインク液を記録媒体１６へ直接付与し、記録媒体１６の表面から固液分離後の液体成分を除去する構成としてもよい。 - 特許庁 - Since the new-liquid supplying line NL and the processing-liquid circulating line CL are separated each other, an effect on the new-liquid supplying line NL due to the circulating liquid can be eliminated, thereby, it makes the control of processing-liquid property easier.
新液供給ラインＮＬと処理液循環ラインＣＬとは互いに独立したものとなるため、新液供給ラインＮＬに対する循環液による影響を排除することができ、処理液の特性制御を容易なものとすることができる。 - 特許庁 - The liquid droplet discharging apparatus is provided with an apparatus body B having a plurality of liquid droplet discharging heads 34 from each of which a liquid body is discharged onto a substrate and processing units 81, 90, 172 each of which performs the processing incidental to the discharge of the liquid body on the liquid droplet discharging heads 34.
複数の液液吐出ヘッド３４により基板に液状体を吐出する液滴吐出装置本体Ｂと、液滴吐出ヘッド３４に対して、液滴吐出に付随する処理を行う処理装置８１、９０、１７２とを備える。 - 特許庁 - Waste recording liquid discharged from a processing liquid delivery part 17 and waste processing liquid discharged from a recording liquid delivery part 16 are mixed immediately upon being contained in the housing 1 of a waste liquid container where neutralization reaction takes place to change the mixture liquid to the vicinity of neutral.
処理液用吐出部１６から排出される記録液の廃液と記録液用吐出部１７から排出される処理液の廃液は、廃液収容体の筐体１に収容されると直ちに混合され、中和反応が起こり、混合液は中性付近に変化する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus that performs liquid processing on a reverse surface of a substrate in a state wherein a liquid is prevented from reaching a top surface of the substrate without using a complicated mechanism.
複雑な機構を用いることなく液が基板の表面に到達することを阻止した状態で基板の裏面を液処理することができる液処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing liquid supply mechanism, in which liquid leakage at the time of stopping the supply of a processing liquid is surely prevented by reducing a time required to dry a substrate.
基板乾燥に要する時間を短縮することで、処理液の供給停止時における液漏れを確実に防止することができる基板処理液供給機構を提供する。 - 特許庁 - A pair of rolls 2, 3 is provided on an inlet (may be in the liquid or an outlet) for a corrosion prevention processing liquid 4 and a product 1 is immersed in the corrosion prevention processing liquid 4 through a space between the pair of rolls 2, 3.
防錆処理液４への入り口（液中や出口でもよい）にロール対２，３を設け，ロール対２，３の間を通して製品１を防錆処理液４中に浸す。 - 特許庁 - Even when a liquid balance of the processing liquid and the ink is deteriorated locally on the medium 16 to be recorded, the processing liquid and the ink can be prevented from remaining on the medium 16 to be recorded.
被記録媒体１６上において処理液とインクの液量バランスが局所的に悪くなる場合にも、被記録媒体１６上における処理液及びインクの残留を防止できる。 - 特許庁 - To provide a liquid level recognition processing device and a liquid level monitoring system for recognizing and processing an image imaged by a camera without misrecognition, and detecting accurately the liquid level position.
カメラにより撮像された画像を誤認識することなく認識処理し、液面位置を正確に検出する液面認識処理装置及び液面監視システムを提供する。 - 特許庁 - The video processing part 10 changes the transmissivity of the liquid crystal of the liquid crystal panel and corrects the luminance characteristics of the liquid crystal panel by changing the voltage between the pair of the electrodes of the liquid crystal of the liquid crystal panel.
映像処理部１０は、液晶パネルの液晶の一対の電極間の電圧を変化させることで液晶パネルの液晶の透過率を変化させ液晶パネルの輝度特性を補正する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing device which can accurately determine whether there is a discharge of a treatment liquid from a treatment liquid nozzle and whether there is a change in a discharge condition of a treatment liquid discharged from a treatment liquid nozzle.
処理液ノズルからの処理液の吐出の有無及び処理液ノズルから吐出される処理液の吐出状態の変化の有無を正確に判定することができる液処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of processing a substrate with high quality, a method for supplying a gas-dissolved liquid and a method for processing a substrate.
基板を品質よく処理することができる基板処理装置、ガス溶解液供給方法、および、基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a texturing processing liquid so that high processing efficiency is obtained even for fine texturing processing and that streaks are obtained with high efficiency.
