「surface analysis」を含む例文一覧(773)

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  • A rigidity analyzing apparatus 108 calculates a force applied on the mold 72 for molding by the back surface 54 caused by deformation of the material 50 under the semi-solidifying condition by utilizing the result of the deformation analysis, the rigidity data and restricting conditions.
    剛性解析装置108は、変形解析結果と剛性データと拘束条件とを利用して、半凝固状態の材料50が変形しようとすることに起因してその裏面54が成形型72に加える力を算出する。 - 特許庁
  • The analysis is provided with a semiconductor substrate 1, the low dielectric constant film 3 formed on the semiconductor substrate, a plurality of dummy pattern 7 groups formed in the low dielectric constant film, and a metal film 6 formed on the surface of the low dielectric constant film.
    半導体基板1と、この半導体基板上に形成された低誘電率膜3と、この低誘電率膜内に形成された複数のダミーパターン7群と、低誘電率膜の表面に形成された金属膜6を有する。 - 特許庁
  • The transmission electron microscope having a sample arranged in a sample surface 9b includes an objective lens 11b, a first projection lens system 61b having a plurality of lenses, a second projection lens system 63b having a plurality of lenses, and the analysis system.
    試料面内9bに試料を配置した透過電子顕微鏡は、対物レンズ11b、複数のレンズを有する第1投影レンズ系61b、複数のレンズを有する第2投影レンズ系63b、および分析系を備える。 - 特許庁
  • To obtain a near-field optical probe capable of also properly performing spectroscopic analysis in a desired wavelength region in order not only to grasp the surface properties of a sample but also to analyze the component or the like thereof.
    本発明は、試料の表面形状の把握と共に、その成分等の解析も行うために、所望の波長域における分光分析も適正に行うことのできる近接場光学用プローブを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The shape model of the vehicle body is read (S101), a shape model B is created by dividing the surface of the shape model of the vehicle body into elements, and an analysis model C is set by arranging this shape model B in a calculation space A (S102).
    車体の形状モデルを読み込み(S101)、車体の形状モデルの表面を要素化して形状モデルBを生成し、この形状モデルBを計算空間A内に配設して解析モデルCを設定する(S102)。 - 特許庁
  • A beveled portion of the semiconductor wafer is covered with a light shield cover and in this state, a Fourier transform spectral analysis of a surface of the semiconductor wafer is performed, so that light with which the outer circumferential portion of the wafer is irradiated is not incident on the beveled portion.
    半導体ウェーハの面取り部を遮光カバーにより被い、この状態で半導体ウェーハの表面のフーリエ変換分光分析を行うので、ウェーハ外周部に照射された光は、面取り部に入射されない。 - 特許庁
  • A membrane element generation part 40 extracts only the data associated with a free surface and different material interface of the analysis object, a contact interface, an inner face of an inside air gap, a cracked inner face, and a fracture inner face among this FEM result data as face data.
    膜要素生成部40では、このFEM結果データのうち、解析対象の自由表面や異材質界面、接触界面、内部空隙内面、亀裂内面、割れ目内面に関するデータのみを面データとして抽出する。 - 特許庁
  • To provide a gas flow cell allowing accurate consecutive high-sensitivity gas analysis without contamination of a surface of a mirror, an optical window or the like present in each of both ends of the gas flow cell caused by particles occurring inside a process chamber.
    プロセスチャンバーの内部で発生したパーティクルによって、ガスフローセルの両端にあるミラーや光学窓等の表面が汚染されることがなく、正確な高感度ガス分析を継続して行なうことが可能なガスフローセルを提供する。 - 特許庁
  • To provide a pretreating method for metal analysis and its device capable of preventing recontamination such as re-oxidation of the surface of a sample in a sputtering process, and thus providing a correct analyzed value always even when the sputtering is repeated.
    スパッタリングの過程で生ずる再酸化などの試料表面の再汚染を防止し、それによりスパッタリングを繰り返しても常に正しい分析値を与えることのできる金属分析の予備処理方法および装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a cornea shape analysis apparatus capable of extracting a punctate superficial keratitis region from an image taken non-invasively by the ring pattern projection on the surface of a cornea and analyzing the extent of the keratitis quantitatively.
