To improve a non-defective percentage and to prevent contamination due to a processingliquid and/or a cleaning liquid to a semiconductor device. 良品率を向上し、かつ半導体製造装置への処理液・洗浄液による汚染を防ぐこと。 - 特許庁
To improve the quality of a substrate by preventing dripping of unnecessary processingliquid from a liquid knife onto a substrate. 液ナイフから基板上に不要な処理液が滴下するのを防止し、これによって基板の品質向上を図る。 - 特許庁
To send a liquid at a prescribed speed without entrained air bubbles even in the case of an extremely small quantity of processingliquid. 処理すべき液体が極少量であっても、気泡を混入せず所定の流速で送液できる。 - 特許庁
Then, the water flow resistance of the processingliquid flowing into nozzle holes 156 is small and the liquid is stably injected. したがって、ノズル孔156に流入する処理液の流水抵抗が小さく、安定的に噴射される。 - 特許庁
A turbulent flow accompanying the supply of liquid of the processing vessel 2 and a turbulent flow accompanying the overflow of the liquid are suppressed. 処理槽2内への液供給に伴う乱流と、その液のオーバフローに伴う乱流が抑制される。 - 特許庁
The supercritical substance in the liquid state L1 is replaced with processingliquid (S6) to process the object surface (S7). 液体状態L1の超臨界物質を処理液で置換し(S6)、処理表面の処理を行う(S7)。 - 特許庁
To provide a device having a liquid crystal screen which allows for input processing even when the liquid crystal screen is broken. 液晶画面を有する装置において、液晶画面が故障していても入力処理を可能にする。 - 特許庁
OIL AND FAT COMPOSITION FOR FOOD, AND PICKING LIQUID FOR MEAT PROCESSING BY USING THE SAME 食品用油脂組成物及びこれを用いた食肉加工用ピックル液 - 特許庁
To provide a liquid crystal display system which improve the processing capability of a CPU by reducing the load of display processing of a liquid crystal screen on the CPU. 液晶画面の表示処理におけるCPUの負荷を軽減し、CPUの処理能力を向上させる液晶表示システムを提供する。 - 特許庁
To reduce greatly a necessary space, and simultaneously to improve efficiency of a liquid distributing and processing work, in a liquid distributing and processing system. 液体分配及び処理システムにおいて、必要なスペースを大幅に節減しながら、液体の分配及び処理作業の効率を向上すること。 - 特許庁
To provide a coating and drying device capable of suppressing the occurrence of a coating spot of prescribed processingliquid on a coated substrate having been coated with the prescribed processingliquid. 所定の処理液が塗布された塗布済み基板に処理液の塗布斑が生じるのを抑制することができる塗布乾燥装置を提供する。 - 特許庁
To prevent a processingliquid adhering to a nozzle member from dropping onto a substrate. ノズル部材に付着した処理液が基板上に滴下するのを防止する。 - 特許庁
THERMOTROPIC LIQUID CRYSTAL TERPOLYESTER CAPABLE OF MELT PROCESSING AND MANUFACTURING OF THE SAME 溶融加工可能なサーモトロピック液晶ターポリエステル及びその製造方法 - 特許庁
To provide a device for processing a substrate by which the substrate is processed with a process liquid, and a cup body and a processing tank are cleaned with a cleaning liquid with a simple configuration. 簡単な構成で基板を処理液で処理したり、カップ体と処理槽を洗浄液で洗浄できる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁
SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE 基板処理方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法 - 特許庁
INSPECTION SYSTEM FOR STN LIQUID CRYSTAL DISPLAY, PROCESSING METHOD THEREFOR, AND COMPUTER PROGRAM STN液晶ディスプレイ検査システム、その処理方法及びコンピュータプログラム。 - 特許庁
By irradiating UV light to an area wherein the processingliquid (SA) and the ink are hit from a preliminarily hardening light source 27A to make the processingliquid (SA) and the ink semi-hardened. 処理液(SA)及びインクが打滴された領域に予備硬化光源27AからUV光を照射して、処理液(SA)及びインクを半硬化させる。 - 特許庁
To stabilize the feed rate of the evaporated gas of liquid raw material supplied to a processing chamber. 液体原料の気化ガスの処理室への供給を安定させる。 - 特許庁
To provide a solid-liquid separator that transfers processing object such as sludge without clogging and is capable of efficiently separating the liquid from the processing object. 汚泥などの処理対象物を詰まらせることなく搬送し、その処理対象物から効率よく液体を分離できる固液分離装置を提案する。 - 特許庁
The contact mass of the hardly-soluble magnesium compound to the water-soluble processingliquid may be controlled to be 10-500 g/L with respect to the volume of the water-soluble processingliquid. 難溶性マグネシウム化合物の水溶性加工液への接触質量を、水溶性加工液の容量に対して、10〜500g/Lとするとよい。 - 特許庁
As a result, the delivery of the uncompleted replenishing liquid to a developing tank 74 and the deviation of the processingliquid of the processing tank 74 from optimum values may be prevented. これにより、未完成の補充液が現像槽74へ送出されて処理槽74の処理液が最適値から外れることを防止できる。 - 特許庁
When a bottle B is loaded in a liquid receiving part 36 and a processing agent flows out toward the receiving part 36, the processing agent is fed to a replenishment tank 12 through a liquid feeding pipe 40. ボトルBが液受け36へ装填され、受け部36へ処理剤が流出すると、送液パイプ40を通じて、処理剤が補充槽12へ送られる。 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND CLEANING LIQUID USED FOR THE SAME 感光性平版印刷版の処理方法及びそれに用いる洗浄液 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING SHIP BALAST WATER AND METHOD FOR MANUFACTURING STERILIZED LIQUID 船舶バラスト水処理方法ならびに生物を殺滅した液体の製法 - 特許庁
