dummy system variableとは 意味・読み方・使い方

In an exposure method, using an electron beam exposure system of a variable forming beam system, one or more dummy patterns, which are rectangles of the maximum shot size of variable forming, are exposed so that the non-effective chip regions on a substrate has an area density equal to that of the drawing patterns in the effective chip regions on the same substrate.例文帳に追加

可変成形ビーム方式の電子線露光装置を用いた露光方法において、基板上の非有効チップ領域に対して、非有効チップ領域が、該基板上の有効チップ領域の描画パターンの面積密度と同等の面積密度を持つように、１または複数のダミパターンを露光し、ダミーパターンは、可変成形の最大ショットサイズの矩形とされる。 - 特許庁