「second layer」を含む例文一覧(21455)
＜前へ 1 2 .... 30 31 32 33 34 35 36 37 38 .... 429 430 次へ＞- The value of amplitude in roughness of the interface between the second ferromagnetic layer 23 and the non-magnetic layer is h2.
第２強磁性層２３と非磁性層との間の界面のラフネスの振幅の値はｈ２である。 - 特許庁 - Then, the film thickness of the first base layer 2 is made thinner than the film thickness of the second base layer 3.
そして、第１の下地層２の膜厚を第２の下地層３の膜厚より薄くした。 - 特許庁 - A second wiring layer 15 composed of conductive paste is formed on the insulating resin layer 14.
次に、絶縁性樹脂層１４の上に導電ペーストからなる第２の配線層１５を形成する。 - 特許庁 - The first negative electrode layer 4a is formed to have a lower compressive stress than the second negative electrode layer 4b.
第１陰極層４ａは第２陰極層４ｂよりも圧縮応力を低く形成する。 - 特許庁 - The inner liner 8 is made by stacking the film layer 81 and the second layer 82.
また、インナーライナ８が、第一フィルム層８１と第二フィルム層８２とを積層して構成されている。 - 特許庁 - An additional dielectric layer 130 may be provided between the dielectric layer 120 and the second electrode 140.
誘電層１２０と第２電極１４０の間に追加誘電層１３０を設けてもよい。 - 特許庁 - Thence, a photoconductive layer is formed as a second layer by the impressed electric power P2 attaining P1<P2.
次いで、第２層として光導電層を、Ｐ１＜Ｐ２となる印加電力Ｐ２にて形成する。 - 特許庁 - A contact layer 8 is formed on the second clad layer 7 and the current block layers 6.
上部第２クラッド層７および電流ブロック層６の上には、コンタクト層８が形成されている。 - 特許庁 - Furthermore, an electrode layer 60 of which the refractive index is lower than that of the second layer 40 is formed on this.
さらに、この上に、第二の層４０よりも屈折率の低い電極層６０を形成する。 - 特許庁 - A second element separation region 210 not extending to the insulating layer is formed on the third semiconductor layer.
第３半導体層には絶縁層に到達しない第２素子分離領域２１０を形成する。 - 特許庁 - The daylight is reflected on and blocked at the first layer and the ultraviolet rays are blocked at the second layer.
第１の層では日光を反射および遮断し、第２の層では紫外線を遮断する。 - 特許庁 - The second diffusion prevention layer 19 has a wider shape than that of the diffusion prevention layer 21.
第２の拡散防止層１９は第３の拡散防止層２１より幅広の形状を有する。 - 特許庁 - The feeder 14 is held between a first shield layer 12S and a second shield layer 17S.
給電線１４は第１のシールド層１２Ｓと第２のシールド層１７Ｓとの間に挟まれている。 - 特許庁 - Finally, alumina in the layer 7 is selectively etched by phosphoric acid to lift-off the second deposited layer.
最後に、リン酸で犠牲層７のアルミナを選択エッチングし、第２の堆積層６ｂをリフトオフする。 - 特許庁 - The first skin layer 62 can be thereby formed thinner than the second skin layer 64.
これにより、第一表皮層６２を第二表皮層６４よりも薄く形成することができる。 - 特許庁 - The second light emitting unit 15-2 is provided with a blue luminous layer 15c-3 as the organic luminous layer.
第２発光ユニット１５-2は、有機発光層として青色発光層１５ｃ-3を備えている。 - 特許庁 - A difference in a thermal expansion coefficient between the first layer and the second layer is set within 1.0 ppm/K.
また、第１の層と第２の層との熱膨張係数の差が１．０ｐｐｍ／Ｋ以内とする。 - 特許庁 - This semiconductor device includes: a first wiring layer 12; a second wiring layer 16; and a switch via 35.
この半導体装置は、第１配線層１２、第２配線層１６、及びスイッチビア３５を備える。 - 特許庁 - The thin film transistor array can include a first metalized layer (214) and a second metalized layer (218).
薄膜トランジスタ・アレイは、第一の金属化層（２１４）及び第二の金属化層（２１８）を含み得る。 - 特許庁 - As a second process, a resin layer for the optical waveguide is further laminated on the lower clad layer 3.
第２の工程として、下部クラッド層３の上に光導波路用樹脂層をさらに積層する。 - 特許庁 - A second transparent electrode layer 18 is formed in a back face 17a of the organic electroluminescent layer 17.
有機エレクトロルミネッセンス層１７の背面１７ａには第２電極層１８が形成されている。 - 特許庁 - Then a second electrode layer 24 is deposited on the piezoelectric layer 22 by using, for instance, the sputtering method.
次いで、圧電層２２上に第２電極層２４を、例えばスパッタリング法を用いて成膜する。 - 特許庁 - This photodiode element (20) includes a first layer having a first diffusion type, and a second layer.
フォトダイオード素子（２０）が、第一の拡散形式を有する第一の層と、第二の層とを含んでいる。 - 特許庁 - The second clad layer is formed of a quartz glass while the third clad layer 4 formed of silicon resin.
