compound symbolとは 意味・読み方・使い方

In a use symbol extracting part 31, M' points (L≤M'<(NTGI/T) are extracted from the end of a valid symbol from N+(NTGI/T) compound digital signals.例文帳に追加

使用シンボル抽出部31では、N+(NT_GI/T)個の複素ディジタル信号から有効シンボルの末尾からM'点(L≦M'＜N+(NT_GI/T))を抽出する。 - 特許庁

The compound represented by general formula (I) (wherein each symbol is defined specifically), or the pharmacologically acceptable salt thereof is provided.例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）で表される化合物、又は、その薬理上許容される塩： - 特許庁

The compound oxide is expressed by a composition formula: Na_xRu_yO_2-zH_2O (in the formula, each symbol expresses a number satisfying 0.1≤x≤1, 0.95≤y≤1 and 0≤z≤0.5).例文帳に追加

組成式：Ｎａ_xＲｕ_yＯ_2・ｚＨ_2Ｏ（式中、各記号は、０．１≦ｘ≦１、０．９５≦ｙ≦１、０≦ｚ≦０．５を満たす数である。）で表される複合酸化物。 - 特許庁

The method for producing a compound represented by general formula (3) or its salt comprises reacting a compound represented by formula (1) with a compound represented by formula (2) (each symbol in the formulas is specially defined) or its salt in the presence of formaldehyde or its derivative.例文帳に追加

式（３）で表される化合物またはその塩の製造方法であって、式（１）で表される化合物を、式（２）で表される化合物またはその塩と、ホルムアルデヒドまたはその誘導体の存在下に反応させることを含む方法（式中、各記号の定義は明細書記載の通りである）。 - 特許庁

The present invention relates to a compound represented by formula [I] wherein each symbol is as defined in the specification, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, or a solvate thereof and an anti-HCV agent and an HCV polymerase inhibitor containing this compound.例文帳に追加

下記一般式［Ｉ］：（式中、各記号は明細書に記載の通りである。）で表される化合物又は製薬上許容されるその塩、或いはその溶媒和物、並びに該化合物を含有してなる抗ＨＣＶ剤及びＨＣＶポリメラーゼ阻害剤。 - 特許庁

A tetracyclic fused heterocyclic compound represented by general formula [I] (wherein each symbol is as defined in the specification) or a pharmaceutically acceptable salt thereof is provided, and a hepatitis C virus polymerase inhibitor and a therapeutic agent for hepatitis C, containing the compound are provided.例文帳に追加

下記一般式［Ｉ］（式中、各記号は明細書に記載の通りである。）で表される４環縮合複素環化合物又は製薬上許容されるその塩、並びに該化合物を含有するＣ型肝炎ウイルスポリメラーゼ阻害剤及びＣ型肝炎治療剤。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and (B) a resin that has an acid-decomposable repeating unit represented by general formula (I'), has a dispersity of ≤1.5 and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid, wherein each symbol represents a predetermined group or the like.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、および、（Ｂ）下記一般式（Ｉ'）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、分散度が１．５以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