「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクおよびパターン形成方法 - 特許庁

The halftone pattern 3c is a phase regulating pattern which inverts the phase of exposure light.例文帳に追加

ハーフトーンパターン３ｃは、露光光の位相を反転させる位相調整用のパターンである。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 - 特許庁

METHOD OF JUDGING FLOW PATTERN OF VAPOR-LIQUID TWO-PHASE FLOW例文帳に追加

気液二相流のフローパターン判別方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFERRING METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクと、位相シフトマスク、及びパターン転写方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁

Then, the high resistance phase change substance pattern 109a' is sandwiched between the first phase change substance pattern 107a' and the second phase change substance pattern 107b'.例文帳に追加

この時、高抵抗相変化物質パターン１０９ａ’は第１相変化物質パターン１０７ａ’及び第２相変化物質パターン１０７ｂ’の間に介在する。 - 特許庁

The first phase change substance pattern 107a', the second phase change substance pattern 107b' and the high resistance phase change substance pattern 109a' can be single crystals.例文帳に追加

第１相変化物質パターン１０７ａ’、第２相変化物質パターン１０７ｂ’及び高抵抗相変化物質パターン１０９ａ’は単結晶であり得る。 - 特許庁

A rotary disk 40b is arranged facing this phase pattern, so that the phase of the phase pattern is controlled according to the rotation of the disk 40.例文帳に追加

位相器パターンと対向して回転円板４０bが配置され、この回転に従って位相器パターンでの位相を調整する。 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist.例文帳に追加

クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PHASE-SHIFT NULL-BURST-PATTERN例文帳に追加

位相シフトヌルバーストパターンのための方法及び装置 - 特許庁

Therein, the phase pattern 14 is a pattern which is different in phase of detection signal at every track of the plurality of tracks.例文帳に追加

なお、位相パターン14は、複数トラックの各トラック毎に検出信号の位相が異なるパターンである。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用の金型及びその作製方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF METAL MOLD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM例文帳に追加

パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用の金型及びその作成方法 - 特許庁

The phase pattern is constituted by superposing the blazed grating pattern for optical diffraction and the phase pattern having the predetermined phase modulation distribution, and its phase modulation range is equal to or more than 2π.例文帳に追加

この位相パターンは、光回折の為のブレーズドグレーティングパターンと、所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなり、位相変調範囲が２π以上である。 - 特許庁

LONG PATTERN ALIGNMENT FILM AND LONG PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM USING THE SAME例文帳に追加

長尺パターン配向膜およびそれを用いた長尺パターン位相差フィルム - 特許庁

The phase change pit has a single-frequency pattern.例文帳に追加

相変化ピットは単一周波数のパターンを有する。 - 特許庁

GENERATING MASK PATTERN FOR ALTERNATING PHASE-SHIFT MASK LITHOGRAPHY例文帳に追加

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンの生成 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法 - 特許庁

The phase pattern is constituted by superposition of a blazed grating pattern for optical diffraction whose phase modulation range is equal to or less than 2π and a phase pattern having the predetermined phase modulation distribution whose phase modulation range is equal to or less than 2π.例文帳に追加

この位相パターンは、位相変調範囲が２π以下である光回折の為のブレーズドグレーティングパターンと、位相変調範囲が２π以下である所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる。 - 特許庁

METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD BY PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの作製方法、位相シフトマスクによるパターン露光方法 - 特許庁

A phase control part 26 successively selects a phase rotating pattern from a phase pattern table 25, and a phase of a synthetic waveform with respective blocks of a time base converted by IFFT 22a-22k by the selected phase rotating pattern, is rotated by a phase rotating part 23.例文帳に追加

位相制御部２６は、位相パターンテーブル２５から順次位相回転パターンを選択し、選択された位相回転パターンでＩＦＦＴ２２ａ〜２２ｋにより変換された時間軸の各ブロック毎の合成波形の位相が、位相回転部２３で回転される。 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSING METHOD USING SAME例文帳に追加

位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

PULSE PATTERN GENERATION METHOD FOR THREE PHASE CURRENT CONVERTER CIRCUIT例文帳に追加

三相電流形コンバータ回路のパルスパターン発生法 - 特許庁

PHASE CHANGE MEMORY SELECTION TYPE ELECTRON SOURCE AND PATTERN DRAWING APPARATUS例文帳に追加

相変化メモリ選択型電子源および描画装置 - 特許庁

MASK PATTERN WITH HALFTONE PHASE DIFFERENCE AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

ハーフトーン位相差マスクのマスクパターン及びその製造方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクおよびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法 - 特許庁

The phase-change substance pattern is arranged on the lower electrodes.例文帳に追加

下部電極上に相変化物質パターンが配される。 - 特許庁

The main pattern 401 is composed of a phase shifter.例文帳に追加

主パターン４０１は位相シフターから構成されている。 - 特許庁

The phase transition pattern has a plurality of doping patterns.例文帳に追加

前記相転移パターンは複数のドーピングパターンを備える。 - 特許庁

A known phase pattern generating section 170 produces a known phase pattern when a succeeding sub-frame includes the BCH.例文帳に追加

既知位相パターン生成部１７０は、次のサブフレームにＢＣＨが含まれる場合の既知位相パターンを生成する。 - 特許庁

A phase shifter pattern is determined that is disposed inside the pattern and transmits the exposure light in the reversed phase.例文帳に追加

前記パターンの内部に配置され且つ露光光を反対位相で透過させる位相シフターの形状を決定する。 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク用ブランク及び位相シフトマスク及びそれを用いたパターン転写法 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

A phase correction means 33 selects a phase correction pattern whose current value [A] is minimum from among remaining phase correction patterns, and sets a phase correction amount [degree] in the phase correction pattern as a phase correction amount to be added to a current phase 18.例文帳に追加

位相補正手段３３は、残った位相補正パターンの中から電流値［Ａ］が最小である位相補正パターンを選択し、その位相補正パターンにおける位相補正量［度］を、電流位相１８に加算する位相補正量として設定する。 - 特許庁

A frame pattern phase detection part 204 detects the position of the frame pattern from the histogram.例文帳に追加

フレームパタン位相検出部２０４は、ヒストグラムからフレームパタンの位置を検出する。 - 特許庁

The phase error calculator 17 calculates a phase difference between the phase of a reproduction signal from an interpolation filter 12 and the phase of the pull-in pattern.例文帳に追加

位相誤差計算器１７は、補間フィルタ１２からの再生信号の位相と、引き込みパターンの位相との位相差を計算する。 - 特許庁

CORRECTION METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, PATTERN TRANSFER METHOD AND WAFER例文帳に追加

位相シフトマスクの修正方法と位相シフトマスク及びパターン転写方法並びにウェハー - 特許庁

And further, it has a second phase change substance pattern 107b' located on the high resistance phase change substance pattern 109a'.例文帳に追加

また、高抵抗相変化物質パターン１０９ａ’上に位置した第２相変化物質パターン１０７ｂ’をさらに備える。 - 特許庁