    角膜表面へのリングパターン投影によって非侵襲的に撮像された画像から、点状表層角膜炎領域を抽出し、その程度を定量的に解析することを可能にする、角膜形状解析装置を提供すること。 - 特許庁
  • First, by performing structure analysis using design shape in designing the object O, the coordinates of one or more feature points Pn, preset on the surface of the object O, are calculated as analyzed coordinates.
    まず、対象物Oに関する設計上の設計形状を用いた構造解析を行うことによって、対象物Oの表面に予め設定された一つ以上の特徴点Pnの座標が解析座標として算出される。 - 特許庁
  • To provide a column having a fixing phase with a very large surface area as a hollow capillary column provided in a separation analysis field such as liquid chromatograph and electric chromatography and the manufacturing method of the column.
    液体クロマトグラフィー及び電気クロマトグラフィーなど、分離分析分野に供する中空キャピラリーカラムとして、非常に大きな表面積を有する固定相を持つカラムを提供すると共に、そのカラムの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The active carbon carrier is composed of fibrous active carbon and characterized by having a surface acidic functional group by XPS analysis of at least 1.0% and a gas-permeability of at least 200 cm^3/cm^2s.
    本発明にかかる活性炭担体は、繊維状活性炭により構成され、XPS分析による表面酸性官能基が1.0%以上であって、通気性が200cm^3/cm^2・s以上であることを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a total reflection fluorescent X-ray analysis method and a device for use in the same, which detect or quantitatively analyze a metal contaminant element on the surface of a silicon wafer at high sensitivity and which can accurately obtain the positional information thereof.
    シリコンウエハ表面の金属汚染物元素を高感度で検出あるいは定量分析し、その位置情報を正確に得ることができる全反射蛍光X線分析方法及びそのために使用する装置を提供する。 - 特許庁
  • Four vibration sensors 1 of the same type are installed on the ground surface and are connected to a signal-recording device 2 with a signal cable, and the signal-recording device 2 is connected to an analysis device 3 with the signal cable.
    4個の同一型の振動センサ1が地表に設置してあり、それぞれの振動センサ1は信号ケーブルで信号収録装置2に結ばれており、信号収録装置は信号ケーブルで解析装置3に結ばれている。 - 特許庁
  • By using actually measured data for which thresholds to a plurality of the MOS FETs of different gate lengths manufactured under the same process condition are actually measured and the analysis model of the threshold of the MOS FET, the impurity density distribution within the substrate of the channel surface of the MOS FET is calculated.
    同一プロセス条件で製造されたゲート長の異なる複数のMOS FET に対する閾値を実測した実測データとMOS FET の閾値の解析モデルを用いて、MOSFET のチヤネル表面の基板内不純物濃度分布を算出する。 - 特許庁
  • This dispensing nozzle 11 and automatic analysis apparatus have a holding cylinder section 11a for holding discharge object liquid and a discharge end surface 11b, that is formed at the tip of the holding cylinder section, sucks the liquid, and forms a delivery opening 11c.
    分注対象の液体を保持する保持筒部11aと、保持筒部の先端に形成され、液体を吸引し、吐出する開口11cが形成された吐出端面11bとを有する分注ノズル11及び自動分析装置。 - 特許庁
  • If the image analysis unit 43 determines that the piece of paper is blocking the plurality of ink ejection outlets, an object removal work control unit 44 controls an object removal unit 170 to remove the piece of paper from the ink ejecting surface.
    複数のインクの吐出口が紙片によって遮蔽されていると画像解析部43が判定すると、異物除去作業制御部44は、異物除去ユニット170を制御して、インク吐出面から紙片を除去させる。 - 特許庁
  • To reduce influence of unknown or unspecified material exerting an influence on measurement accuracy, concerning a mass spectrometer or the like used for analysis of the contamination state of soil or ground water such as surface layer soil gas examination.
