macrothrowing powerとは 意味・読み方・使い方

This analysis device determines the effective embedding properties and the macrothrowing power of the copper-electroplating solution by measuring the change with time of the potential preferably on the condition of a cathode current density of 0.1 to 20 A/dm^2.例文帳に追加

電位の経時変化を、好ましくはカソード電流密度が０．１〜２０Ａ／ｄｍ^２で測定することによって、電気銅めっき液の実効の埋めこみ性や、均一電着性を判断する。 - 特許庁

To provide an analysis device for a copper-electroplating solution, which is suitable for determining embedding properties to be shown when a copper metal is embedded into a via hole or a trench provided in a printed board, a semiconductor-packaged substrate or a semiconductor product such as a semiconductor substrate through copper electroplating, or for determining a macrothrowing power (uniformity of physical properties and thickness of plated film).例文帳に追加

本発明は、プリント基板、半導体パッケージ基板、または、半導体基板など半導体製品に設けられたビアホールやトレンチ内に、電気銅めっきで銅金属を埋めこむときの埋め込み性の判断、又は、均一電着性（皮膜物性及び膜厚均一性）の判断に好適な電気銅めっき液の分析装置を提供することを目的とする。 - 特許庁