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プロジェクション露光装置の英語
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該当件数 : 3件
キャラクタプロジェクション(CP)方式の荷電粒子ビーム露光方法、キャラクタプロジェクション方式の荷電粒子ビーム露光装置及びプログラム例文帳に追加
PROCESS AND DEVICE FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE EMPLOYING CHARACTER PROJECTION (CP) METHOD, AND PROGRAM - 特許庁
そして、このレチクルを用いて、セルプロジェクション又は分割転写方式の電子線投影露光装置を用いて感応基板に一次露光を行う。例文帳に追加
Using this reticle, the sensitive substrate is subjected to a primary light exposure process by the use of a self-projection or split transfer-type electron beam projection exposure system. - 特許庁
キャラクタプロジェクション方式の帯電ビーム露光装置において、一つのアパーチャブロック内に、スタンダードセルの各レイヤーのキャラクタアパーチャを、各レイヤーに対応するアパーチャブロックに振り分けて配置することにより、全部のレイヤーについて必要なキャラクタをそれぞれ一つのアパーチャブロックに収納することができる。例文帳に追加
In a charging beam exposure system of a character projection system, character apertures of each layer of standard cells are disposed within one aperture block by distributing into the aperture block corresponding to each layer, whereby necessary characters for all the layers can be accommodated in the one aperture block, respectively. - 特許庁
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