    表層土壌ガス調査等、土壌や地下水の汚染状況の分析において用いられる質量分析装置等に関して、測定精度に影響を与える未知または不特定の物質の影響を軽減することを課題とする。 - 特許庁
  • To sample quickly a slice specimen processed for analyzing by observation, instrumental analysis or the like by means of TEM or STEM, a foreign matter or a defect existing on the surface of a semiconductor wafer or the like or inside thereof.
    本発明の目的は、半導体ウェハ等の表面や内部にある異物や欠陥などをTEMもしくはSTEMで観察や分析など解析するために加工された薄片試料を迅速に採取することに関する。 - 特許庁
  • For the developer particle moved from the developing roll side to the agitating carrying roll side over the moving boundary surface, the physical properties thereof are converted to those as the continuous body, and dynamic analysis using oiler element is performed (S242-NO, S246 and S248).
    現像ロール側から移動境界面を越えて攪拌搬送ロール側に移動した現像剤粒子に関して、連続体としての物性に変換しオイラー要素を用いた動解析を行なう(S242−NO,S246,S248)。 - 特許庁
  • To provide a multilayer thin-film analysis and a measuring apparatus for applying white X rays to a sample surface at an extremely low angle and for determining a multilayer film structure useful for specification of a thin film, a multilayer film, or the like by selecting a depth.
    試料表面に極く低角に白色X線を入射し、薄膜や多層膜等の特定化に有用な多層膜構造を深さを選択しながら決定できる多層薄膜分析方法および測定装置を提供する。 - 特許庁
  • When a heating region H1 is judged to be in a local overheating state from partial burns of the surface of a barrel or heater or the analysis of actual molding defects, the angle of an air blow nozzle is set so as to blow air against the barrel or heater effectively.
    バレルやヒータの表面の部分的な焼けや実際の成形不良分析から加熱区域H1が局部過熱状態であると判断されるときは、有効に空気吹き付けされるよう空気吹き付けノズル角度を与える。 - 特許庁
  • A method for evaluation of the metal contamination in the semiconductor substrate includes a step of forming a roughened area on one surface out of both sides of the semiconductor substrate, a step of heating the semiconductor substrate after forming the roughened area on one surface and a step for analysis of a metal component in a solution after scanning the roughened area with the solution.
    半導体基板の表裏面の一方に粗面化領域を形成すること、上記粗面化領域形成後の半導体基板を加熱処理すること、および上記粗面化領域上に溶液を走査させた後、該溶液中の金属成分を分析すること、を含む半導体基板の金属汚染評価方法。 - 特許庁
  • A coat containing an azole compound with a carbonyl group is formed on a copper foil main body surface, an MMP contact angle is 19° or less, preferably, an amount of C=O of the copper foil surface is 2 to 8 atm% by XPS analysis, and the coat may contain an amine compound.
    銅箔本体表面に、カルボニル基を有するアゾール化合物を含有する皮膜が形成されており、NMP接触角が19°以下である銅箔であり、好ましくは銅箔表面のC=O量はXPSによる分析で2〜8atm%であり、上記皮膜にはアミン化合物が含ませてもよい銅箔。 - 特許庁
  • The copper foil includes a surface treatment layer which has at least a part of a copper foil surface with azole-based compound and C=O and N and C detection amount obtained by detecting N and C through depth-direction analysis by XPS, and which has an average value D_0 of 2.0-5.0 nm in a depth range larger than a background level.
    銅箔表面の少なくとも一部にアゾール系化合物及びC=Oを有する表面処理層が形成され、XPSによる深さ方向分析で、N及びCを検出し、且つ、N及びC検出量がバックグラウンドレベルよりも大きい深さ範囲の平均値D_0が2.0〜5.0nmである銅箔。 - 特許庁
  • To provide a sample pre-treatment system for the fluorescent X-ray analysis including a sample pre-treatment device for drying a work present on a substrate surface after dissolution, and holding it on the substrate surface which can prevent corrosion and prolong the service life of a carrier or the like located outside the sample pre-treatment device.
