「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 16 17 18 19 20 21 22 23 24 .... 85 86 次へ＞- To provide the processing method of cleaning liquid for cleaning or washing an article to which flux is stuck or cleaning liquid or washing liquid for effectively removing the corruption component of washing liquid.
フラックスの付着した物品を洗浄又はすすいだ洗浄液又はすすぎ液の腐食成分を効果的に除去する洗浄液又はすすぎ液の処理方法を提供すること。 - 特許庁 - The polishing liquid is supplied to a processing part 3a of the polishing tool 3 by a polishing liquid supplying device 19, and is drained by a polishing liquid draining device 20.
研磨液は、研磨液供給手段１９によって研磨工具３の加工部３ａに供給され、研磨液排出手段２０によって排出される。 - 特許庁 - To provide a method for processing liquid food by which residual organic pollutants are effectively eliminated from liquid food in a short time without remarkably reducing the yield ratio of the liquid food.
液状食品の歩留まりを著しく低下させることなく、短時間で効果的に液状食品から残留性有機汚染物質を除去する。 - 特許庁 - To provide an apparatus capable of removing particles and residual liquid chemicals from a substrate surface, efficiently discharging them to the outside of a processing tank, shortening the processing time and reducing the using amount of processing liquid, in the apparatus for holding a plurality of substrates by a substrate holding means and immersing them in the processing liquid inside the processing tank and processing them.
複数枚の基板を基板保持手段により保持し処理槽内の処理液中に浸漬させて処理する装置において、基板表面からパーティクルや残留薬液を除去して効率良く処理槽外へ排出することができ、処理時間の短縮と処理液の使用量の低減を図ることができる装置を提供する。 - 特許庁 - The substrate-processing equipment performs a detour-preventing processing, by supplying a first processing liquid toward the surface of a substrate W and therewith performs a film-removing processing, by supplying a second processing liquid toward the back face of the substrate W, where a fluorine-based inert liquid and a hydrofluoric acid aqueous solution, which are mutually insoluble, are used as the first and second processing liquids.
基板Ｗの表面に向けて第１処理液を供給して回込防止処理を行うとともに、基板の裏面に向けて第２処理液を供給して膜除去処理を行う基板処理装置において、第１および第２処理液として、互いに難溶性のフッ素系不活性液体およびフッ酸水溶液を用いている。 - 特許庁 - A liquid droplet hitting apparatus includes a coating roller 11 for applying the processing liquid for agglomerating the ink on the medium, an ink droplet hitting head 37 for hitting the ink on the medium on which the processing liquid is applied, and a means for correcting the amount of hitting of the ink hitting head 37 in accordance with the distribution of the processing liquid on the medium.
インクを凝集させるための処理液を媒体に付与する塗布ローラ１１と、処理液が付与された媒体にインクを打滴するインク打滴ヘッド３７と、媒体上の処理液の分布に応じて、インク打滴ヘッド３７の打滴量を補正する手段を備えた。 - 特許庁 - The sponge member 11 is made of a liquid-absorptive material which can be impregnated with a processing liquid, and can supply the processing liquid to a predetermined range of the circumferential edge portion by making the processing liquid ooze while abutting against the circumferential edge portion of the wafer W rotated by the spin chuck.
スポンジ部材１１は、処理液を含浸可能な吸液性を有する材料からなり、スピンチャックによって回転されるウエハＷの周縁部に当接した状態で、処理液を染み出させて当該周縁部の所定範囲に処理液を供給することができる。 - 特許庁 - RINSE LIQUID FOR PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND PROCESSING METHOD OF PHOTOSENSITIVE PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE
平版印刷版用リンス液及び感光性平版印刷版の処理方法 - 特許庁 - MAINTENANCE DEVICE FOR OUTSIDE-LIQUID ROLLER OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE AND BEARING FOR MAINTENANCE
感光材料処理装置の液外ローラの保守装置、及び保守用の軸受 - 特許庁 - The ink is preferably applied, after the substrate 1 is subjected to liquid-repellence processing.
