半湿式の英語

半導体素子製造用湿式エッチング装置及びこれを用いた半導体素子の湿式エッチング方法例文帳に追加

WET ETCHING DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT AND WET ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME - 特許庁

容器中の半導体ウェハを湿式化学処理するための方法例文帳に追加

METHOD FOR WET CHEMICAL TREATMENT OF SEMICONDUCTOR WAFER IN CONTAINER - 特許庁

湿式洗浄によるアタックを防止できる半導体装置の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, BY WHICH ATTACK BY WET CLEANING CAN BE PREVENTED - 特許庁

上記における半導体層の除去はレーザーと湿式エッチングにより行われる。例文帳に追加

The removal of the semiconductor layer is conducted by laser and wet etching. - 特許庁

耐久性が高く、湿式成膜法での薄膜の作製に適した有機半導体を提供する。例文帳に追加

To provide an organic semiconductor, which has high durability and is suitably used to form a thin film by a wet film-forming method. - 特許庁

耐久性が高く湿式成膜法での薄膜の作製に適した有機半導体を提供する。例文帳に追加

To provide an organic semiconductor which has high durability and is suitable for fabricating a thin film according to wet deposition method. - 特許庁

半導体ウエーハ表面に原子レベルのショットキー障壁を湿式法により作製し、ナノ構造の半導体素子を作製すること。例文帳に追加

To produce a semiconductor device having a nano structure by producing a atom-level Schottky barrier on the surface of a semiconductor wafer using wet process. - 特許庁

半導体装置の製造方法、湿式エッチングに対する耐性を有するエッチング阻止層の形成方法、及び半導体装置例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF FORMING ETCH STOP LAYER HAVING TOLERANCE OVER WET ETCHING, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