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Then. on the basis of the process which repeats convolution integration or the result, the value of a parameter σ is specified (S5) under the condition that light intensity level difference is measured which becomes small enough in two or more positions of optical image Ik corresponding to two or more parts in which a resist size W.例文帳に追加
このとき畳み込み積分を繰り返す過程または結果から、レジスト寸法Ｗが測定されている複数の箇所に対応した光学像Ｉｋの複数の位置で光強度レベル差が十分小さくなるパラメータσを特定する（Ｓ５）。 - 特許庁
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