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温長の英語
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「温長」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 8322件
長門湯本温泉例文帳に追加
Nagato Yumoto Hot Spring Resort発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
長時間常温を保つ常温保温剤バック及び保温箱、常温保温方法例文帳に追加
ROOM TEMPERATURE HEAT RETAINING AGENT BAG MAINTAINING ROOM TEMPERATURE OVER LONG HOURS, HEAT RETAINING BOX, AND HEAT RETAINING METHOD - 特許庁
地球温暖化対策推進本部長例文帳に追加
Headquarters Chairman発音を聞く - 日本法令外国語訳データベースシステム
波長変換レーザ温度制御回路例文帳に追加
WAVELENGTH CONVERSION LASER TEMPERATURE CONTROL CIRCUIT - 特許庁
長尺融雪加温パイプ例文帳に追加
LONGER SNOW-MELTING HEATING PIPE - 特許庁
波長変換方法と温度安定型波長変換素子例文帳に追加
WAVEFORM CONVERTING METHOD AND TEMPERATURE STABILIZED WAVELENGTH CONVERSION ELEMENT - 特許庁
工程S108では、障壁層を成長する前に成長温度T_Wから成長温度T_Bに成長炉10の温度を変更する。例文帳に追加
In a process S108, the temperature of the growth furnace 10 is changed to a growth temperature T_B from the growth temperature T_W before the barrier layer is grown. - 特許庁
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「温長」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 8322件
半導体ウェハーWの温度は長波長放射温度計120および短波長放射温度計130によって測定される。例文帳に追加
The temperature of the semiconductor wafer W is measured by a long-wavelength radiation thermometer 120 and a short-wavelength radiation thermometer 130. - 特許庁
好ましくはブロッキング層の成長開始時における成長温度が活性領域成長温度に100℃を加えた温度以下である。例文帳に追加
Preferably, a growth temperature during a growth start of the blocking layer may be below a temperature obtained by adding 100°C to an active region growth temperature. - 特許庁
波長可変ダイオードレーザを用いたガスタービンの高温ガス温度測定例文帳に追加
HOT GAS TEMPERATURE MEASUREMENT IN GAS TURBINE USING TUNABLE DIODE LASER - 特許庁
本発明は、耳内温及び外気温を容易に長時間測定する。例文帳に追加
To easily measure a tympanic temperature and an outside air temperature for a long period of time. - 特許庁
成長温度を620℃〜550℃の比較的低い温度で成長させるようにしてもよい。例文帳に追加
A growth temperature may be set at a relatively low temperature from 620 to 550°C to grow the layers. - 特許庁
成長温度を620℃以下の比較的低い温度で成長させるようにしてもよい。例文帳に追加
A growth temperature may be grown at a comparatively low temperature of 620°C or lower. - 特許庁
気相成長装置および気相成長装置の温度検出方法ならびに温度制御方法例文帳に追加
VAPOR GROWTH DEVICE, METHOD FOR DETECTING TEMPERATURE OF VAPOR GROWTH DEVICE, AND METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF VAPOR GROWTH DEVICE - 特許庁
結晶成長時の成長界面の面内温度分布における最大温度差が2℃以下とする。例文帳に追加
Where the maximum temperature difference in temperature distribution within the face of a growth interface when growing the crystal, is at most 2°C. - 特許庁
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