応力計の英語

薄膜試料の残留応力計測方法および残留応力計測装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING RESIDUAL STRESS IN THIN-FILM SAMPLE - 特許庁

応力計算部１１は、異なる種類の平均応力を個別に計算する個別計算部として、接触面圧応力計算部１１１、熱応力計算部１１２、残留応力計算部１１３を有すると共に、平均応力を合計する平均応力計算部１１４を有する。例文帳に追加

The stress calculation part 11 has a contact bearing stress calculation part 111 as an individual calculation part for calculating individually a different kind of average stress, a thermal stress calculation part 112, a residual stress calculation part 113, and an average stress calculation part 114 for totalizing the average stresses. - 特許庁

平均応力／応力振幅計算部１４は，解析実行部１３の処理結果から，平均応力および応力振幅を計算する。例文帳に追加

A mean stress/stress amplitude calculation part 14 calculate mean stress and stress amplitude from the processing result of the analysis execution part 13. - 特許庁

応力計およびこれを用いた地震計例文帳に追加

STRESS METER AND SEISMOMETER USING THE SAME - 特許庁

二次元応力場計測システム及び二次元応力場計測プログラム例文帳に追加

TWO-DIMENSIONAL STRESS FIELD MEASURING SYSTEM AND TWO- DIMENSIONAL STRESS FIELD MEASURING PROGRAM - 特許庁

さらに、演算部１６は、回折角から応力を計算し、計算した応力を特定した回折位置の応力と判定する。例文帳に追加

Further, the operation part 16 calculates a stress from the diffraction angle, and determines that the calculated stress is a stress on the specified diffraction position. - 特許庁

残留ひずみ・残留応力の計測方法及び残留ひずみ・残留応力計測用応力解放装置例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING RESIDUAL STRAIN AND RESIDUAL STRESS, AND STRESS RELEASE DEVICE THEREFOR - 特許庁

半導体酸化工程の応力分布計算方法例文帳に追加

STRESS DISTRIBUTION CALCULATION METHOD OF SEMICONDUCTOR OXIDATION PROCESS - 特許庁