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日英・英日専門用語辞書での「phase pattern」の意味

phase pattern


「phase pattern」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 1007



例文

DUAL PHOTOMASK EQUIPPED WITH BINARY PATTERN AND PHASE SHIFT PATTERN例文帳に追加

バイナリパタ—ン及び位相シフトパタ—ンを備えたデュアルフォトマスク - 特許庁

A phase pattern is formed by adding a sub-phase pattern correcting specified wavefront distortion to a main phase pattern corresponding to the optical pattern.例文帳に追加

光パターンに対応する主位相パターンに、所定の波面歪みを補正する副位相パターンを足し合わせて位相パターンを作成する。 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

パターン形成方法及び位相シフトマスク - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

例文

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁

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「phase pattern」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 1007



例文

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクおよびパターン形成方法 - 特許庁

The halftone pattern 3c is a phase regulating pattern which inverts the phase of exposure light.例文帳に追加

ハーフトーンパターン3cは、露光光の位相を反転させる位相調整用のパターンである。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 - 特許庁

METHOD OF JUDGING FLOW PATTERN OF VAPOR-LIQUID TWO-PHASE FLOW例文帳に追加

気液二相流のフローパターン判別方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFERRING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクと、位相シフトマスク、及びパターン転写方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁

例文

Then, the high resistance phase change substance pattern 109a' is sandwiched between the first phase change substance pattern 107a' and the second phase change substance pattern 107b'.例文帳に追加

この時、高抵抗相変化物質パターン109a’は第1相変化物質パターン107a’及び第2相変化物質パターン107b’の間に介在する。 - 特許庁

>>例文の一覧を見る

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