「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The correlation with deformation of the pattern of the phase shift mask due to the difference in light intensity between a shifter part and a non-shifter part of the phase shift mask by waveguide effect is stored in a rule base.例文帳に追加

導波路効果による位相シフトマスクのシフタ部と非シフタ部との間の光強度の違いに起因する位相シフトマスクのパターンの変形との相関関係をルールベース化する。 - 特許庁

Since this mask pattern includes a phase component in addition to an amplitude component, in steps 33 and 34, the objective photomask having a phase shifting layer disposed on a transmissivity modulating layer is produced.例文帳に追加

このマスクパターンは振幅成分に加えて位相成分も含んでいるので、ステップ３３および３４で透過率変調層に位相シフト層が積層されたフォトマスクを製造する。 - 特許庁

To obtain a polarized separating element capable of suppressing the evaporation of carboxylic acid contained in a transparent phase obtained after exposing a pattern to ultraviolet rays and preventing or suppressing the generation of dents on the transparent phase.例文帳に追加

偏光分離素子において、紫外線によるパターン露光後の透明相に含まれるカルボン酸の揮発を抑制し、この透明相の凹みの発生を防止、あるいは抑制できること。 - 特許庁

To enable generating a reproduced clock by detecting phase error information without inserting a special recording pattern for phase error detection into a recording area in reproducing multi-value information.例文帳に追加

多値情報再生において、記録領域に位相誤差検出用の特別な記録パターンを挿入することなく、位相誤差情報を検出し、再生クロックの生成を可能とする。 - 特許庁

A pattern for measurement configured of a reference phase transmitting part 3e and a phase difference transmitting part 3f whose phase difference with the reference position transmitting part 3e is in a degree other than 180° is projection-exposed to the surface of a semiconductor wafer applied with a resist simultaneously with a pattern to be exposed, and developed so that resist patterns for measurement can be formed.例文帳に追加

基準位相透過部３ｅ及び基準位相透過部３ｅとの位相差が１８０度以外の位相差透過部３ｆで構成された測定用パターンを、露光対象のパターンと同時にレジストを塗布した半導体ウェーハの表面へ投影露光し、現像処理して測定用レジストパターンを形成する。 - 特許庁

An optical fiber is prepared that is coated in its circumference with a thermoplastic ultraviolet ray transmitting resin (S110); the thermoplastic ultraviolet ray transmitting resin so coated with is heated and softened (S120); and a plurality of phase modulation pattern molds carved with a phase modulation pattern is pressed against the coating resin (S130) to transfer the plurality of phase modulation patterns to the same position longitudinally.例文帳に追加

周囲を熱可塑性紫外線透過樹脂で被覆した光ファイバを用意し（Ｓ１１０）、被覆した熱可塑性紫外線透過樹脂を加熱して軟化させ（Ｓ１２０）、位相変調パターンが刻まれた複数の位相変調パターン型を押し付け（Ｓ１３０）、複数の位相変調パターンを長手方向に同じ位置に転写する。 - 特許庁

In an optical plate, its manufacturing method, a display device, and its manufacturing method, an optical plate is formed on the polarizing plate transmitting polarization among incident light, and includes a phase delay layer containing a first pattern providing 3 lambda/4 phase delay of the polarization and a second pattern providing λ/4 phase delay of the polarization.例文帳に追加

光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法において、光学板は入射光のうち、偏光を透過させる偏光板上に形成され、偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層を含む。 - 特許庁

In a first face 21x of a printed circuit board 21 constituting the position detection device, a print connection wiring 26 extending from an inner phase conductive pattern 22 is guided out to its inside, and the print connection wiring 27 extending from the middle phase conductive pattern 23 is guided out to its inside through an insulating part 22x which is a notched part of the inner phase conductive pattern 22.例文帳に追加

位置検出装置を構成するプリント基板２１の第１面２１ｘにおいて、内相の導電パターン２２から延びるプリント接続配線２６がその内側に導出され、中間相の導電パターン２３から延びるプリント接続配線２７が内相の導電パターン２２の切欠き部分である絶縁部２２ｘを通じてその内側に導出される。 - 特許庁