インクは、基板１に撥液処理を行った後に塗布されることが好ましい。 - 特許庁 - METHOD OF PROCESSING WASTE ORGANIC MATERIAL, PROCESS FOR PRODUCING FUEL, AND LIQUID FUEL
有機系廃棄物の処理方法、燃料の製造方法及び液体燃料 - 特許庁 - The processing-liquid discharge pipe 8 has a rectangularly annular cross-sectional shape.
処理液吐出管８は、長方形環状の断面形状を有している。 - 特許庁 - ALIGNMENT PROCESSING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME
配向処理装置およびそれを使用する液晶表示装置の製造方法 - 特許庁 - ABRASIVE FOR MAGNETIC POLISHING, PROCESSING LIQUID AND METHOD OF MANUFACTURING ABRASIVE FOR MAGNETIC POLISHING
磁気研磨用研磨材、加工液および磁気研磨用研磨材の製造方法 - 特許庁 - A binary driving circuit is used for the driving circuit of the processing liquid head 34L.
また、処理液用ヘッド３４Ｌの駆動回路には、２値の駆動回路を用いる。 - 特許庁 - MANUFACTURE OF CHEMICAL LIQUID FOR PROCESSING OF SOLAR CELL, AND MANUFACTURE OF SOLAR CELL
太陽電池加工用薬液の製造方法、及び太陽電池の製造方法 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING METHOD, IMAGE PROCESSOR, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THEM
画像処理方法、画像処理装置及びそれらを用いた液晶表示装置 - 特許庁 - METHOD OF FORMING MINIATURIZED PATTERN AND RESIST SUBSTRATE PROCESSING LIQUID USED FOR THE SAME
微細化されたパターンの形成方法およびそれに用いるレジスト基板処理液 - 特許庁 - STRIPPER LIQUID FOR MULTILAYER RESIST STACK AND METHOD OF PROCESSING MULTILAYER RESIST STACK
多層レジスト積層体用剥離液及び多層レジスト積層体の処理方法 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE DEVELOPMENT AND METHOD OF PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 - 特許庁 - DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PLATE MAKING METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法 - 特許庁 - A processing liquid discharge port 44X is formed in the bottom of the external tank 43.
外槽４３の底部には、処理液排出口４４Ｘが形成されている。 - 特許庁 - POST CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) PROCESSING LIQUID, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
ポストＣＭＰ処理液、およびこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - OIL-REPELLENT COPOLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND OIL-REPELLENT PROCESSING LIQUID
撥油性共重合体およびその製造方法ならびに撥油性処理液 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PROCESSING RESISTANCE PLATE OF LIQUID LEVEL DETECTING UNIT
液面レベル検出装置の抵抗板加工方法および抵抗板加工装置 - 特許庁 - A second block B2 has several liquid processing units which are horizontally arranged.
第２のブロックＢ２には，複数の液処理ユニットが水平方向に配列される。 - 特許庁 - A spray 3 sprays the processing liquid on the front surface of a substrate 1 in the treatment room.
スプレー３は、処理室内で、処理液を基板１の表面へ吹き付ける。 - 特許庁 - PROCESSING METHOD FOR ROASTED COFFEE, AND COFFEE LIQUID AND COFFEE POWDER OBTAINED BY THE SAME
焙煎コーヒーの処理方法、それにより得られるコーヒー液および粉末コーヒー - 特許庁 - FLOW PROCESSING TYPE MICRO-FLUID DEVICE AND LIQUID MIXTURE PRODUCTION APPARATUS HAVING THE SAME
フロー処理型のマイクロ流体デバイス及びそれを有する混合液製造装置 - 特許庁 - METHOD FOR MODIFICATION PROCESSING OF MATERIAL USING SERICIN EXTRACT LIQUID AND NATURAL COMPONENT
セリシン抽出液及び天然成分を用いた素材の改質加工方法 - 特許庁 - LIQUID-REPELLENT PROCESSING METHOD OF INK-JET HEAD AND INK-JET HEAD MADE BY THIS METHOD
インクジェットヘッドの撥液処理方法およびこれにより作製したインクジェットヘッド - 特許庁 - To provide a method of processing a biological sample contained in a liquid.
