フィーマの英語

リソグラフィーマスクブランクの製造方法及びリソグラフィーマスク並びにハーフトーン型位相シフトマスクブランク例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHY MASK BLANK, LITHOGRAPHY MASK AND HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK - 特許庁

リソグラフィーマスクおよび表面プラズモンを用いた光リソグラフィー法例文帳に追加

LITHOGRAPHY MASK AND OPTICAL LITHOGRAPHY METHOD USING SURFACE PLASMON - 特許庁

リソグラフィーマスクブランクの製造方法及び製造装置例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHY MASK BLANK AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁

微細構造物の製造に用いられる物質層の蝕刻方法及びリソグラフィーマスクの形成方法例文帳に追加

METHOD FOR ETCHING MATERIAL LAYER USED IN MANUFACTURE OF MICROSTRUCTURE AND METHOD OF FORMING LITHOGRAPHY MASK - 特許庁

リソグラフィーマスクの製造において、基板の何れか一面上に蝕刻終了層、メンブレイン層、リソグラフィーマスク層及び保護層を順次に形成する。例文帳に追加

In the manufacture of a lithography mask, an etched layer, a membrane layer, a lithography mask layer, and a protecting layer are successively formed on one face of a substrate. - 特許庁

新規なスタフィロコッカス・アウレウス（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓａｕｒｅｕｓ）プロテインＡベースのリガンドを含むクロマトグラフィーマトリックス例文帳に追加

CHROMATOGRAPHY MATRIX INCLUDING NOVEL STAPHYLOCOCCUS AUREUS PROTEIN A BASED LIGAND - 特許庁

本発明は、半導体ウェーハ上のリソグラフィーマスクの整合と露光の両方に電子ビーム源を使用することができるため有益である。例文帳に追加

The method is advantageous since the method can use an electron beam source in both matching and exposing the lithography mask on a semiconductor wafer. - 特許庁

安定した膜厚と光学特性が得られるリソグラフィーマスクブランクの製造方法及び製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a lithography mask blank and an apparatus therefor by which a stable film thickness and stable optical characteristics are obtained. - 特許庁