メトキシブチルアセテートの英語

フォトレジスト膜を形成するための高分子樹脂、露光によってフォトレジスト膜の溶解度を変化させる感光性化合物及び溶媒として３−メトキシブチルアセテート及び４−ブチロラクトンを含む。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a polymer resin for forming a photoresist film, a photosensitive compound which varies the solubility of the photoresist film by exposure and 3-methoxybutyl acetate and 4-butyrolactone as solvents. - 特許庁

樹脂成分と、溶剤とを含む平坦化膜形成用組成物であって、前記溶剤は、３−メトキシブチルアセテートおよび３−メトキシ−１−ブタノールから選択される少なくとも１種の溶剤を含む平坦化膜形成用組成物である。例文帳に追加

In the flattened film-forming composition containing a resin component and a solvent, the solvent is at least one kind of solvent selected from 3-methoxybutyl acetate and 3-methoxy-1-butanol. - 特許庁

飽和炭化水素の炭素数は１２〜１９であり、酢酸エステルが３−メチル−３−メトキシブチルアセテートであり、洗浄剤組成物の引火点が７０℃以上であることが好ましい。例文帳に追加

Preferably, the saturated hydrocarbon has 12-19 carbon atoms; the acetate is 3-methyl-3-methoxybutyl acetate; and the cleaning agent composition has a flash point of 70°C or higher. - 特許庁

アセト酢酸エステル及びグリコールジエステルからなる群から選ばれた少なくとも一種のエステル化合物と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、アセトフェノン等から選ばれた化合物とを有効成分とする洗浄剤。例文帳に追加

The detergent contains, as effective components, at least one ester compound chosen from a group consisting of acetoacetic acid ester and glycol diester and compounds chosen from propylene glycol monomethyl ether, 3-methoxybutyl acetate, acetophenone and the like. - 特許庁

フォトレジスト膜を形成するための高分子樹脂と、露光によってフォトレジスト膜の溶解度を変化させる感光性化合物と、溶媒として３−メトキシブチルアセテート、２−ヘプタノン、４−ブチロラクトンとを含むポジティブ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

The positive photoresist composition contains a polymer resin for forming a photoresist film, a photosensitive compound which varies the solubility of the photoresist film by exposure and 3-methoxybutyl acetate, 2- heptanone and 4-butyrolactone as solvents. - 特許庁