「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In a method of forming a pattern, multiple exposures are effected, using a Levenson phase shift mask 10 and a half-tone phase shift mask 20, respectively.例文帳に追加

パターン形成方法において、レベンソン位相シフトマスク１０、ハーフトーン位相シフトマスク２０のそれぞれで多重露光を行う。 - 特許庁

The control section 20A selects a single correction pattern according to the temperature value of the spatial light modulation element 10 and generates the drive signal SD based on the phase pattern created by adding the single correction pattern to a desired phase pattern.例文帳に追加

制御部２０Ａは、空間光変調素子１０の温度値に応じて一の補正用パターンを選択し、該一の補正用パターンを所望の位相パターンに加算することにより作成される位相パターンに基づいて駆動信号ＳＤを生成する。 - 特許庁

On the top surfaces of two layers of a line pattern layer 125 for phase matching and a pattern layer/foot pad layer 127 for phase matching, line patterns 132 and 133 for phase matching are formed respectively.例文帳に追加

位相整合用線路パターン層１２５および位相整合用線路パターン層／フットパッド層１２７の２枚の層の各上面にはそれぞれ、位相整合用線路パターン１３２および１３３が形成されている。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which is capable of easily forming desired pattern shapes, a method of manufacturing the phase shift mask and an exposure method using the phase shift mask.例文帳に追加

所望のパターン形状を容易に形成することのできる位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a phase-change material layer pattern, a method of manufacturing a phase-change memory device, and a phase-change material polishing slurry composition for use in the methods.例文帳に追加

相変化物質層パターンの形成方法、相変化メモリー装置の製造方法、及びこれに使用される相変化物質層研磨用スラリー造成物が開示される。 - 特許庁

The semi-transmitting region is a common-phase semi-transmitting portion 2 having a property of giving the same phase in the transmitting light as the phase of the light transmitting the light transmitting opening pattern 4.例文帳に追加

この半透過領域は、透過した光が、光透過用開口パターン４を透過した光と同位相となる性質を有する同相半透過部２となっている。 - 特許庁

The image forming body 1 may have a hidden pattern of a phase modulation.例文帳に追加

画像形成体１は、位相変調による隠しパターンを有するものであっても良い。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PSUEDO-RANDOM PATTERN PHASE DIFFERENCE ARITHMETIC AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

疑似ランダムパタ—ン位相差演算方法、疑似ランダムパタ—ン位相差演算装置、及び記憶媒体 - 特許庁

The velocity of the scanning and the moving speed of a phase of the periodic pattern have a specific relation.例文帳に追加

走査の速度と、周期的パターンの位相の移動速度が一定の関係を有する。 - 特許庁

To control a dimension of a transferred pattern with higher accuracy transferred by using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いて転写する転写パターンの寸法をより高精度に制御する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法と位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a phase shift mask easy to produce and capable of forming a high-precision pattern.例文帳に追加

製造が容易でかつ高精度のパターン形成が可能な位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

A zero-vector mode, connected to an input intermediate phase, is used in determination of a switching pattern.例文帳に追加

スイッチングパターンの決定は入力中間相に接続された零ベクトルモードを使用する。 - 特許庁

A phase change substance pattern 116a is in contact with an inner wall of the electrode hole 112.例文帳に追加

相変化物質パターン１１６ａが電極ホール１１２の内側壁と接触する。 - 特許庁

The phase error of this pattern can be determined to high accuracy by aerial image measurements.例文帳に追加

このパターンの位相誤差は、空中像測定によって高精度に決定することができる。 - 特許庁

To transfer a line pattern to a positive photoresist by an exposure method using a phase shifting mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いた露光法によりポジ型のフォトレジストにラインパターンを転写する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT例文帳に追加

レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

A phase shifter is generated for a mask pattern corresponding to the extracted patterns (S3).例文帳に追加

抽出されたパターンに対応するマスクパターンに対して位相シフタを発生させる（Ｓ３）。 - 特許庁

The main pattern 101 is made from a light-shielding portion 101A and a phase shifter 101B.例文帳に追加

主パターン１０１は遮光部１０１Ａと位相シフター１０１Ｂとから構成されている。 - 特許庁

To measure banding frequency, phase and/or amplitude by using a single test pattern.例文帳に追加

単一のテストパターンを用いてバンディング周波数、位相および／または振幅を測定する。 - 特許庁

An optical fiber is coated in its circumference with a thermoplastic ultraviolet ray transmitting resin (S110); the thermoplastic ultraviolet ray transmitting resin coating is heated and softened (S120); and a phase modulation pattern mold carved with a phase modulation pattern is pressed against the resin coating (S130) to transfer the phase modulation pattern.例文帳に追加

光ファイバの周囲を熱可塑性紫外線透過樹脂で被覆し（Ｓ１１０）、被覆した熱可塑性紫外線透過樹脂を加熱して軟化させ（Ｓ１２０）、位相変調パターンが刻まれた位相変調パターン型を押し付け（Ｓ１３０）、位相変調パターンを転写する。 - 特許庁