    基板表面などに存在する被測定物を溶解後乾燥させて基板表面に保持する試料前処理装置を含む蛍光X線分析用試料前処理システムなどにおいて、試料前処理装置の外部にある搬送装置などの腐食防止および長寿命化を十分に図れるものを提供する。 - 特許庁
  • The fiber structure containing a polyester fiber has the surface atom number ratios O1S/C1S and N1S/C1S determined by electron spectroscopy for chemical analysis (ESCA) by X-ray irradiation is higher than that of the part at a depth of ≥0.5μm from the surface by ≥0.02.
    ポリエステル系繊維を含む繊維構造物であって、該ポリエステル系繊維表面の、X線照射による電子分光法(ESCA)による測定で求められる原子数比O1S/C1SおよびN1S/C1Sの値が、繊維表面から少なくとも0.5μm以上の深部の値に比べて0.02以上増加していることを特徴とするものである。 - 特許庁
  • It is checked that the taken aroma ingredient is emitted from the skin surface of the body by GC/MS analysis after the oral ingestion of the capsule obtained by injecting various kinds of natural essential oil containing the aroma ingredient in the capsule though perfume is sprayed to the surface of the body in the conventional case.
    従来は体の表面に香水を噴霧したりしていたが、芳香成分を含有する各種の天然精油をカプセル内に注入したカプセルを、経口服用後、服用した芳香成分が体の皮膚の表面から服用した芳香成分が放出された事をGC/MS分析により確認する。 - 特許庁
  • In the fiber structure, the ratio of number of atoms represented by OIS/CIS and NIS/CIS of a polyester-based fiber surface obtained by measurement using electron spectroscopy for chemical analysis (ESCA) by X ray irradiation is increased by 0.02, compared with a value of a part which is least ≥0.5 μm deeper from the fiber surface.
    ポリエステル系繊維表面の、X線照射による電子分光法(ESCA)による測定で求められる原子数比O1S/C1SおよびN1S/C1Sの値が、繊維表面から少なくとも0.5μm以上の深部での値に比べて0.02以上増加していることを特徴とするポリエステル系繊維構造物。 - 特許庁
  • To provide an inspection/analysis system which can use an infrared imaging device or both it and a laser imaging device to automatically measure the float or both the floats and cracks of wall surface in a single process and then automatically analyze the pick-up image to extract/determine a defect, in failure check of wall surface for tunnels, etc. by using an inspection vehicle.
    計測車によるトンネル等の壁面の不具合計測において、赤外線撮像装置或は該撮像装置とレーザ撮像装置の両方を使用して壁面の浮き或は浮きとひび割れの両方を1工程で自動計測し、撮像画像を自動解析して不具合を抽出・判定できるシステムを提供する。 - 特許庁
  • The method for X-ray analysis of the sample includes directing of a beam of X-rays to impinge on an area of the periodic feature on the surface of the sample, and receiving the X-rays scattered from the surface in a reflection mode so as to detect a diffraction spectrum in the scattered X-rays as a function of the azimuth.
    試料をX線解析する方法は、試料の表面上の周期構造の領域に衝突するようにX線ビームを方向付け、方位角の関数として散乱X線の回折スペクトルを検出するように反射モードで表面から散乱したX線を受け取ることを含む。 - 特許庁
  • To quickly provide a sufficiently small dried subject, in a sample pretreatment device for recovering a deposit after dissolved in a solution to prepare the dried subject of the recovery solution on a substrate surface by heating the solution to be dried, in fluorescent X-ray analysis of the deposit on the substrate surface.
    基板表面の付着物を蛍光X線分析するために、付着物を溶液に溶解させて回収し、その回収溶液を加熱により乾燥させて基板表面に回収溶液の乾燥物を作製する試料前処理装置において、迅速にしかも十分小さい乾燥物が得られるもの等を提供する。 - 特許庁
  • To provide a surface measurement apparatus that improves the accuracy of measurement and enables two-dimensional measurement in a sample surface of the refractive index and thickness of a transparent thin film formed on a substrate, deflection of the substrate, step of the film, or the like, by enabling an optical interference method and polarization analysis method in one apparatus.
