negative-working photoresistとは意味・読み方・使い方

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意味・対訳ネガティブワーキングフォトレジスト

JST科学技術用語日英対訳辞書での「negative-working photoresist」の意味

negative‐working photoresist

ネガティブワーキングフォトレジスト

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「negative-working photoresist」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 3件

例文

CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a new hydroxyl ester-containing polymer composition which is useful as a base resin of a resist for photoimaging to form an image in the manufacture of a semiconductor device and for the use of a photoresist (positive-working and/or negative-working) and which has a potential as a base resin for various purposes, and to provide a photoresist having improved performance at 193 nm and 157 nm.例文帳に追加

半導体デバイス製作における像形成のための、光像形成、およびフォトレジスト（ポジ型および／またはネガ型）の使用において、レジストのベース樹脂として有用であり、その他多くの用途のベース樹脂としても可能性のある、新規なヒドロキシエステル含有ポリマー組成物を提供すること、ならびに１９３および１５７ｎｍでの性能が改良されたフォトレジストを提供すること。 - 特許庁

例文

The chemical amplification-type negative-working photoresist composition for low-temperature dry etching comprises (A) a photoacid generating agent, (B) at least one resin component selected from novolak resins, polyhydroxy styrene resins and acrylic resins, (C) at least one plasticizer selected from acrylic resins and polyvinyl resins, (D) a crosslinking agent and (E) an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）光酸発生剤、（Ｂ）ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、およびアクリル樹脂の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂成分、（Ｃ）アクリル樹脂およびポリビニル樹脂の中から選ばれる少なくとも一種の可塑剤、（Ｄ）架橋剤、（Ｅ）有機溶剤を含むことを特徴とする低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物。 - 特許庁

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