せどりさいとの英語

チタンポリサイドゲ—トの形成方法例文帳に追加

METHOD OF FORMING TITANIUM POLYCIDE GATE - 特許庁

このシリサイド層７ｄは、シリサイド層７ａ及びシリサイド層７ｂと一体的に形成されている。例文帳に追加

The silicide layer 7d is formed integrally with the silicide layer 7a and the silicide layer 7b. - 特許庁

金属シリサイドは、ニッケル・シリサイド、コバルト・シリサイド、チタン・シリサイド、パラジウム・シリサイド、プラチナ・シリサイド、エルビウム・シリサイド、およびこれらの組合せからなる群から選択される。例文帳に追加

The metal silicide is selected from a group consisting of nickel-silicide, cobalt-silicide, titanium-silicide, palladium-silicide, platinum-silicide, erbium-silicide, and the combination thereof. - 特許庁

リサイクルマットの形成方法、リサイクルマット、および自動車内装材例文帳に追加

METHOD FOR FORMING RECYCLED MAT, RECYCLED MAT AND INTERIOR AUTOMOTIVE INTERIOR MATERIAL - 特許庁

シリサイド領域と非シリサイド領域が混在する半導体装置において、シリサイド領域の狭ゲート電極間にシリサイドプロテクション膜残りによるシリサイド形成不良を防止し、非シリサイド領域において確実にシリサイド化反応を防止する製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a silicide region and a non-silicide region are mixed such that poor silicide forming due to remaining silicide protection film between narrow gate electrodes of the silicide region, is prevented, and silicidation reaction in the non-silicide region is also surely prevented. - 特許庁

リング状ゲート電極１５は、ゲート酸化膜１４を介してポリシリコン層１５ａと、Ｗシリサイド、Ｔｉシリサイド、Ｃｏシリサイド、Ｎｉシリサイドなどの金属シリサイド１５ｂの２層構造で形成される。例文帳に追加

A ring shaped gate electrode 15 has a double-layer structure wherein a polysilicon layer 15a and a metallic silicide 15b such as W silicide, Ti silicide, Co silicide, Ni silicide, etc. are provided on a gate oxide film 14. - 特許庁

積層シリサイド層１１４は、界面層であるＨｆシリサイド層１１１と、表面層であるＮｉシリサイド層１１３とから構成されている。例文帳に追加

The lamination silicide layer 114 is constituted by a Hf silicide layer 111, a boundary surface layer, and a Ni silicide layer 113 of a surface layer. - 特許庁