    光干渉法と偏光解析法を1台の装置において可能にすることによって、基板上に形成した透明な薄膜の屈折率と膜厚や、基板のたわみや膜の段差などを試料面内で2次元的に測定できるようにするとともに、測定精度を向上させた表面測定装置を提供する。 - 特許庁
  • A program for calculating an area thermal diffusion time of the heating surface and the back is composed, and by calling it recursively, calculation of the area thermal diffusion time of the heating surface and the back of the multilayered material having an optional number of layers becomes possible, to thereby improve a development efficiency of a multilayered material thermophysical analysis program.
    加熱表面裏面の面積熱拡散時間を計算するプログラムを作成し、それを再帰的に呼び出すことで任意の層の数の多層材料の加熱表面裏面の面積熱拡散時間の計算が可能となり、多層材料熱物性解析プログラムの開発効率を向上させる。 - 特許庁
  • The crosslinked polymer particle comprises a vinyl alcohol unit and a polymerization unit containing nitrogen as the constituents wherein the nitrogen content in the dry weight of the particle as determined by the elemental analysis is in the range of 10.0-18.0 wt.% and the surface nitrogen concentration as determined by X-ray photoelectron spectroscopic analysis (XPS) is in the range of 3.0-9.5 at%.
    ビニルアルコール単位および窒素を含有する重合単位を構成要素として含む架橋ポリマー粒子であって、元素分析により特定される乾燥重量中の窒素含有量が10.0〜18.0重量%の範囲にあり、X線光電子分光分析(XPS)により特定される表面窒素濃度が3.0〜9.5at%の範囲にある架橋ポリマー粒子。 - 特許庁
  • When a photoresist film is formed of the above composition, a ratio (F_1)/(C_1) of a fluorine content rate (F_1 (atom%)) to a carbon content rate (C_1 (atom%)), measured and calculated by the following surface element analysis, ranges from 0.01 to 0.6.
    フォトレジスト膜を形成した場合に、下記表面元素分析により測定及び算出される、フォトレジスト膜のフッ素含有率(F_1(atom%))と炭素含有率(C_1(atom%))との比が、(F_1)/(C_1)=0.01〜0.6となるものである。 - 特許庁
  • To provide an instrument and a method for surface shape measurement on a light-beam scanning basis which facilitate signal analysis, enable accurate shape measurement even if the influence of disturbance is large, and make the device small-sized and inexpensive.
    光ビーム走査式の表面形状の計測において、信号解析が容易で、外乱の影響が大きい場合にも正確な形状計測ができ、装置を小型かつ安価にしうる三次元形状の計測装置および計測方法を提供する。 - 特許庁
  • This biopolymer analysis chip 1 is provided with a nonmagnetic substrate 2 recessed with a plurality of wells 3 on a surface thereof, and a magnetic substance fine particle 60 stored in each of the wells 3, and having a probe 61 coupled with a specified biopolymer 62.
    表面に複数のウェル3が凹設された非磁性体基板2と、前記各ウェル3に収容されるとともに、特定の生体高分子62と結合するプローブ61を有する磁性体微粒子60とを備える生体高分子分析チップ1である。 - 特許庁
  • The plastic plate 2 is so structured that two or more samples to be subjected to the analysis are received therein, wherein many of wells (concavities) 3 for receiving the samples are formed on a surface 7 of the plate by transferring shapes of a mold.
    解析に供される試料を複数収納できるように構成されているプラスチックプレート2であって、前記試料を収容するウェル(凹部)3が、金型形状を転写することにより表面7に多数形成されたことを特徴としている。 - 特許庁
  • As a result of the analysis, the optical joint peeling inspection section 27 detects, by finding frequency distribution peculiar to the surface where optical joint peeling occurs or by comparing with the frequency distribution at the time of previous inspection, the presence of the optical joint peeling.
    そして、光学結合剥れ検査部27は、解析の結果、光学結合剥がれが生じた面に特有な周波数分布を発見したり、前回検査時の周波数分布と比較したりすることで、光学結合剥がれの有無を検出する。 - 特許庁
  • Then, the protective film 4 and the thin-film sample 2 located on a lower surface of the protective film 4 are set to be samples 5 to be sampled that are to be sampled for performing an analysis using the three-dimensional atom probe, thus making the sample for atom probe observation.