A master device 20 has n-sets of synchronization pattern generating circuits 22a-22n that generate a synchronization pattern, and phase shift circuits 23a-23n that shift a phase of the generated synchronization pattern to transmit a synchronizing signal.例文帳に追加

マスタ装置２０は、同期パターンを生成するｎ個の同期パターン生成回路２２ａ〜２２ｎおよびこの生成された同期パターンの位相をシフトする位相シフト回路２３ａ〜２３ｎを有し同期信号を発信する。 - 特許庁

A slave device 24 has n-sets of synchronization pattern detection circuits 25a-25n that detect a synchronization pattern of the received synchronizing signal, and phase shift circuits 26a-26n that shift a phase of the detected synchronization pattern.例文帳に追加

スレーブ装置２４は、受信された同期信号の同期パターンを検出するｎ個の同期パターン検出回路２５ａ〜２５ｎおよびこの検出された同期パターンの位相をシフトする位相シフト回路２６ａ〜２６ｎを有する。 - 特許庁

Two signals to be output from the sine pattern processing part 22B and the cosine pattern processing part 22A are combined by a synthesis processing part 24 and a continuous wave (a phase shift continuous wave) having a prescribed phase pattern is formed.例文帳に追加

正弦パターン処理部２２Ｂと余弦パターン処理部２２Ａから出力される２つの信号が合成処理部２４において合成され、所定の位相パターンを備えた連続波（位相シフト連続波）が形成される。 - 特許庁

Then, in a step 32, the CPU arranges the phase shifter having the same phase to the layout pattern having the same potential information based on the potential information of the layout pattern onto the adjacent layout pattern.例文帳に追加

次に、ＣＰＵは、ステップ３２において隣接するレイアウトパターンに対して、それらレイアウトパターンの電位情報に基づいて、同じ電位情報を持つレイアウトパターンに対して同じ位相を持つ位相シフタを配置する。 - 特許庁

To form a fine pattern without using an auxiliary pattern method and a phase shift mask or the like, and to easily inspect the fault of the mask.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

A frame pattern detection section 23 of a receiver 2 detects the frame pattern inserted to the frame signal to identify a phase of the frame.例文帳に追加

受信装置２のフレームパタン検出部２３で、フレーム信号に挿入されたフレームパタンを検出し、フレームの位相を特定する。 - 特許庁

To provide a method for designing a new phase shift mask with less dimensional change in a pattern even in a random logic pattern.例文帳に追加

ランダムロジックパターンにおいてもパターンの寸法変動が少ない新たな位相シフトマスクの設計方法を実現できるようにする。 - 特許庁

The control system carries out a changeover operation with the use of an exclusive phase excitation pattern when a two phase excitation of a 1-2 phase excitation system is changed over to a two phase excitation system and when the two phase excitation system is changed over to a one phase excitation of the 1-2 phase excitation system.例文帳に追加

上記課題を達成するための、本発明の制御方式は、１−２励磁方式の２相励磁から２相励磁方式へ切り替える場合、及び２相励磁方式から１−２相励磁方式の１相励磁へ切り替える場合に、専用の相励磁パターンを用いて切り替え動作を行うことである。 - 特許庁

A pattern is transferred to a resist film 12 on a wafer 11 with a reduced-projection exposure method, using a half-tone phase shift mask, formed by a translucent phase shift pattern comprising a thin film pattern 2a which has the function of dimmer body and a resist pattern 3a, having the function of photosensitive composite for adjusting the phase.例文帳に追加

減光体としての機能を有する薄膜パターン２ａと、位相調整用の感光性組成物としての機能を有するレジストパターン３ａとを有する半透明位相シフトパターンが形成されたハーフトン位相シフトマスクを用いた縮小投影露光法によって、ウエハ１１上のレジスト膜１２にパターンを転写する。 - 特許庁

The pulse pattern given to the self- excitation voltage type converter is identical to that of pattern, but the phase of this pattern results, deviated by 30 degrees for the pulse pattern given to the self-excitation voltage type converter.例文帳に追加

自励式電圧形変換器に与えられるパルスパターンは、パターンとしては同じであるが、その位相は自励式電圧形変換器に与えられるパルスパターンに対して３０度ずれたものとなる。 - 特許庁

A phase mask pattern to impart a discrete phase structure to reference light is formed in a reference light region to be irradiated with reference light in a phase mask, while a phase mask pattern for imparting a continuous phase structure to signal light is formed in a signal light region to be irradiated with a signal light.例文帳に追加

位相マスクにおいて参照光が照射される参照光領域には参照光に離散的な位相構造を与えるための位相マスクパターンを形成し、信号光が照射される信号光領域には信号光に連続的な位相構造を与えるための位相マスクパターンを形成する。 - 特許庁

In the phase adjustment control, the phase of the speed variation pattern is adjusted by temporarily changing the driving amount of each processing driving motor.例文帳に追加

位相調整制御では、各プロセス駆動モータの駆動量を一時的に変化させてそれら速度変動パターンの位相を調整する。 - 特許庁

Observation of a developed resist pattern results in that no resist residue indicating phase conflict as a conventional problem is observed.例文帳に追加

