「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

On a reception side, at detecting of the long-code group identification short code, the pattern of the multiplexed symbol is detected in a pattern detection 113, and a long-code phase is obtained.例文帳に追加

受信側では、ロングコードグループ識別ショートコードを検出する際に、パターン検出部１１３で多重化されたシンボルのパターンを検出してロングコード位相を求める。 - 特許庁

To provide a patterning method by which retrogression of a desired pattern is suppressed at etching of an unnecessary pattern in patterning method using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いたパターン形成において、不要パターンをエッチングする際に所望パターンの後退を抑制することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Further, by encoding a mark part and a track code part of the servo pattern by a phase shift system, the total sum of the magnetization quantities of the entire servo pattern is made approximately at zero.例文帳に追加

さらに、サーボパターンのマーク部及びトラックコード部を位相シフト方式によって符号化することにより、サーボパターン全体の磁化量の総和をおよそ０とする。 - 特許庁

On the other surface of the glass substrate 21, phase difference compensating films 8B, 8G, and 8R are provided in an array pattern corresponding to the array pattern of the filter layers 30B, 30G, and 30R.例文帳に追加

ガラス基板２１の他方の面に、各フィルタ層３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒの配列パターンに対応した配列パターンで位相差補償膜８Ｂ，８Ｇ，８Ｒを設ける。 - 特許庁

A taper 2a is formed in a circumferential part region of a transparent electrode pattern 2 for preventing the generation of a sudden change of phase difference at the boundary of the transparent electrode pattern 2.例文帳に追加

透明電極パターン２の周縁部域に、透明電極パターン２の境目で急激な位相差変化が生じるのを防ぐようにテーパー２ａを形成する。 - 特許庁

The phase conversion film having a dent in a halo-region defined by the spacer pattern is formed on the substrate having the interlayer insulating film and spacer pattern in the halo-region.例文帳に追加

スペーサパターンで定義したハロ領域内に層間絶縁膜及びスペーサパターンを有する半導体基板上にハロ領域内にデントを有する相変換膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an exposure mask and an exposure method for performing pattern exposure with a high precision and a high resolution for a more versatile pattern with respect to pattern exposure using a Levenson-type phase shift mask.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクを用いたパターン露光において、より多用なパターンについて高精度かつ高解像度でパターン露光を行うことが可能な露光マスクの作製方法および露光方法を提供する。 - 特許庁

The mask 100 for semiconductor manufacture as a binary mask such as a chromium mask or a phase shift mask has a pattern transfer area 110 and a pattern massed area 112 is included in the pattern transfer area 110.例文帳に追加

クロムマスクなどのバイナリマスク，または位相シフトマスクである半導体製造用マスク１００は，パターン転写領域１１０を有し，さらにパターン転写領域１１０にはパターン密集領域１１２が含まれている。 - 特許庁

To provide a method for forming a phase shift mask in which generation of an unnecessary pattern can be suppressed with high accuracy by accurately extracting the position where an unnecessary pattern due to overlapping of side lobes on transferring a pattern is generated.例文帳に追加

パターン転写時のサイドローブ重なりによる不要パターンの発生位置を的確に抽出することにより、高精度に不要パターンの発生を抑えることが可能な位相シフトマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁

A mask pattern with a standardized dimension from 0.34 to 0.68, formed by a semitransparent phase shifter is disposed on a mask pattern made of shield material so as to be protruded from the edge of the mask pattern made of shield material.例文帳に追加

遮光性材料からなるマスクパターン上に、半透過性の位相シフタからなり、規格化寸法が０.３４から０.６８のマスクパターンを、遮光性材料からなるマスクパターンの縁部から突出するように配設する。 - 特許庁

Then, a grating is written in the optical fiber by irradiating it with a laser beam through the phase modulation pattern so transferred (S160).例文帳に追加

そして転写された位相変調パターンを通してレーザを照射して光ファイバにグレーティングを書き込む（Ｓ１６０）。 - 特許庁

CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND PROCESS SHEET FOR MANUFACTURING REFLECTION PREVENTING BODY, PHASE DIFFERENCE PLATE, AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