細かなテクスチャリング加工であっても高い加工能率が得られ条痕を能率良く得られるテクスチャリング加工液を提供する。 - 特許庁 - This reduces the inner volume of the processing chamber 503, and therefore, reduces the amount of the processing liquid consumed which is supplied to the processing chamber 503.
これによって、処理室５０３の内容積が小さくなり、処理室５０３に供給する処理液の消費量を少なくできる。 - 特許庁 - To provide processing equipment which can use nano bubbles contained in processing liquid for cleaning and processing a substrate repeatedly.
この発明は基板を洗浄処理する処理液に含まれるナノバブルを繰り返して使用できる処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus, which processes substrates by feeding processing liquid to them, capable of restraining the substrates from being charged with electricity during processing.
処理液を基板に供給して基板を処理する基板処理装置において、処理中における基板の帯電を抑制する。 - 特許庁 - The processing system 1 has a low-pressure processing device 10, a liquid processing device 20, a structure discrimination device 30, and a system control device 40.
処理システム１は、減圧処理装置１０と液処理装置２０と構造判別装置３０とシステム制御装置４０とを備える。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of improving capability of discharging a processing liquid from a substrate and making small a particle diameter of a droplet of the processing liquid scattered to a periphery of the substrate.
基板からの処理液の排出性を向上させることができ、基板の周囲に飛散する処理液の液滴の粒径を小さくすることができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - The processing ununiformity is prevented by placing a nip of the roller pair in the processing liquid and preventing holding and transporting the paper P in a state that the outer peripheral surface of the rollers are ununiformly wetted with the processing liquid.
ローラ対のニップ位置は処理液中にあり、ローラの外周面が処理液で不均一に濡れた状態でペーパーＰを挟持搬送することがないので、処理ムラがなくなる。 - 特許庁 - The method of distributing the processing liquid to the processing device is characterized in that this processing liquid is put into a storage container and is supplied and the container forms a portion of a metering device.
処理液を処理装置へ配給する方法であって、該処理液が貯蔵容器に入れられて供給され、該容器が計量装置の一部を形成していることを特徴とする方法。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which prevent a substrate in a processing chamber from getting dirty due to contaminants adhered to a nozzle support arm supporting a nozzle.
ノズルを支持するノズル支持アームに付着した汚れにより処理室内の基板が汚れてしまうことを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing device for photosensitive materials which makes saving of energy possible in a drying section by lessening the amount of the carried over processing liquid going to the drying section by sticking to the photosensitive materials after liquid processing.
液処理後の感光材料に付着して乾燥部に行く持ち込み処理液量を少なくし、乾燥部で省エネルギを可能とする感光材料の処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing liquid supplying apparatus capable of supplying a plurality of kinds of processing liquid in a clean state while suppressing the increase in the apparatus cost and a substrate processing apparatus including the same.
装置コストの増大を抑えつつ、複数種類の処理液を清浄な状態で供給することができる処理液供給装置およびこれを備えた基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus preventing a fine pattern from being collapsed owing to surface tension of a processing liquid by heating a substrate above the boiling point of the processing liquid.
処理液の沸点以上に基板を加熱することにより、処理液の表面張力に起因する微細パターンの倒壊を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and method, capable of integrating flow control mechanisms without degrading flow rate accuracy in supplying a processing liquid to each liquid processing unit of a substrate processing apparatus.
基板処理装置の各液処理ユニットに処理液を供給するときに、流量の精度を落とすことなく流量制御機構をまとめることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a processing liquid flow measurement method, capable of precisely measuring the flow rate of a processing liquid that is discharged to a substrate, and thereby is capable of properly processing the substrate.
基板に吐出される処理液の流量を正確に計測することができ、これにより、基板に適切な処理を施すことのできる基板処理装置、および処理液流量計測方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an automatic developing machine for a photosensitive material which can always execute stable application processing having no processing unevenness and to provide a processing liquid applying device by which applying of a processing liquid can be executed with uniformity and safety.
常に処理ムラのない、安定した塗り付け処理が可能な感光材料用自動現像機を提供すること、また処理液の均一かつ安全な塗り付けを可能とする処理液塗り付け装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for processing a photosensitive planographic printing plate which has high sensitivity and also has small variation between sensitivity obtained through processing with a liquid developer at the start of development and sensitivity obtained through processing with a liquid developer after running processing.