To provide a substrate processor for conducting processes on the front surface of a substrate using a processingliquid without splash of the processingliquid to the periphery of substrate. 基板の周囲に処理液を飛散させることなく、基板の表面に処理液による処理を施すことができる、基板処理装置を提供する。 - 特許庁
POST CMP PROCESSINGLIQUID AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME ポストCMP処理液、およびこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
When the Peltier element 42 is energized, the heat from the high temperature side is transferred to the waste processingliquid L of the evaporation tray 24 and the waste processingliquid L is gradually thickened. ペルチェ素子42が通電されると高温側からの熱が蒸発皿24の処理廃液Lに伝わり、処理廃液Lは徐々に濃縮される。 - 特許庁
To provide an excellent processing method which improves working efficiency of a wire electric discharge machining by using the liquid contacting with a ceramics ball as the processingliquid. セラミックボールに加工液を接触させた液体を用いることにより,ワイヤ放電加工等の作業効率を向上させる優れた加工方法を提供する。 - 特許庁
To perform recovery processing without consuming power and liquid drop uselessly. 無駄な電力および液滴を消費することなく回復処理を行う。 - 特許庁
REPLENISHING METHOD OF REPLENISHING LIQUID AND REPLENISHING MECHANISM FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE 補充液の補充方法及び感光材料処理装置の補充機構 - 特許庁
PRESERVED FLOWER HAVING PLURALITY OF COLORS IN PETAL, ITS PREPARATION METHOD AND PROCESSINGLIQUID THEREFOR 花弁に複数の色を持つプリザーブドフラワー、及びその作り方と加工液。 - 特許庁
To provide a gas-liquid separator and a substrate processing apparatus including the same. 気液分離装置及びこれを含む基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
After that, the inspection section 8 photographs the image of the container including the internal liquid, and an image processing section 17 detects a foreign matter in the liquid by processing this image. この後で検査部8は、内部液体を含む容器映像を撮映し、画像処理部17は、この画像を処理することで液体内異物を検出する。 - 特許庁
To suppress scattering of liquid drop into a recovery processing apparatus in preliminary ejection recovery processing where recording liquid is ejected continuously from a recording head. 記録用の液体が連続して記録ヘッドから吐出される予備吐出回復処理において、液滴が装置内に飛散することを抑制することができること。 - 特許庁
A liquidprocessing apparatus processes an under surface and a side surface of the body W to be processed. 液処理装置は、被処理体Wの下面と側面を処理する。 - 特許庁
To control an angle of visibility by simple data processing in a liquid crystal device. 液晶装置において、単純なデータ処理により視野角を制御する。 - 特許庁
Initialization processing in turning on the power to the liquid crystal display device is conducted. 液晶表示装置の電源投入時の初期設定処理を行う。 - 特許庁
To provide a liquidprocessing apparatus which facilitates transportation, assembly and maintenance. 輸送や組み立て、メンテナンスを容易とした液処理装置を提供すること。 - 特許庁
By the above optical configuration, the discharge state of the processingliquid R can be detected independently of the strength of color of the processingliquid R. 前記した光学的な構成によると、処理液Rの色の濃さに依存されることなく、処理液Rの吐出状態を検知することができる。 - 特許庁
A plurality of substrates W is immersed in the processingliquid of an inner bath together with a holding mechanism 29, then, the substrate W is treated with the processingliquid. 複数枚の基板Wが保持機構29ごと内槽1中の処理液に浸漬されるので、処理液による基板Wに対する処理が行われる。 - 特許庁
OPERATION METHOD OF NUCLEAR REACTOR PLANT AND WASTE LIQUIDPROCESSING METHOD OF NUCLEAR REACTOR PLANT 原子炉プラントの運転方法及び原子炉プラントの廃液処理方法 - 特許庁
DIGITAL SIGNAL PROCESSING CIRCUIT, AND LIQUID CRYSTAL PROJECTOR AND DISPLAY USING THE CIRCUIT デジタル信号処理回路、これを用いた表示装置および液晶プロジェクタ - 特許庁
The ink head 34Y discharges ink droplets from a plurality of nozzles 35A, and the processingliquid head 34L discharges processingliquid droplets from a plurality of nozzles 35B. インク用ヘッド34Yは、複数のノズル35Aからインク滴を吐出し、処理液用ヘッド34Lは、複数のノズル35Bから処理液滴を吐出する。 - 特許庁
A processingliquid supply pipe 412 is grounded through a conducting wire 49. 処理液供給管412は導電線49を介して接地される。 - 特許庁
To provide a processing-liquid applying method which enables a uniform application of a processingliquid to the whole region of the surface of a substrate without requiring any large amount of resist. 多量のレジストを必要とすることなく基板の表面全域に均一に処理液を塗布することができる処理液塗布方法を提供すること。 - 特許庁
AUTOMATIC DEVELOPING DEVICE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL HAVING PROCESSINGLIQUID TEMPERATURE CONTROL MEANS 処理液温度制御手段を有する感光材料用自動現像装置 - 特許庁
Same solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from the liquid discharge nozzle 30 as rinse liquid after a development processing and a rinse processing is performed. 現像処理後に液体吐出ノズル30からリンス液として界面活性剤を含む同じ溶液をレジスト膜上へ吐出してリンス処理する。 - 特許庁
Subsequently, gaseous argon is dissolved in the display liquid S before processing by bubbling carried out with injection of the gaseous argon into the display liquid S before processing with a gas cylinder 80. その後、ガスボンベ80により処理前表示液Sにアルゴンガスを注入してバブリングを実行し、アルゴンガスを処理前表示液Sに溶解させる。 - 特許庁