ブロック処理の英語

機能ブロック図処理装置，機能ブロック図処理方法，およびプログラム例文帳に追加

DEVICE, AND METHOD FOR PROCESSING FUNCTIONAL BLOCK DIAGRAM, AND PROGRAM - 特許庁

基板処理装置は、インデクサブロック１、バークブロック２、レジスト塗布ブロック３、現像処理ブロック４、インターフェイスブロック５、検査ブロックＩＢに各処理ブロックに機械的に区分される。例文帳に追加

The substrate treating device is mechanically divided into each processing block of an indexer block 1, a bake block 2, a resist coating block 3, a development processing block 4, an interface block 5, and an inspection block IB. - 特許庁

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。例文帳に追加

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14. - 特許庁

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、液浸露光用処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。例文帳に追加

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a liquid immersion processing block 13, and an interface block 14. - 特許庁

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、洗浄処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。例文帳に追加

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14. - 特許庁

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。例文帳に追加

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16. - 特許庁

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、検査ブロック１３、現像処理ブロック１４、レジストカバー膜除去ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。例文帳に追加

The substrate processor 500 is provided with an indexer block 9, a reflection preventing film processing block 10, a resist film processing block 11, a resist cover film processing block 12, an inspection block 13, a development processing block 14, a resist cover film removing block 15, and an interface block 16. - 特許庁

ＢＯＴ装置は信号処理ブロック、出力選択ブロック及び信号制御ブロックを含む。例文帳に追加

This BOT device includes a signal processing block, an output selection block and a signal control block. - 特許庁