SURFACE OXIDE FILMとは 意味・読み方・使い方

REMOVAL METHOD OF OXIDE FILM ON THICK-FILM ELECTRODE SURFACE例文帳に追加

厚膜電極表面の酸化膜の除去方法 - 特許庁

An oxide film 15 is formed on the surface of the metal thin film 14.例文帳に追加

金属薄膜14の表面に酸化膜15を形成する。 - 特許庁

The surface of the silicon oxide film 14 becomes a smooth surface.例文帳に追加

シリコン酸化膜１４の表面は、滑面になる。 - 特許庁

Alternatively, the surface oxide film removing device 1 and surface oxide film forming device 2 are coupled together.例文帳に追加

あるいは、表面酸化膜除去装置１と表面酸化膜形成装置２が連結されている。 - 特許庁

To obtain a resist pattern without leaving resists on other parts than an oxide film on an oxide film around a main surface and an oxide film on a substrate peripheral surface.例文帳に追加

主面の周囲の酸化膜及び基板周面の酸化膜以外の部分にレジストが残存することのないレジストパターンを得る。 - 特許庁

A transistor containing an oxide semiconductor film is provided in which a metal oxide film having the same kind of component as that of the oxide semiconductor film is stacked on an upper surface and a lower surface of the oxide semiconductor film, and further, an insulating film having a component different from the metal oxide film and the oxide semiconductor film is adjoined to a surface facing the surface contacting to the oxide semiconductor film in the metal oxide film.例文帳に追加

酸化物半導体膜を含むトランジスタにおいて、酸化物半導体膜の上面部及び下面部に、酸化物半導体膜と同種の成分でなる金属酸化物膜を積層され、さらに、金属酸化物膜において酸化物半導体膜と接する面と対向する面には、金属酸化物膜及び酸化物半導体膜とは異なる成分でなる絶縁膜が接して設けられているトランジスタを提供する。 - 特許庁

PLANARIZATION METHOD FOR ELECTRONIC MATERIAL SURFACE OXIDE FILM例文帳に追加

電子材料表面酸化膜の平坦化処理方法 - 特許庁