タンタルターゲットの英語

溶解鋳造したタンタルインゴット又はビレットを鍛造、焼鈍、圧延等の塑性加工を行うことによって製造されたスパッタリング用ターゲットであって、タンタルターゲットの組織が未再結晶組織を備えていることを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。例文帳に追加

In the tantalum sputtering target manufactured by performing plastic-working of a molten and cast tantalum ingot or billet through forging, annealing and rolling, the structure of the tantalum target comprises a non-recrystallized structure. - 特許庁

タンタルターゲットの表面において、全体の結晶配向の総和を１とした時に、（１００）、（１１１）、（１１０）のいずれの配向を有する結晶も、その面積率が０．５を超えないことを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。例文帳に追加

The tantalum sputtering target is characterized in that, on the surface of the tantalum target, the area ratio of crystal with any of orientations (100), (111) and (110) providing that the sum of all crystal orientations is 1 does not exceed 0.5. - 特許庁

タンタル酸カリウムターゲット１７を用いてスパッタリングによって、ガラス基板１２上にタンタル酸カリウム薄膜を作製するタンタル酸カリウム薄膜の作製方法であって、タンタル酸カリウムターゲットとは、別に、タンタルターゲット１８を同時にスパッタリングし、ガラス基板上にタンタル酸カリウム薄膜を堆積する。例文帳に追加

The method of preparing a potassium tantalate thin film includes a process of preparing the potassium tantalate thin film on the glass substrate 12 according to sputtering using a potassium tantalate target 17, wherein, apart from the potassium tantalate target, a tantalum target 18 is sputtered simultaneously to deposit a potassium tantalate thin film on the glass substrate. - 特許庁