膜厚計試験の英語

ガス流量の制御では、試験的成膜によりウェハ２８上に形成された膜厚データに基づいて、ウェハ２８上の種々の位置における膜成長速度と所定の目標膜成長速度の間の偏差が計算される。例文帳に追加

In the control of the gas flow rate, deviation between film growing speeds on various positions on a wafer 28 and a predetermined target growing speed is calculated on the basis of data about the thickness of a film formed on the wafer 28 by an experimental film formation. - 特許庁

ＴＦＴアレイ基板１０および対向基板２０に対して配向膜２４、３２を形成するにあたって、配向膜形成装置７００において、スピンコート装置３００で試験用基板に配向膜を形成した後、焼成装置４００で焼成し、しかる後に、配向膜の膜厚を膜厚測定装置５００で計測する。例文帳に追加

In the case of forming oriented films 24, 32 on a TFT array substrate 10 and a counterposed substrate 20, the oriented film forming device 700 forms an oriented film on a testing substrate by a spin coater 300, and then measures the film thickness of the oriented film by a film thickness measuring device 50. - 特許庁