Wet etching equipmentとは 意味・読み方・使い方

WET ETCHING EQUIPMENT FOR MANUFACTURE SEMICONDUCTORS例文帳に追加

半導体製造用ウェットエッチング装置 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR WET ETCHING例文帳に追加

ウェットエッチング装置および方法 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR WET-CLEANING OR WET-ETCHING FLAT SUBSTRATE例文帳に追加

平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングするための装置および方法 - 特許庁

To provide equipment and a method for wet-cleaning or wet-etching a flat substrate.例文帳に追加

平坦な基材を湿式でクリーニングまたはエッチングする装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Equipment 1 for wet-cleaning or wet-etching a substrate 9 includes a tank 3 having an inlet 5 and an outlet 7 for the substrate 9.例文帳に追加

基材９の導入口５及び導出口７を有するタンク３を含み、前記基材９を湿式クリーニングまたはエッチングするための装置１。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING FILM OF MASK FOR WET ETCHING, MASK FOR WET ETCHING, ELECTROSTATIC ACTUATOR, DROPLET-DISCHARGING HEAD AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING SUBSTRATE FORMED BY USING THE MASK FOR WET ETCHING, AND IMAGING DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT CARRYING THEM例文帳に追加

ウエットエッチングマスクの成膜方法、ウエットエッチングマスク、ウエットエッチングマスクにより形成された基板を有する静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、半導体装置、及びこれらを搭載した画像形成装置、電子機器。 - 特許庁

To provide a mask forming method which is capable of easily and inexpensively forming a mask for alkali wet etching and is advantageous in terms of environmental conservation, an etching method of a substrate using the mask, the substrate worked by the etching method, a method for manufacturing electronic parts applying the etching method, and electronic parts and electronic equipment having high reliability.例文帳に追加

アルカリウェットエッチング用のマスクを容易かつ安価に形成し得、環境保全の観点からも有利なマスク形成方法、このマスクを用いた基板のエッチング方法、このエッチング方法により加工された基板、このエッチング方法を適用した電子部品の製造方法、信頼性の高い電子部品および電子機器を提供すること。 - 特許庁