Only the zero order light of a Fourier conversion image (light diffraction pattern) obtained from a phase object placed in a wide measurement visual field, configured by a Fourier conversion lens set in a coherence parallel laser luminous flux is used as a phase difference reference light different from high order diffraction light, and a sharp phase difference image is obtained by causing it to interfere with a phase object image obtained by a high order light diffraction pattern.例文帳に追加

可干渉性平行レーザ光束中に設置されたフーリエ変換レンズで構成される広い測定視界中に置かれた位相物体から得られるフーリエ変換像(光回折パターン)の零次光だけを高次の回折光と異なる位相差参照光として、高次光回折パターンで得られる位相物体像と干渉させて鮮明な位相差画像を得る。 - 特許庁

The phase-change memory element includes a word line extended in one direction on a substrate, a first semiconductor pattern disposed on the word line, a node electrode disposed on the first semiconductor pattern, a Schottky diode formed between the first semiconductor pattern and the node electrode, and a phase-change resistor disposed on the node electrode.例文帳に追加

基板上に一方向に延伸しているワードラインと、ワードライン上に位置する第１半導体パターンと、第１半導体パターン上に位置するノード電極と、第１半導体パターンとノード電極との間に形成されたショットキーダイオードと、ノード電極上に位置する相変化抵抗体と、を備える半導体メモリ素子。 - 特許庁

To provide a " production method of pattern variation by illumination " in which, by making a combination of a color material of which color phase changes by variation of illumination and a color material of which color phase does not change by devising the combination of illumination and the color material, a pattern is floated or eliminated by an operation of illumination, or the pattern is changed.例文帳に追加

照明と色材の組合せを工夫する事で、照明変化により色相が変化する色材と変化しない色材の組合せを作り、照明の操作次第で模様を浮上がらせたり消したり、或いは模様を変化させたりできる「照明によるパターン変化の演出法」を提供する。 - 特許庁

Since each pixel is two-dimensionally arranged in vertical and horizontal directions, for instance, the grating pattern of a vertical streak pattern is formed, and a spatial phase of the grating pattern is changed by moving the position of a grating line in a lateral direction.例文帳に追加

各画素は、縦横方向２次元に配列されているので、例えば縦縞模様の格子パターンを形成し、かつ、その格子線の位置を横方向に移動させることにより、格子パターンの空間位相を変化させることができる。 - 特許庁

When a zero cross point detector 14 detects a zero cross point, a pull-in pattern generator 15 estimates a pull-in pattern inserted into a reproduction signal and supplies the pull-in pattern to a phase error calculator 17 via a selector 16.例文帳に追加

ゼロクロス点検出器１４によりゼロクロス点が検出されたとき、引き込みパターン生成器１５は、再生信号に挿入されている引き込みパターンを推定し、セレクタ１６を介して位相誤差計算器１７に供給する。 - 特許庁

By a recorded data selecting circuit 17, outputs from the phase adjustment pattern generating circuit 14, the synchronizing pattern generating circuit 15 and the power control pattern generating circuit 16 are successively selected and recorded on tops of each sector of a magneto-optical disk 1.例文帳に追加

記録データ選択回路１７は位相調整パターン発生回路１４、同期パターン発生回路１５と、パワー制御パターン発生回路１６からの出力を順次選択して、光磁気ディスク１の各セクタの先頭に記録する。 - 特許庁

A control unit 10 includes phase voltage command value conversion means 14 and switching pattern determining means 16.例文帳に追加

制御装置１０は、相電圧指令値変換手段１４及びスイッチングパターン決定手段１６を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mask inspection device capable of detecting phase defect at the stage of mask blank that is a stage before depositing a absorber pattern.例文帳に追加

吸収体パターンを被着させる前のマスクブランクの段階で位相欠陥を検出することが可能な装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for designing a phase grating pattern to present deformed illumination and to provide a method for manufacturing a photomask by using the method.例文帳に追加

変形照明を提供する位相格子パターン設計方法及びこれを利用したフォトマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

When the light phase-modulated by the liquid crystal SLM 137 passes through a Fourier transform lens 14, a desired optical pattern is formed.例文帳に追加

また、液晶ＳＬＭ１３７で位相変調された光がフーリエ変換レンズ１４を通ると、所望の光パターンが形成される。 - 特許庁

The imaging part acquires an image group comprising a plurality of images having each phase of the pattern light shifted at a fixed interval between each image.例文帳に追加