高感度で、現像開始時の現像液で処理して得られる感度とランニング処理した後の現像液で処理して得られる感度の変化が少ない感光性平版印刷版の処理方法の提供。 - 特許庁 - A print station 3 is equipped with a processing liquid replenishing mechanism 20 for replenishing appropriate necessary amount of the processing liquid to each processing tank 15a to 15c, containing various kinds of processing liquids, such as a color developing solution.
プリントステーション３は、発色現像処理液等の各種処理液を貯留している各処理槽１５ａ〜１５ｃに対して、適宜必要な量の処理液を補充する処理液補充機構２０を備えている。 - 特許庁 - A processing liquid discharging unit 200 includes a frame 210, one processing liquid supply module 220 installed on the frame 210, and a plurality of processing liquid discharging heads 270 which are formed in the frame 210 so that fluid communication to one processing liquid supply module 220 is achieved in a center-concentrated system, and discharge the processing liquid onto a substrate S by an inkjet system.
本発明の処理液の吐出ヘッドユニット２００は、フレーム２１０と、フレーム２１０に設置される１つの処理液供給モジュール２２０と、１つの処理液供給モジュール２２０に中央集中方式で流体連通されるようにフレーム２１０に形成され、基板Ｓ上にインクジェット方式で処理液を吐出する複数の処理液吐出ヘッド２７０とを含む。 - 特許庁 - To realize uniform processing of a material to be processed, such as, a formation, etc. of a uniform plating film by always maintaining a processing liquid (electroless plating liquid) in an optimum state while an amount of using processing liquid, such as, for example, the electroless plating liquid, etc. is suppressed as small as possible.
例えば無電解めっき液等の処理液の使用量を極力少なく抑えつつ、処理液（無電解めっき液）を常に最適な状態に維持して、均一なめっき膜の形成等、被処理材の処理を均一に行うことができるようにする。 - 特許庁 - A liquid processing apparatus for executing liquid processing while supplying a processing liquid to a wafer W is configured so that a rotary cup 4 is configured so as to rotate integrally with the wafer W, and a liquid exhaust cup 51 is provided so as to surround the external part of the rotary cup 4.
回転カップ４をウエハＷと一体的に回転させるように構成するとともに回転カップ４の外側を囲繞するように排液カップ５１を設け、ウエハＷに処理液を供給しながら液処理を行う液処理装置を構成する。 - 特許庁 - To use a liquid temperature detection means provided with piping for processing liquid circulation to accurately detect the liquid temperature even in the standby state.
処理液循環用の配管に設けた液温検出手段を用いて、スタンバイ状態であっても、正確な液温検出を可能とする。 - 特許庁 - The supply means supplies the processing liquid 3 into the processing tank 2 so that an upward jet flow 20 toward the target surface 4a of the wafer 4 is generated in the processing tank 2 and the processing liquid 3 overflows from an upper end 2a of the processing tank 2.
供給手段は、ウェーハ４の被処理面４ａに向かう上向きの噴流２０が処理槽２内に形成され、且つ、処理槽２の上端２ａから処理液３がオーバーフローするように、処理液３を処理槽２内へ供給する。 - 特許庁 - To suppress the deterioration, etc., due to the influence of heat of processing liquid, for example a resist liquid or developer.
処理液、例えばレジスト液或いは現像液が熱影響にて劣化等の影響を極力抑制すること。 - 特許庁 - The silicon sludge generated in a silicon processing process is filtered with a ceramic filter and an acidic chemical liquid is added to a non-permeated liquid.
シリコン加工プロセスで発生したシリコンスラッジをセラミックフィルタで濾過し、非透過液に酸性薬液を添加する。 - 特許庁 - SEAL TYPE CONDUIT SWITCHING SYSTEM, PROCESS LIQUID PROCESSOR USING THE SAME, AND PROCESS LIQUID PROCESSING METHOD USING THE SAME
密閉型管路切換装置およびこれを用いたプロセス液処理装置ならびにこれを用いたプロセス液処理方法 - 特許庁 - To suppress deterioration due to the influence of heat of processing liquid, for example resist liquid or developer as much as possible.
処理液、例えばレジスト液或いは現像液が熱影響にて劣化等の影響を極力抑制すること。 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING SILICON SUBSTRATE, PROCESS FOR MANUFACTURING LIQUID DROP EJECTION HEAD AND PROCESS FOR MANUFACTURING LIQUID DROP EJECTOR
シリコン基板の加工方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法並びに液滴吐出装置の製造方法 - 特許庁
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