凹凸パターン形成シートならびにその製造方法、反射防止体、位相差板および光学素子製造用工程シート。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and an inspection method for simultaneously detecting a phase defect and a pattern defect or a foreign substance.例文帳に追加

位相欠陥と、パターン欠陥または異物とを、同時に検出可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

Then, the phase shift between the reflected wave front and a replica of the reflected wave front is adjusted, and another interference pattern is acquired.例文帳に追加

次に、反射波面と、反射波面のレプリカとの間の位相シフトを調整し、別の干渉模様を取得する。 - 特許庁

To reduce an error caused by a speckle pattern or halation in a displacement distribution measuring method utilizing a phase shift digital holography.例文帳に追加

位相シフトデジタルホログラフィを利用した変位分布計測方法において、スペックルパターンやハレーションによる誤差を低減する。 - 特許庁

To provide a means of obtaining a phase shifting mask which widens a process window in pattern formation in an exposure step.例文帳に追加

露光工程におけるパターンを形成する際のプロセスウィンドウを広げる位相シフトマスクを実現する手段を提供する。 - 特許庁

The lower conductivity plug is in contact with a phase transformation substance pattern provide on the lower interlayer insulating film.例文帳に追加

前記下部導電性プラグは前記下部層間絶縁膜上に提供された相変化物質パターンと接触する。 - 特許庁

To provide a lighting system reducing color phase irregularity that occurs in the emission pattern of light emitted to the front side.例文帳に追加

前方へ照射される光の照射パターンに生じる色むらを軽減することができる照明装置を提供する。 - 特許庁

To prevent film reduction of photoresist of a halftone phase shift mask, by suppressing the light intensity on the side of a hole pattern.例文帳に追加

ホールパターン脇の光強度を抑え、ハーフトーン位相シフトマスクにおけるフォトレジストの膜減りを防止することを目的とする。 - 特許庁

A contact surface of the phase change substance pattern 116a and the heating electrode 106 is an inner wall surface of the electrode hole 112.例文帳に追加

相変化物質パターン１１６ａと加熱電極１０６の接触面は電極ホール１１２の内側壁面である。 - 特許庁

An exposure process is performed together with a phase shift mask, on the photoresist layer, and it shifts the pattern of the mask onto the photoresist layer.例文帳に追加

露光工程は、フォトレジスト層上で位相シフトマスクと一緒に行われ、フォトレジスト層上にマスクのパターンを移動する。 - 特許庁

A synchronization signal is detected from the synchronization phase detection signal based on its pattern and a detection signal is outputted.例文帳に追加

一方、同期位相検出信号からそのパターンに基づいて同期信号を検出し検出信号を出力する。 - 特許庁

The phase shift mask 10 consists of a pattern region 1, peripheral part 2 and dummy region 3 formed in the peripheral part 2.例文帳に追加

位相シフトマスク１０は、パターン領域１と、周辺部２と、周辺部２に設けられたダミー領域３とから成る。 - 特許庁

To provide a pattern generation circuit that can properly convert data where an address does not agree in a phase to physical data.例文帳に追加

アドレスと位相が一致しないデータを物理データに正しく変換することができるパターン発生回路を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR DIGITALLY DEMODULATING PHASE MODULATION SIGNAL IN HIERARCHICAL TRANSMISSION TO DETECT FRAME SYNCHRONIZATION PATTERN AND ITS SYSTEM例文帳に追加

階層化伝送における位相変調信号をデジタル復調してフレーム同期パターン検出を行う方法及びその装置 - 特許庁

Then, a process (S160) of irradiating laser beams through the transferred phase modulation pattern to write a grating into the optical fiber is performed.例文帳に追加

そして、転写された位相変調パターンを通してレーザを照射して光ファイバにグレーティングを書き込む（Ｓ１６０）。 - 特許庁

Then, the reproduced clock signal is subjected to phase detection to thereby determine phase variation of each bit position (S3), and the phase variation is subjected to filter processing in a jitter measuring band specified beforehand by the bit rate of the data signal to the phase variation, to thereby determine the pattern-dependent jitter in each bit (S4).例文帳に追加

そして、再生されたクロック信号を位相検波して各ビット位置の位相変動量を求め（Ｓ３）、その位相変動量に対してデータ信号のビットレートによって予め規定されているジッタ測定の帯域でフィルタ処理することで、ビット毎のパターン依存性ジッタを求める（Ｓ４）。 - 特許庁

