IC dopingとは 意味・読み方・使い方

Hereby, termination of upper and middle doping layers can be performed at the same time, and the effective area of the element within an element becomes large, and the making into an IC also becomes possible.例文帳に追加

これにより、上層と中間ドーピング層の終端が同時に行え、チップ内の素子有効面積が大きくなり、ＩＣ化も可能となる。 - 特許庁

The evaluating element 10 for evaluating the manufacturing process of a representative MOS transistor 1 included in an IC chip 100 formed on a wafer W includes a normal MOS transistor 10a formed on the wafer W by the same manufacturing process as that of the MOS transistor 1, and a native transistor 10b formed on the wafer W by an incomplete manufacturing process with only a channel doping process omitted from the manufacturing process.例文帳に追加

ウエーハＷに形成されたＩＣチップ１００に含まれる代表的なＭＯＳトランジスタ１の製造プロセスを評価するための評価素子１０であって、ＭＯＳトランジスタ１と同一の製造プロセスによってウエーハＷに形成された通常のＭＯＳトランジスタ１０ａと、この製造プロセスからチャネルドープ工程だけを除いた不完全製造プロセスによって当該ウエーハＷに形成されたネイティブトランジスタ１０ｂと、を備えたものである。 - 特許庁