また、撮像部は、各画像間でパターン光の位相が一定間隔にずれた複数の画像からなる画像群を取得する。 - 特許庁

A self-aligned bit extending part is provided to the phase transition pattern to form a bit line traversing over the inter-layer insulating film.例文帳に追加

前記相転移パターンに自己整列されたビット延長部を備えて前記層間絶縁膜上を横切るビットラインを形成する。 - 特許庁

A magnetic pattern which is made by alternately forming two phase patterns 10A, 10B is recorded to the magnetic recording medium by means of magnetic transfer.例文帳に追加

磁気記録媒体に対して、二つの位相パターン10Ａ，10Ｂが交互に形成されてなる磁気パターンを磁気転写により記録する。 - 特許庁

The symbol dictionary generating section 402 generates a symbol dictionary on the basis of the period, the phase, the shape and the size of the binary dot pattern.例文帳に追加

シンボル辞書作成部４０２は、２値網点パターンの周期、位相、形状並びにサイズに基づいて、シンボル辞書を作成する。 - 特許庁

And a laser beam is radiated through the transferred phase modulation pattern to write a grating on the core of the optical fiber (S160).例文帳に追加

そして転写された位相変調パターンを通してレーザを照射して光ファイバのコア部分にグレーティングを書き込む（Ｓ１６０）。 - 特許庁

The recording device records a pattern sequence by irradiating a phase change recording medium with laser light which is intensity modulated with a recording strategy.例文帳に追加

相変化記録媒体に記録ストラテジにて強度変調したレーザ光を照射してパターン列を記録する記録装置である。 - 特許庁

At an LSI design phase, a region indicating the circuit treating the micro signal is created as a region pattern, excluding a wiring.例文帳に追加

ＬＳＩ設計段階に、微小信号を取り扱う回路を示す領域を配線除外領域パターンとして作成しておく。 - 特許庁

A master disk 21 is formed by forming a convex-concave shape that corresponds a convex-concave shape of a pattern phase difference film on a flat plate.例文帳に追加

平板上に、パターン位相差フィルムの凹凸形状に対応する凹凸形状を作製して原盤２１を作製する。 - 特許庁

To carry out a servo demodulation by appropriately compensating a demodulation error caused by a fluctuation of a reproduction signal amplitude of a phase servo pattern.例文帳に追加

位相サーボパターンの再生信号の振幅が変動して生じた復調誤差を適切に補償してサーボ復調を行う。 - 特許庁

This module is constituted so that a ferromagnetic body 11 collectively encloses each phase of a circuit pattern 6 on an output side of a switching circuit 5.例文帳に追加

強磁性体１１がスイッチング回路５の出力側の回路パターン６の各相を纏めて囲むように構成する。 - 特許庁

The phase shifter allows pattern formation of almost vertical shape with no taper.例文帳に追加

本製造方法により製造された位相シフタは、テーパを有さない略垂直形状のパターン形成を実現させることが出来る。 - 特許庁

The dummy noise generation part 24 synchronizes with the control signal, while generating a dummy noise signal having a waveform pattern of a reverse phase.例文帳に追加

疑似雑音発生部２４は、制御信号と同期しつつ逆相の波形パターンを有する疑似雑音信号を発生する。 - 特許庁

A microfluidic device includes a first substrate 5, and a pattern 4 of a phase change ink deposited on a surface of the first substrate.例文帳に追加

マイクロ流体デバイスは、第１の基板５と、この第１の基板表面に堆積した相変化インクのパターン４とを含む。 - 特許庁

In a diffractive multifocal lens, the diffraction phase structure of a diffraction pattern has a structure expressed by formula (1).例文帳に追加

回折パターンの回折位相構造が、下記式により表される構造を有することを特徴とする回折型多焦点レンズ。 - 特許庁

This control device 10 comprises a phase-voltage command value conversion means 14 and a switching pattern determination means 16.例文帳に追加

制御装置１０は、相電圧指令値変換手段１４及びスイッチングパターン決定手段１６を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In this time, a phase of the second element constituting the second pattern is partially made different and/or a part of width of the second element is made different, thereby forming the latent-image pattern.例文帳に追加