第２クラッド層３を石英系ガラスにより、第３クラッド層４をシリコーン樹脂により形成する。 - 特許庁 - Each of the actuators has a first end supporting the cover layer and a second end supporting the support layer.
各アクチュエータは、カバー層を支持する第１端と、支持層を支持する第２端とを有する。 - 特許庁 - By the covering of this double-layer structure, the transmission of heat from the second layer 14 to the blade 2 is prevented.
この２層構造の被膜によって、熱の第二層１４からブレード１２への伝達を防ぐ。 - 特許庁 - The first fin silicon layer 106 is lower in height than the second fin silicon layer 108.
第１のフィン型シリコン層１０６は、第２のフィン型シリコン層１０８よりも高さが低い。 - 特許庁 - Thereafter, the first metal layer 6 is etched with nitric fluoric acid via the second metal layer 6.
その後、フッ硝酸で第２金属層１０を媒介して第１金属層６をエッチングする。 - 特許庁 - An electric resistance value of the first electrode layer and an electric resistance value of the second electrode layer are the same.
第１電極層の電気抵抗値と第２電極層の電気抵抗値とは同じである。 - 特許庁 - The thickness of the first metal coating layer 30 is smaller than that of the second metal coating layer 40.
第１金属被覆層３０の厚みは第２金属被覆層４０の厚みよりも小さい。 - 特許庁 - Image quality represented by first layer reproduction data is higher than that represented by the second layer reproduction data.
第１層再生用データが示す画質は、第２層再生用データが示す画質より高い。 - 特許庁 - The first conductivity type buried layer 25 is formed on the second conductivity type buried layer 23.
第１導電型埋め込み層２５は、第２導電型埋め込み層２３上に設けられている。 - 特許庁 - The first bonding layer is brought into contact with the second bonding layer and heated, and then both are bonded.
第１の接合層と第２の接合層とを接触させて加熱し、両者を接合する。 - 特許庁 - The first reflective layer 32, the optical modulation film 34, and the second reflective layer 40 constitute a resonator.
第１反射層３２、光変調膜３４、第２反射層４０は共振器を構成する。 - 特許庁 - A second heat-resistance reinforcing layer 142 is formed on a first amorphous photoconductive layer 141.
また、第１の非晶質光導電層１４１上に第２の耐熱強化層１４２を設ける。 - 特許庁 - A part of the second rewiring layer 7 is formed at a position overlapping the first rewiring layer 5.
第２再配線層７の一部は第１再配線層５に重なる位置に形成されている。 - 特許庁 - An Sn-Ag based fusion forming layer 17 is formed tightly on the second Cu layer 16.
第２のＣｕ層１６にはＳｎ−Ａｇ系溶融成形層１７が密着形成されている。 - 特許庁 - A laminated base plate, wherein a second layer 12 is formed on the surface of a first layer 11, is prepared.
第１の層１１の表面上に第２の層１２が形成された積層基板を準備する。 - 特許庁 - A first shield layer 28 and a second shield layer 41 are located at a distance from each other.
第１のシールド層２８及び第２のシールド層４１は、互いに間隔を隔てて配置されている。 - 特許庁 - The second layer 17B2 and the conductive connection layer 25 are formed of the same materials.
第２の層１７Ｂ２と導電性接続層２５とは同一の材料により構成されている。 - 特許庁 - Extending therethrough of the second dielectric layer is carried out so that a front surface of the primary dielectric layer may be covered.
第２の誘電体層は第１の誘電体層の表面を覆うように延在する。 - 特許庁 - The method and system have also a process step of providing a rigid magnetic layer on the second side of the free layer.
本方法及びシステムは、フリー層の第２の側に硬質磁性層を設ける工程も有する。 - 特許庁 - The second layer 20b has a expansion coefficient lower than that of the first layer 20a.
これにより、第２の層２０ｂは、第１の層２０ａよりも水素膨張率が低くなっている。 - 特許庁 - A lower contact is formed in the second insulation layer electrically connected to the metallic layer.
下部コンタクトを金属層と電気的に接続されるよう第二の絶縁層内に形成する。 - 特許庁 - The light-emitting part is provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.
前記発光部は、前記第１半導体層と前記第２半導体層との間に設けられる。 - 特許庁 - Existing part of the second spacer layer 57 is arranged, in response to the space of the spacer layer 53.
第２スペーサ層５７の実在部分は、スペーサ層５３の空間に対応して配置されている。 - 特許庁 - The anti-fogging sheet is constituted by laminating a first layer and a second layer on a substrate, in that order.
本発明の防曇性シートは、基材上に第１層と第２層が順に積層されてなる。 - 特許庁 - The first metal layer includes scan lines and gates, and the second metal layer includes data lines and sources/drains.
第一金属層は走査線とゲートを有し、第二金属層はデータ線とソース／ドレインを有する。 - 特許庁 - When viewed from above, the opening of the insulation layer and the second contact layer do not overlap with each other.
上方からみて、前記絶縁膜の前記開口部と、前記第２コンタクト層とは、重ならない。 - 特許庁 - The wiring parts of the first electrode layer and the wiring parts of the second electrode layer are subjected to electroless plating.
第１電極層の配線部と第２電極層の配線部とに無電解メッキを施す。 - 特許庁
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