The space light modulator 30 is of the phase modulation type, has a plurality of two-dimensionally arranged pixels, phase modulation in each of the plurality of pixels is possible within a range equal to or more than 4π, and presents the phase pattern for modulating a phase of light in each of the plurality of pixels.例文帳に追加

空間光変調器３０は、位相変調型のものであって、２次元配列された複数の画素を有し、これら複数の画素それぞれにおける位相変調が４π以上の範囲で可能であり、複数の画素それぞれにおいて光の位相を変調する位相パターンを呈示する。 - 特許庁

The method of repairing a phase shift mask, comprising a substrate and a phase shift pattern formed on the substrate includes a step S42 of forming a protective film on the exposed surfaces of the phase shift mask and a step S43 of cleaning the phase shift mask.例文帳に追加

基板及び前記基板上に形成された位相シフトパターンを有する位相シフトマスクを修理する方法において、位相シフトマスクの露出された表面に保護膜を形成する段階Ｓ４２と、位相シフトマスクを洗浄する段階Ｓ４３と、を含むことを特徴とする位相シフトマスクの修理方法。 - 特許庁

The surface of a transparent substrate is provided with colored picture element patterns at least composed of a red picture element pattern, a green picture element pattern and a blue picture element pattern having respectively different retardation, and each colored picture element pattern is respectively provided with a phase difference control layer.例文帳に追加

透明基板上に、それぞれ異なるリタデーションを有する、少なくとも赤色画素パターン、緑色画素パターン、および青色画素パターンからなる着色画素パターンを設け、前記着色画素パターン毎にそれぞれ位相差制御層を設けることにより解決した。 - 特許庁

A part where a diffusion layer 1 of a transistor and a basic pattern OP of a gate pattern overlap with each other is computed, patterns of specific width are formed on both the sides of the overlap part, and both the sides of the pattern are extended to outside the diffusion layer 1 to obtain a pattern P3 of the phase shifter.例文帳に追加

トランジスタの拡散層１とゲートパターンの基本パターンＯＰとの重複部分を算出し、重複部分の両側に所定幅のパターンを生成し、前記パターンの両側を拡散層１外まで延長して、位相シフタのパターンＰ３として生成する。 - 特許庁

The sum total of the intensity of the magnetization of a burst part of the servo pattern is made 0 by forming a dc signal part involved in the burst part of the servo pattern with a combination of positive and negative dc signal components and low density dummy bits or a pattern shifted in its phase from the servo pattern.例文帳に追加

サーボパターンのバースト部分に含まれる直流信号部分を、正と負の直流信号要素の組み合わせ、低密度のダミービット、もしくは位相をずらしたパターンで構成することにより、サーボパターンのバースト部分の磁化量の総和を０とする。 - 特許庁

The interference pattern obtained with the interference optical system 5 is received with a light receiving element 7, the obtained light receiving signal phase is detected with a phase detection circuit 8 and phase amplitude is extracted with an amplitude extraction circuit 9.例文帳に追加

干渉光学系５から得られる干渉縞を受光素子７により受光し、得られた受光信号の位相を位相検出回路８により検出し、更に振幅抽出回路９により位相振幅を抽出する。 - 特許庁

Phase difference between a detection phase cycle and a reference phase cycle is detected, based on the image of the periodic pattern 33 by a main control system 23, and based on the detection result, the imaging characteristics of the projection optical system 24 are corrected.例文帳に追加

主制御系２３により、前記周期パターン３３の像に基づく検出位相周期と前記基準位相周期との位相差を検出し、その検出結果に基づいて投影光学系２４の結像特性を補正する。 - 特許庁

The image analyzing part 100 calculates a phase of the optical pattern in a certain pixel included in the image read by the image imaging part, and corrects the calculated phase, based on a measuring range indicating a range taken by the phase.例文帳に追加

画像解析部１００は、画像撮像部により読み取られた画像に含まれる或る画素における光パタンの位相を算出し、算出された位相を、位相が取り得る範囲を示す計測レンジに基づいて補正する。 - 特許庁

