diethylenediamineとは 意味・読み方・使い方

Here, as the chelate agent (1) is set as a nitrilotriacetic acid(NTA), (2) is an ethylenediaminetetraacetic acid(EDTA), (3) is a diethylenediamine-N,N,N",N"-pentaacetic acid(DTPA) and (4) is a cyclohexanediaminetetraacetic acid(CyDTA).例文帳に追加

（１）ニトリロ三酢酸（ＮＴＡ：nitrilotriacetic acid） （２）エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ：ethylenediaminetetraacetic acid） （３）ジエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ”，Ｎ”−五酢酸（ＤＴＰＡ：diethylenediamine-N,N,N",N"-pentaacetic acid） （４）シクロヘキサンジアミン四酢酸（ＣｙＤＴＡ：cyclohexanediaminetetraacetic acid） - 特許庁

The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0.例文帳に追加

珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第４アンモニウムを含有することで、２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 - 特許庁