「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 .... 85 86 次へ＞- To provide a liquid processor in which occurrence of particles on a workpiece accompanying liquid processing of the workpiece is suppressed.
被処理体の液処理に伴って被処理体にパーティクルが発生することを抑制する液処理装置を提供する。 - 特許庁 - In a liquid chromatograph analyzing device, an automatic sampler 2, a liquid sending pump 4, a column oven 6 and a detection device 8 are controlled by a calculation processing device 12.
オートサンプラ２、送液ポンプ４、カラムオーブン６及び検出器８は演算処理装置１２によって制御される。 - 特許庁 - To provide a system for processing dirty liquid, surly suppressing nasty smell of the dirty liquid such as urine excretion of a pet.
ペットの排尿等の汚液による悪臭を確実に抑えることが可能な汚液処理システムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a dirty liquid processing device capable of certainly removing shavings and minute sludge and the like floating in liquid.
削り屑および液中を浮遊する微細なスラッジ等を確実に除去できるダーティー液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid droplet ejector which enables high-speed imaging processing, and a maintenance method for the liquid droplet ejector.
高速な描画処理を可能とする液滴吐出装置、および液滴吐出装置のメンテナンス方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a liquid chemical processing method and a liquid chemical processor for accurately comprehending the progress conditions of etching.
エッチングの進行状況を精度良く把握することのできる薬液処理方法及び薬液処理装置を提供する。 - 特許庁 - The signal processing circuit 30 detects the liquid level of a liquid on the basis of the response signals from the ultrasonic element 20.
信号処理回路３０は、超音波素子２０からの応答信号に基づいて液体の液面レベルを検出する。 - 特許庁 - To accurately detect inferior delivery of liquid by performing data processing only at timing for originally detecting delivery of the liquid.
本来液吐出を検知するタイミングでだけデータ処理を行うようにして、液吐出不良の検出を正確に行う。 - 特許庁 - The liquid crystal driving device 100 includes a liquid crystal controller 107 and specified color extension processing circuits 105, 106.
液晶駆動装置１００は、液晶コントローラ１０７と、特定色伸張処理回路１０５、１０６とを具備する。 - 特許庁 - To provide a coating processing device, capable of preventing solidification of coating liquid at the tip of a nozzle for ejecting the coating liquid.
塗布液を吐出するノズルの先端で塗布液の固化を防止することができる塗布処理装置を提供する。 - 特許庁 - To remove all the time static electricity charged in a container by simple processing to detect a liquid level of a liquid, at all times.
簡易な処理によって常に容器に帯電した静電気を除去して液体の液面を正常に検知する。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus also comprises a substrate processing portion in which a pad for soaking a predetermined liquid is disposed and which performs substrate processing for the surface to be processed of the substrate with the liquid.
また、前記基板処理装置は、所定の液体を染み込ませるパッドが配置されるとともに前記液体で前記基板の処理対象面の基板処理を行う基板処理部を備えている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus that can prevent liquid, when processing one surface and end surface part (edge part) of a substrate with the liquid, from sneaking in the other surface, and to provide a substrate processing method.
基板の一方の面と端面部分（エッジ部分）を液体により処理をする際に、他方の面側への液体の回り込みを防ぐことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The method for processing a substrate includes steps of: arranging a substrate formed with a photoresist film; providing a processing liquid for removing the photoresist film onto the substrate; and providing mist on the substrate to contact the processing liquid.
基板処理方法は、フォトレジスト膜が形成された基板を設け、フォトレジスト膜を除去するために処理液を基板上に提供し、処理液と接触するようにミストを基板上に提供する。 - 特許庁 - To provide a compact apparatus for processing a substrate, along with a method of processing the substrate, capable of processing the substrate by efficiently producing liquid containing nano-bubbles which are minute air bubbles and supplying the liquid to the substrate.
小型で効率良く、微小気泡であるナノバブルを含む液体を生成して基板に供給することで基板の処理ができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, the maximum flow rate of a processing liquid flowing through the common pipeline 23 can be limited to a fixed amount which is smaller than the amount when the processing liquid is supplied simultaneously to all substrate processing sections 10.
これにより、共通管路２３を流れる処理液の最大流量を、同時に全ての基板処理部１０に処理液を供給する場合に比べて小さい、一定量に制限することがきる。 - 特許庁 - Consequently, poor processing where the end face of the wafer W is processed with processing liquid or wax bonding the wafer W to a substrate is corroded with the processing liquid to cause stripping of the wafer W can be prevented.
よって、ウエハＷの端面が処理液で処理されたり、基盤にウエハＷを接着しているワックス等が処理液に浸食されて剥がれたりする等の処理不良を防止することができる。 - 特許庁 - To provide a resist substrate processing liquid capable of efficiently removing a resist residue remaining on the surface of a resist substrate after development, which also enables microfabrication of a pattern, and a method for processing a resist substrate using the resist substrate processing liquid.