液体に含まれている生物学的試料を処理する方法を提供する。 - 特許庁 - The equipment for producing a semiconductor substrate comprises a processing chamber for containing at least one semiconductor substrate and processing the semiconductor substrate by using processing liquid, and a section for activating the processing liquid by forming an electric field in a processing liquid channel.
半導体基板を製造する装置であって、少なくとも一つの半導体基板を収容し、処理液を使用して半導体基板上に処理を実行する処理室と、前記処理液が流れる流路に電場を形成して前記処理液を活性化させる電場形成部と、を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 特許庁 - The conveying mechanism is constituted as a horizontal conveyance unit which is detachably mounted on the processing tanks and horizontally conveys the photosensitive material received outside processing liquid in the processing tanks, and provided with a processing liquid supply means 80 of supplying the processing liquid to the photosensitive material during horizontal conveyance.
この搬送機構は処理槽に脱着可能に装着されるとともに処理槽の処理液外で受け取った感光材料を水平に搬送する水平搬送ユニットとして構成され、水平搬送中の感光材料に対して処理液を付与する処理液付与手段８０が設けられている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus for uniformly performing processing using a treatment liquid to the entire region of one surface and the other surface of a substrate by removing gas staying in the liquid-tight space of the treatment liquid.
処理液の液密空間内に滞留する気体を除去し、これにより、基板の一方面および他方面の全域に処理液を用いた処理を均一に施す基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a device for preparation and replenishment of a replenishing liquid for photographic processing which prepares the replenishing liquid with high reliability even in using raw materials for replenishment of different manufacturers and sending out the prepared liquid to a processing tank.
異なるメーカの補充原材を使用する場合でも高い信頼性で補充液を調製して処理槽に送り出す写真処理用補充液の調製補充装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a device for treating an article with a liquid having a plurality of processing liquid tanks to be charged with a processing liquid and by which the article is treated as required in each of the tanks.
複数の処理液槽を有し、それぞれの処理液槽に処理液を収容し、各処理液槽において物品に目的とする処理を施すことができる、液体による物品の処理装置。 - 特許庁 - Hereby, while some liquid crystal display driver executes an internal processing, transmission of display data to the next liquid crystal display driver and an internal processing in the liquid crystal display driver can be executed in parallel.
これによりある液晶表示ドライバが内部処理を行っている期間に次の液晶表示ドライバへの表示データの送信及び液晶表示ドライバでの内部処理が並行して行えることになる。 - 特許庁 - To uniformly apply a processing liquid on the surface of a photographic film in a photographic film developing device in which a processing liquid such as a developer liquid is directly applied on the emulsion surface of a photographic film.
現像液などの処理液を写真フィルムの乳剤面に直接塗布して現像するタイプの写真フィルム現像処理装置において、写真フィルムの表面に処理液をむらなく均一に塗布する。 - 特許庁 - This processing device is provided with a closed tank 3 for storing a processing liquid 2; a processing stage 6 soaked in the processing liquid 2 in the closed tank 3, held by a static bearing for holding a work piece 5; and a driving stage 28 provided outside the closed tank 3, for moving the processing stage 6.
加工液２を溜める密閉タンク３と、密閉タンク３内の加工液２中に浸漬され、静圧軸受で支持され、被加工物５を保持する加工用ステージ６と、密閉タンク３の外に設けられ、加工用ステージ６を移動させる駆動ステージ２８とを備える。 - 特許庁 - A crossover rack 36 which sends photographic paper P lifted from the liquid surface of stabilization processing liquid (STB) in a stabilization processing tank 23A among a plurality of stabilization processing tanks to a next stabilization processing tank 23B is equipped with a roller unit R which rotates in contact with the photographic paper P.
先の安定処理槽２３Ａの安定処理液（ＳＴＢ）の液面から引き上げられた印画紙Ｐを次の安定処理槽２３Ｂに送り込むクロスオーバラック３６に対して印画紙Ｐに接触するローラユニットＲを備える。 - 特許庁 - Since this photosensitive material processing cartridge 14 has pairs of transport rollers 50 to 126 and a processing liquid both enclosed therein, the processing liquid does not leak or fall by carrying the photosensitive material processing cartridge 14.