A phase integral period is preliminarily set in a reference wobble section and each unit data section of a data wobble string by detecting a synchronous pattern, and in starting phase integration in each section, a phase integral value is initialized to be set to a zero level.例文帳に追加

同期パターンの検出により予め参照ウォブル区間とデータウォブル列の各単位データ区間に対する位相積分期間を設定し、各区間の位相積分を開始する際に位相積分値を初期化して０レベルに設定する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a phase shifting mask in which dislocation of a resist pattern due to the waveguide effect of a Levenson phase shifting mask is suppressed and high alignment accuracy can be attained and to provide a method therefor and a pattern forming method.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスクの導波路効果に起因するレジストパターンの位置ずれの発生を抑制し、高度の位置合わせ精度を達成することが可能な位相シフトマスクの作製装置及び作製方法並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase defect correction method of a reflective mask and a manufacturing method of the reflective mask which can correct an absorber pattern accurately without damaging a reflective layer and leaving correction marks, and which can obtain a good transfer pattern without being affected by phase defects.例文帳に追加

反射層に損傷を与えず、修正痕を残さずに吸収体パターンを精度良く補正し、位相欠陥の影響をなくして良好な転写パターンが得られる反射型マスクの位相欠陥補正方法および製造方法を提供する。 - 特許庁

When the phase shifter pattern is formed by patterning a transparent film 4a, the formation and alignment of the phase shifter pattern with respect to a metallic layer 3 for forming the light shielding film of a mask substrate 2 are executed by using alignment mark patterns disposed at the metallic layer 3.例文帳に追加

透明膜４ａをパターニングして位相シフタパターンを形成する際に、マスク基板２の遮光膜形成用の金属層３に設けられた位置合わせマークパターンを用いて、金属層３に対する位相シフタパターンの形成位置合わせを行う。 - 特許庁

In the manufacturing method of a phase shifter that comprises a pattern for phase-modulating incident light on a quartz substrate, a metal film is deposited on the quartz substrate, on which a resist film is applied for exposure and development, to form a resist pattern.例文帳に追加

石英基板に入射光を位相変調するパターンを有する位相シフタの製造方法であって、前記石英基板に対し前記石英基板上に金属膜を堆積しレジスト膜を塗布し露光および現像しレジストパターンを形成する。 - 特許庁

Also, in a model in which the temperature adjustment control of the fixing unit is performed by changing over the output pattern in a specified time period, an ON waveform on the negative side of the same phase angle as the phase angle on the AC positive side is generated for the output pattern within the specified time period.例文帳に追加

また定着器の温調制御を一定時間周期で出力パターンの切り換えを行う機種において、出力パターンをＡＣ＋側の位相角と同じ位相角の−側のＯＮ波形を一定時間周期内に生成する。 - 特許庁

The current-carrying pattern #1 makes a current flow to the V-phase coil from the U-phase coil, and a current value of a shunt resistor connected to an inverter circuit is gradually increased when the current-carrying is started.例文帳に追加

通電パターン＃１はＵ相のコイルからＶ相のコイルに電流を流すもので、インバータ回路に接続されたシャント抵抗の電流値が通電開始と共に徐々に増加する。 - 特許庁

The recording layer 35 is formed with a phase change material and a pattern for transfer is formed by combining a plurality of mutually different phase changed conditions in the recording layer 35.例文帳に追加

記録層３５は相変化材料によって形成され、記録層３５内で複数の互いに異なる相変化状態を組み合わせることによって転写用のパターンが形成される。 - 特許庁

A configuration from an in-phase detector 2a to a B-PSK period detection circuit 17 digitally demodulates a phase modulation signal in hierarchical transmission to detect a frame synchronization pattern.例文帳に追加

同相検波器２ａからＢ−ＰＳＫ期間検出回路１７までの構成において、階層化伝送における位相変調信号をデジタル復調してフレーム同期パターンを検出する。 - 特許庁

Phase of transmitting spin polarization electron is changed by a chirality structure in a specimen and existence of magnetization and it is observed as phase shift of an interference pattern in a holography measurement.例文帳に追加

試料内部のカイラリティ構造や磁化の存在により、透過するスピン偏極電子の位相が変化し、ホログラフィー計測において干渉パターンの位相のずれとして観察される。 - 特許庁