現像後のレジスト基板表面に残存するレジスト残渣を効率的に除去でき、かつパターンの微細化も可能なレジスト基板処理液およびそれを用いたレジスト基板の処理方法の提供。 - 特許庁 - The manufacturing apparatus of processing liquid for manufacturing the processing liquid containing only nano bubbles, is provided with a nano bubble generator 5 generating minute bubbles in the processing liquid, a storage tank 1 storing the processing liquid containing bubbles made minute by the nano bubble generator, and a separation cage 2 and a centrifuge 23 separating and removing bubbles larger than nano bubbles among minute bubbles contained in the processing liquid stored in the storage tank.
ナノバブルだけを含む処理液を作る処理液の製造装置であって、 上記処理液に微細気泡を発生させるナノバブル発生器５と、ナノバブル発生器によって微細化された気泡を含む処理液を貯える貯液槽１と、貯液槽に貯えられた処理液に含まれる微細化された気泡のうち、ナノバブルよりも大きな気泡を分離除去する分離籠２及び遠心分離器２３とを具備する。 - 特許庁 - Also, the second lot not subjected to pair processing, so that a virtual resource PB1 at the first processing section is used for a processing period at a chemical liquid processing section CHB1, and a virtual resource PB2 at the second processing section is used over a processing period over the second processing section.
また、第２のロットの処理が非ペア内処理であるので、第１処理部の仮想リソースＰＢ１を薬液処理部ＣＨＢ１における処理期間にわたって使用し、第２処理部をまたいだ処理期間にわたって、第２処理部の仮想リソースＰＢ２を使用する。 - 特許庁 - In the liquid exchanging process for exchanging the processing liquid stored in the processing tank 10 to the sulfuric acid from the pure water and adjusting the liquid temperature of the sulfuric acid after exchange to the predetermined temperature; the pure water is exhausted first from the processing tank 10 and an external tank 20.
処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。 - 特許庁 - At this time, the processing liquid is adjusted to the pH and/or oxidation-reduction potential preferably so that, when the processing liquid comes into contact with the metal layer 2, a metal compound insoluble in the processing liquid is produced on a surface of the metal layer.
また、この際に、処理液は、金属層２に接触した際に、金属層の表面に処理液に対して不溶性の金属化合物が形成されるように、そのｐＨおよび／または酸化還元電位が調整されているのが好ましい。 - 特許庁 - The wafer W is lowered or raised, and the wafer W can be immersed in processing liquid stored in a processing liquid storage 23 of a cup 2 or can be extracted from processing liquid.
複数のスクリューピン１３を同期回転させることにより、ウエハＷを下降または上昇させて、ウエハＷをカップ２の処理液貯留部２３に貯留されている処理液中に浸漬させたり、その処理液中から脱出させたりすることができる。 - 特許庁 - To solve the problem that the normal coating application of a processing liquid is heretofore not possible because the components of the processing liquid are stuck near to the front end of a slot die as downtime passes by with a coating applicator which applies the processing liquid to a photosensitive material by the slot die.
スロットダイによる感光材料への処理液の塗布装置において、休止している時間経過にともなってスロットダイ先端部付近に処理液の成分が固着するために正常に処理液の塗布ができなかったことを解決する。 - 特許庁 - Thus, the processing liquid adhering to the recording paper once immersed in the processing liquid is hard to adhere to the guide surface 150A even when the paper touches the surface 150A of the guide 150, and the amount of the processing liquid remaining on the guide surface 150A is reduced.
これにより、処理液に浸漬されたカット記録紙がガイド部１５０のガイド面１５０Ａに接触しても、カット記録紙に付着している処理液が、ガイド面１５０Ａに付着しにくくなり、ガイド面１５０Ａへの処理液の付着量が低減される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that prevent operation failure and processing failure because of liquid adhering to a substrate in an aligner.
露光装置において基板に付着した液体による動作不良および処理不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - Further, the present invention relates to the liquid composition for surface processing used for the surface processing method, and the optical device having the substrate obtained by the surface processing method.
また、当該表面処理方法に用いる表面処理用液状組成物、及び当該表面処理方法により得られる基板を有する光デバイス。 - 特許庁 - To provide an image processing method and an image processing device for properly performing image processing of a work using the liquid lens.
上述のような液体レンズを用いて、ワークに対する画像処理を適切に行うことが可能な画像処理方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of applying a desired process to a substrate by a processing liquid provided with ultrasonic vibration; and a substrate processing method.
超音波振動が付与された処理液により所期の処理を基板に施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, the starting timing of circulation processing and temperature regulation processing can be quickened as compared with prior art liquid exchange processing.
これにより、循環処理を開始するタイミング、および温調処理を開始するタイミングを、従来の液交換処理と比較して早くすることができる。 - 特許庁 - To surely perform processing, while shortening the processing time, by spreading processing liquid quickly, even in fine contact holes.