このとき、第２の模様を構成する第２の要素の位相を部分的に異ならせ及び／又は第２の要素の幅の一部を異ならせることにより潜像模様を形成する。 - 特許庁

The first light-shielding pattern 6 includes a first semi-light-shielding portion 2A and an auxiliary pattern 3 which is arranged within the first semi-light-shielding portion 2A and allows the exposing light to pass through in an opposite phase.例文帳に追加

第１の遮光パターン６は、第１の半遮光部２Ａと、第１の半遮光部２Ａ内に配置され且つ露光光を反対位相で透過させる補助パターン３とを有する。 - 特許庁

Output pattern data (D3 and D4) of binary values (1, 0) are read from an A/B phase pattern table 24 by the computed value for each sampling and output data (D0 and D1) from a quadrant-verifying part 23.例文帳に追加

各サンプリング毎の演算値と象限確認部２３からの出力データ（Ｄ０，Ｄ１）によって、Ａ／Ｂ相パターンテーブル２４から２値（１，０）の出力パターンデータ（Ｄ３，Ｄ４）を読み出す。 - 特許庁

Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.例文帳に追加

続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁

A storing means 30 stores orthogonal modulated wave data calculated from the pattern data of common mode baseband signal data and the data pattern of orthogonal baseband signal data in every phase relation of a carrier.例文帳に追加

記憶手段30は、搬送波の位相関係ごとに、同相ベースバンド信号データのデータパターンと直交ベースバンド信号データのデータパターンから計算した直交変調波データを格納している。 - 特許庁

By a liquid phase deposition method (LPD), a dielectric film is not deposited on a resist pattern but selectively deposited on a gallium nitride compound semiconductor layer on which no resist pattern is formed.例文帳に追加

液相堆積法（ＬＰＤ）により、誘電体膜を、レジストパターン上には堆積させず、レジストパターンが形成されていない窒化ガリウム系化合物半導体層上に選択的に堆積させる。 - 特許庁

A scanning angle determining unit 40 figures out a scanning angle variation pattern matching the measured time intervals, and figures out from the pattern a scanning angle matching the phase of a laser drive signal.例文帳に追加

走査角度判定部４０は、計測された時間間隔に対応する走査角度変化パターンを求め、そのパターンからレーザー駆動信号の位相に対応する走査角度を求める。 - 特許庁

A receiver side STM frame synchronizing circuit 12 detects a frame synchronization pattern to check a pattern of a bit phase, generates bit rearrangement information 110 denoting the pattern, applies bit rearrangement processing with respect to the parallel data 102 on the basis of the pattern to generate parallel data 106 that are synchronized in terms of bytes.例文帳に追加

受信側STM フレーム同期回路12では、フレーム同期パターンを検出してビット位相のパターンを調べ、そのパターンを示すビット並べ替え情報110 を生成すると共に、そのパターンに基づいてパラレルデータ102 に対してビット並べ替え処理を施し、バイト同期のとれたパラレルデータ106 を生成する。 - 特許庁

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁

In an exposure device, a plurality of different masks (OPC mask or phase shift mask) corresponding to the pattern P1 are prepared, and a reticle is selected as capable of imprinting a device pattern accurately based on a measurement inspecting result of reticle pattern or measurement inspecting result of wafer pattern.例文帳に追加

露光装置では、パターンＰ１に相当する複数の異なるマスク（ＯＰＣマスク又は位相シフトマスク）が用意されており、レチクルのパターンの測定検査結果やウエハのパターンの測定検査結果などに応じて、デバイスパターンを精度良く転写することが可能なレチクルを選択する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask that prevents the dimension of a pattern transferred to a photoresist from changing even if the exposure frequency increases, a method of manufacturing the phase shift mask, and a method of manufacturing a semiconductor device using the phase shift mask.例文帳に追加

本発明は、フォトレジストに転写されたパターンの寸法が、露光回数が多くなっても変化しない位相シフトマスク、その製造方法、および、その位相シフトマスクを使用した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A pattern to form on a wafer is stored in a pattern memory 11 and an intensity/phase calculator 12 calculates the interference intensity at each incident angle θ, the phase between two light beams, and the angular variation of interference reflectors 5a and 5b based on that information.例文帳に追加

パターン記憶装置１１にはウエハ上に形成したいパターンが記憶されており、強度・位相計算装置１２はその情報を基に、各入射角θに対して干渉強度、２光束間の位相、干渉用反射鏡５ａ，５ｂの角度変化量を計算する。 - 特許庁