本感光材料処理カートリッジ１４は、その内部に搬送ローラ対５０〜１２６を封入していると共に処理液を封入しているため、感光材料処理カートリッジ１４を持ち運んでも処理液が漏れたりこぼれたりすることはない。 - 特許庁 - The processing liquid 20 is not leaked or spilled even when a cartridge 14 for processing the photosensitive material is carried, because the cartridge 14 for processing the photosensitive material encloses a transport roller pair and the processing liquid 20 therein.
感光材料処理カートリッジ１４は、その内部に搬送ローラ対を封入していると共に処理液２０を封入しているため、感光材料処理カートリッジ１４を持ち運んでも処理液２０が漏れたりこぼれたりしない。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus suitably recovering a scattered processing liquid while an increase in height of the substrate processing apparatus is suppressed, and to provide a cover member suitably preventing the processing liquid from leaking out of a cup.
基板処理装置の高さが増大することを抑制しつつ、飛散した処理液を好適に回収することができる基板処理装置、および、カップ外に処理液が漏れることを好適に防止できるカバー部材を提供する。 - 特許庁 - The photosensitive material processing cartridge 14 incorporates a conveyor roller couple 50, etc., sealed and has the processing liquid sealed as well, so even when the photosensitive processing cartridge 14 is carried, the processing liquid neither leaks nor falls.
本感光材料処理カートリッジ１４は、その内部に搬送ローラ対５０等を封入していると共に処理液を封入しているため、感光材料処理カートリッジ１４を持ち運んでも処理液が漏れたりこぼれたりすることはない。 - 特許庁 - A liquid level in a processing tank is controlled so as to be lower than a substrate held in the processing tank, and a processing liquid is discharged in the air from a first discharge part included in first circulation means to the substrate in the processing tank.
処理槽内の液面レベルを、処理槽内に保持される基板よりも下の液面レベルに制御し、その処理液を、第１循環手段に備えられた第1吐出部から基板に向けて処理槽内で空中吐出する。 - 特許庁 - To maintain and manage the temperature of a photograph film and a processing liquid constant during developing and processing in a photograph film developing and processing device of a type to develop the photograph film by directly applying the processing liquid such as a developer to the emulsion side thereof.
現像液などの処理液を写真フィルムの乳剤面に直接塗布して現像するタイプの写真フィルム現像処理装置において、現像処理中の写真フィルム及び処理液の温度を一定に維持管理する。 - 特許庁 - The photosensitive material processor is provided with a plug 305 connectable with the socket 303, the processing liquid in a processing liquid tank is replenished in the processing cartridge 14 and the service life of the processing liquid in the cartridge is extended by connecting the socket 303 with the plug 305.
感光材料処理装置には、ソケット３０３と接続可能なプラグ３０５が設けられており、ソケット３０３とプラグ３０５を接続することにより、処理液タンク３３２の処理液を処理カートリッジ１４に補充し、カートリッジ内の処理液の寿命を延ばすことができる。 - 特許庁 - To uniformly apply processing liquid without unevenness on the surface of a photographic film and to facilitate the removal of the processing liquid adhered to a film conveyance mechanism in a photographic film development processing apparatus of a type of developing with the processing liquid such as a developer directly applied on the emulsion surface of the photographic film.
現像液などの処理液を写真フィルムの乳剤面に直接塗布して現像するタイプの写真フィルム現像処理装置において、写真フィルムの表面に処理液をむらなく均一に塗布すると共にフィルム搬送機構に付着した処理液の除去を容易にする。 - 特許庁 - To shorten the conveyance path and to enable rapid processing, by promoting liquid processing by enhancing the efficiency and performance of the liquid processing to a photosensitive material, and to provide an in-liquid processing apparatus for a photosensitive material capable of maintaining squeeze performance even if the photosensitive material curls.
感光材料に対する液処理の効率及び性能を向上して液処理を促進することにより、搬送経路を短縮して迅速処理を可能とし、感光材料がカールしていてもスクイズ性能を維持可能な、感光材料の液中処理装置を提供する。 - 特許庁
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