微細な接続孔であっても処理液を接続孔内に迅速に拡散し、確実に処理を行うことができると共に処理時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁 - To provide a development processing device that performs processing with less electric power while preventing development processing liquid from deteriorating by suitably resetting a standby mode.
最適に待機モードを解除して現像処理液の劣化を防止すると同時に、省電力で処理をおこなう現像処理装置を提供する。 - 特許庁 - A nozzle N for jetting washing water or processing liquid to photographic paper received in a processing tank or photographic paper sent out of the processing tank is arranged.
処理槽に受け入れる印画紙、又は、前記処理槽から送り出される印画紙に対して洗浄水又は処理液を噴出するノズルＮを配置する。 - 特許庁 - To provide a processing device which can maintain processing liquid in a good condition, and can maintain a processing phenomenon by the EEM highly stably.
加工液を良好な状態に保つことができ、ＥＥＭによる加工現象を高度に安定に保つことができる加工装置を提供することにある。 - 特許庁 - By a lifter LH holding a substrate W and moving to/from the processing tank 10, the substrate W is immersed in the processing liquid and a prescribed substrate processing is performed.
リフターＬＨが基板Ｗを保持して処理槽１０に進退を行うことにより、基板Ｗを処理液中に浸漬して所定の基板処理を行う。 - 特許庁 - To enable a photographic processing device to be downsized and to sort many orders at a time without hindering the processing relating to a processing liquid, such as replenishing and recovering.
小型化を図るとともに、補給・回収といった処理液に関する処理を阻害することなく、より多くのオーダーを一度に仕分けることを可能とする。 - 特許庁 - To provide an apparatus of processing a substrate which can sufficiently prevent insufficient processing of a substrate due to deposit of a process liquid.
処理液の析出物に起因する基板の処理不良を十分に防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - LUBRICATING LIQUID FOR FORGING PROCESSING, WARM OR HOT FORGING PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF OUTER RING OF CONSTANT-VELOCITY JOINT
鍛造加工用潤滑液、温間または熱間鍛造加工方法および等速ジョイント外輪の製造方法 - 特許庁 - To provide a substrate processor for uniformly processing the entire part of the upper surface of the substrate using a small amount of processing liquid.
少量の処理液で基板上面全体を均一に処理することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus for cleaning a processing liquid adhering on a container with high cleaning effect and high efficiency in executing cleaning.
容器に付着した処理液を洗浄する際に、洗浄効果が高く、しかも効率のよい洗浄を行う。 - 特許庁 - In a rear surface processing section, a drying process is performed after a cleaning process is performed by supplying processing liquid to a substrate W.
裏面処理部において、基板Ｗに処理液を供給して洗浄処理を行った後に乾燥処理を行う。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of suppressing or preventing re-sticking of a processing liquid on a substrate.
基板に対する処理液の再付着を抑制または防止することができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a device for processing sensitive materials which prevents damage caused by sticking to each other of the rolls of a roll pair with processing liquid.
ローラ対のローラ同士が処理液によって貼り付くことによる損傷を防止すした感光材料処理装置。 - 特許庁 - To provide a development processing device with which temperature control can stringently be performed by suppressing the temperature rise of a development processing liquid.
現像処理液の温度上昇を抑制して温度管理を厳しく行える現像処理装置を構成する。 - 特許庁 - To provide a substrate-processing device capable of drastically reducing the amount of a processing liquid consumed than conventionally.
使用する処理液の量を従来よりも大幅に低減し得るような基板処理装置を提供することである。 - 特許庁 - Liquid exchange processing time for supplying sulfuric acid to the processing tank and regulating the temperature to a predetermined level can thereby be shortened.
そのため、硫酸を処理槽に供給し、かつ、所定の温度に温調する液交換処理時間を短縮できる。 - 特許庁 - The process (2) for processing the artificial cellulose fiber or a fabric containing the same is to rub the fabric in a liquid flow after the aforesaid heat processing.
(2) 前記加熱処理した後に、液流揉布する人造セルロース繊維または該繊維を含む布帛の加工方法。 - 特許庁 - COATING LIQUID FOR PROTECTIVE FILM FORMATION FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING, ITS ADJUSTING METHOD, AND PROTECTIVE FILM FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING OBTAINED FROM ADJUSTING METHOD
半導体加工用保護膜形成用塗布液、その調製方法およびこれより得られる半導体加工用保護膜 - 特許庁 - To reduce impurity contamination when specified processing is performed on a substrate using a processing liquid of alkaline solution.
基板に対してアルカリ溶液をなす処理液により所定の処理を行う際に不純物汚染を少なくすること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of uniformly performing processing using a treatment liquid to the entire region of the surface of a substrate.
基板の表面の全域に、処理液を用いた処理を均一に施すことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
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