    そして、保護膜4および保護膜4の下面にある薄膜試料2は、三次元アトムプローブを用いた解析を行なうために採取される対象である採取対象試料5とされ、アトムプローブ観察用の試料が作製される。 - 特許庁
  • To provide a flow analyzing method, a flow analyzer and a flow analysis program of a resin molding capable of predicting a projection height of a secondary weld line projecting in a minute amount from the surface of a resin molding and evaluating its quality with high accuracy.
    樹脂成形品表面から微小量突出する2次ウエルドラインの突出高さを予測でき、高い精度の品質評価を可能にできる樹脂成形品の流動解析方法、流動解析装置及び流動解析プログラム等を提供する。 - 特許庁
  • A sample 1 containing an analyzing target is arranged in the recess 5 with a depth of 0.8 μm or above formed to the surface of a window material 2 not having an absorption peak becoming an obstacle in the wavelength range used in infrared absorption spectrum analysis (a).
    分析対象物を含む試料1を、赤外吸収スペクトル分析に使用される波長範囲において邪魔になる吸収ピークを持たない窓材2の表面に形成された0.8μm以上の深さの凹部5内に配置する(a)。 - 特許庁
  • Further, in the magnesium alloy casting having excellent corrosion resistance, the ratio per unit area of a region at which carbon is detected when its surface is subjected to EPMA (Electron Prove Micro Analyzer) plane analysis is <5%.
    また、本発明の耐食性に優れるマグネシウム合金鋳造品においては、表面をEPMA面分析したときに炭素が検出される領域の単位面積あたりの割合が、5%未満であることを特徴とするものとすることができる。 - 特許庁
  • A part of the silane coupling agent is fixed to the surface of silica particles, and the coupling amount of the silane-coupling agent to silica particles is adjusted so that the nuclear magnetic resonance analysis peak area ratio R, ^29Si(-O-)_3/^29Si(-O-)_4, is within a range of 0.16-5.0.
    シランカップリング剤の一部がシリカ微粒子表面に固定されており、核磁気共鳴分析ピーク面積比R:^29Si(-O-)_3/^29Si(-O-)_4が0.16〜5.0の範囲にあるようにシランカップリング剤-シリカ微粒子の結合量が調整されている。 - 特許庁
  • After an analytical sample is fixed to a support substrate, a uniform thin film having a thickness equal to an intended analysis depth is formed on the analytical sample and the support substrate surface, and the analytical sample is thinned up to a thickness where the thin film on the support substrate is ground.
    分析試料を支持基板に固定した後、分析試料と支持基板表面に目的の分析深さと同等の厚さの均一な薄膜を形成し、支持基板上の薄膜が研磨される厚さまで分析試料を薄片化する。 - 特許庁
  • To provide a small-sized and a low-cost plasma generator having a low consuming power, a high efficiency, a high-reliability, and a long life, wherein chemical analysis in a minute region, chemical reaction and thin film formation and surface treatment on a capillary tube (capillary) inner wall are enabled.
    微小領域での化学分析、化学反応および毛細管(キャピラリ)内壁への薄膜形成や表面処理を可能にする、小型、低価格、低消費電力、高効率、高信頼性、長寿命のプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁
  • The substrate inspection method includes a step of preparing the substrate provided at its main surface with the plurality of layers, a film forming step, a local etching step (S321), and an inspection step (S323) or a composition analysis step (S322).
    基板検査方法は、主表面上に複数の層が形成された基板を準備する基板準備工程および成膜工程と、局所的なエッチング工程(S321)と、検査工程(S323)または組成分析工程(S322)とを備える。 - 特許庁
  • To perform a three-dimensional expression and its strength analysis of an internal structure of a concrete structure having a crack, by accurately expressing a position and a shape of the crack generated on the surface of the concrete structure by a further less data quantity.
    コンクリート構造物の表面に発生しているクラックの位置及び形状をより少ないデータ量で正確に表現できるようにして、クラックを有するコンクリート構造物の内部構造の三次元表現やその強度解析を行えるようにする。 - 特許庁
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