また現像されたレジストパターンを観察したが、問題となっていたフェーズコンフリクト（Phase Conflict）を示すレジスト残りの現象は全く観測されなかった。 - 特許庁

In addition, the semiconductor testing device is provided with phase regulating circuits 22, 24, and 26 to each regulate the phase of the output of the pattern generators 14, 16, 18, and 20.例文帳に追加

また、パターン発生器１４，１６，１８，２０の出力各々の位相を調整する位相調整回路２２，２４，２６を備える - 特許庁

The phase difference abnormality and transmittance difference abnormality are detected, base on the relation to correct the device pattern of the Levenson phase shift mask 4.例文帳に追加

そして、この関係に基づいて、位相差異常及び透過率差異常を検出し、レベンソン位相シフトマスク４のデバイスパターンを補正する。 - 特許庁

The constraint information is set so that the phase of the spatial frequency of the dot pattern prepared next to the already recorded dot pattern becomes an opposite phase in a low frequency zone.例文帳に追加

この制約情報は、既に記録されたドットパターンに対して次に作成されるドットパターンの空間周波数の位相が低周波域で逆位相となるように設定されている。 - 特許庁

The printed portion of the document includes a first printed pattern generated from the phase-shifted region and a second printed pattern generated from the non phase-shifted region.例文帳に追加

文書の印刷された部分は、位相偏移領域から結果として生じる第１の印刷パターンと、非位相偏移領域から結果として生じる第２の印刷パターンとを含む。 - 特許庁

The phase conversion memory device includes a lower electrode formed on a semiconductor substrate, a phase conversion pattern formed on the lower electrode, and an upper electrode formed on the pattern.例文帳に追加

この記憶素子は半導体基板上に形成された下部電極と、下部電極上に形成された相変換パターンと、相変換パターン上に形成された上部電極と、を含む。 - 特許庁

Concerning this phased array antenna system, a sum pattern and a difference pattern can be obtained while utilizing the fact that the bore site direction (direction of tracking axis) of the sum pattern is same as that of the difference pattern even when the number of phase shifters capable of adjusting the phase shift quantity is equal to the number of element antennas.例文帳に追加

和パターンと差パターンのボアサイト方向（トラッキング軸の方向）が同じであることを利用して、移相量を調整可能な移相器の数が素子アンテナの数と同じでも和パターンと差パターンを得ることができるフェーズドアレーアンテナシステムを構成する。 - 特許庁

As opposed to this, by using a reticle that is so formed that the phase of electrons passing through a periodical pattern on the reticle is alternately shifted by (n+1/2)λ for each unit pattern of the periodical pattern, the pattern of a distribution of the electron beam taking account of phase is, as shown in (c).例文帳に追加

これに対し、レチクル上周期パターンを通過する電子の位相が、当該周期パターンの単位パターン毎に、交互に（ｎ+1/2）λずれるように形成されたレチクルを用いているので、位相を考慮した電子線の分布のパターンは（ｃ）に示すようになる。 - 特許庁

A phase shift mask in which a phase of a transmitted light through one electrode pattern is inverted to a phase of a transmitted light through the other electrode pattern is used as a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of the magnetic disk device to form ≤0.25μm track width.例文帳に追加

磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転する位相シフトマスクを用い、0.25μｍ以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁

The phase connection is performed by using the first spatial code pattern when a relative phase ϕ of a pixel obtained by the phase shift method satisfies 0<ϕ<+π and by using the second spatial code pattern when it satisfies -π<ϕ<0.例文帳に追加

位相シフト法で求めた画素の相対位相φが０＜φ＜＋πのときには前記第１の空間コードパターンを使用し、−π＜φ＜０のときには前記第２の空間コードパターンを使用することによって、位相接続を行う。 - 特許庁

In a loop processing including detection of wavefront distortion of light by the wavefront detector 60, phase pattern adjustment by the controller 70 based on this detection result, and the presentation of the phase pattern by the wavefront modulator 30, the compensation phase pattern for compensating wavefront aberration is feedback-controlled.例文帳に追加

波面検出部６０による光の波面歪みの検出と、この検出結果に基づく制御部７０による位相パターンの調整と、波面変調部３０による位相パターンの呈示と、を含むループ処理において、波面収差補償を行う為の補償用位相パターンはフィードバック制御される。 - 特許庁

To produce a phase shifting mask capable of achieving high transfer pattern dimensions, to provide a phase shifting mask which enables production of a high performance large-scale integrated circuit by achieving higher transfer accuracy and to provide a pattern forming method using the phase shifting mask and a solid-state device produced by the pattern forming method.例文帳に追加

高い転写パタン寸法を実現できる位相シフトマスクが製造でき、さらに高い転写精度を実現することで高性能な大規模集積回路の製造が可能となる位相シフトマスク、該位相シフトマスクを用いたパタン形成法、該パタン形成法による固体素子を提供する。 - 特許庁