低気圧族の英語

比較的低い低分子量、比較的低い融点および高い蒸気圧を有する第四族金属前駆体の提供。例文帳に追加

To provide a group-IV metal precursor having a relatively low molecular weight, a relatively low melting point and a high vapor pressure. - 特許庁

低分子量、低融点（１００℃以下）、及び高蒸気圧（０．５ｔｏｒｒ以上）の性質を示す第４族前駆体、及び共形（コンフォーマル）な金属含有膜を基板上に製造するための堆積プロセスの提供。例文帳に追加

To provide Group 4 precursors which exhibit lower molecular weight, lower melting point (e.g., 100°C or below), and higher vapor pressure (e.g., 0.5 torr or greater) and deposition processes for fabricating conformal metal containing films on substrates. - 特許庁