「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the levenson type mask includes an opening setting process of defining a same phase opening and reverse phase opening on both sides of a first pattern.例文帳に追加

レベンソン型マスクの製造方法は、第１パターンの両側に、同位相開口部および反転位相開口部を定める開口部設定工程を含む。 - 特許庁

A non-crosslinked negative resist is used for the formation of the pattern of the word line in a nonvolatile semiconductor storage device and an alternate phase inverted arrangement of a phase-shift exposure is performed on the negative resist.例文帳に追加

不揮発性半導体記憶装置のワード線のパターン形成に非架橋系ネガレジストを用い、交互位相反転配置の位相シフト露光を行う。 - 特許庁

The transition between the phase shift region and non-phase shift region alone defines a pattern on the wafer, without the need for an opaque structure on the mask.例文帳に追加

位相シフト領域と非位相シフト領域の間の遷移だけで、ウェハ上のパターンを画定するため、マスク上の不透明構造は不要となる。 - 特許庁

A phase-change pattern filling a hole without forming a void and seam can be realized by selectively-forming a phase-change material layer.例文帳に追加

本発明によれば、相変化物質層を選択的に形成することによって、ボイド及びシームなしにホールを満たす相変化パターンを実現することができる。 - 特許庁

The image characteristics of the pattern is optimized by calculating the optical phase of a preferable first-order diffraction beam relative to the optical phase of the zeroth diffraction beam.例文帳に追加

パターンの像の像特性は、０次回折ビームの光位相に関して、望ましい１次回折ビームの光位相を計算することにより最適化される。 - 特許庁

The space light phase modulator 5 includes a plurality of pixels 5PX to which a phase difference is given based on a two dimensional data pattern of the image information IM.例文帳に追加

空間光位相変調器５は、イメージ情報ＩＭの２次元データパターンに基づいて位相差が与えられる複数のピクセル５ＰＸを含む。 - 特許庁

In the holographic recording apparatus 10, a phase code mask 26 on which a phase code pattern is previously recorded as a hologram is used in a reference optical system 20 and reference light with which a holographic recording medium is irradiated is subjected to phase spatial modulation by the phase code mask 26 in place of a phase spatial light modulator.例文帳に追加

ホログラフィック記録装置１０は、その参照光学系２０に、予め位相コードパターンがホログラムとして記録されている位相コードマスク２６を用い、ホログラフィック記録媒体に照射される参照光を位相空間光変調器に代えて位相空間変調する。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase shift mask, capable of contributing to fineness and high accuracy of a circuit pattern.例文帳に追加

回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The pitch of an interference pattern in a lit surface is fined by modulating a phase from an element lens of an MLA.例文帳に追加

ＭＬＡの素子レンズからの位相を変調して被照明面での干渉縞のピッチを細かくする。 - 特許庁

To provide a phase shift mask blank with which a fine pattern is stably transferred with high accuracy.例文帳に追加

微細なパターンを高い精度で安定的に転写することが可能な位相シフトマスクブランクを提供すること。 - 特許庁

The high frequency signal pattern is erased by writing a signal having a reversed phase and the same frequency.例文帳に追加

さらに、上記高周波信号パターンを、位相が逆転した同周期の信号書き込みで消去する。 - 特許庁

A first phase transition pattern 77 is interposed between the first surface S1 and the electrode 81.例文帳に追加

第１表面Ｓ１と第３電極８１との間に第１相転移パターン７７を介在させる。 - 特許庁

To produce a phase servo pattern on a magnetic transfer substrate by using an electron beam.例文帳に追加

磁気転写用マスター担体における位相サーボパターンを、電子ビームにより容易に且つ高精度で描画する。 - 特許庁

The phase-change substance pattern and the lower interlayer insulating film are covered with an upper interlayer insulating film.例文帳に追加

前記相変化物質パターン及び前記下部層間絶縁膜は上部層間絶縁膜で覆われている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask that can contribute to a finer circuit pattern and higher accuracy.例文帳に追加

回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the halftone phase shift mask, an auxiliary pattern for light shielding is formed of a photosensitive organic film such as a resist.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクにおいて遮光用補助パターンをレジストなどの感光性有機膜で形成する。 - 特許庁

To change the phase of a light intensity pattern on a detection surface by 2π in a predetermined route.例文帳に追加

検出面における光強度パターンの位相が、所定の経路において２πだけ変化するようにする。 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING PHASE GRATING PATTERN PRESENTING DEFORMED ILLUMINATION AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BY USING THE SAME例文帳に追加

変形照明を提供する位相格子パターン設計方法及びこれを利用したフォトマスク製造方法 - 特許庁

The image forming device includes a phase computing means, a pattern recognition means and a correction factor output means.例文帳に追加

画像形成装置は、位相演算手段、パターン認識手段及び補正係数出力手段を含む。 - 特許庁

Two contiguous SYN's at the start of each transmission(SYN SYN) are referred to as the character-phase sync pattern 例文帳に追加

各伝送に先立って送られる二つの連続するSYN(SYN SYN)は,文字フェーズ同期パターンとして用いられる - コンピューター用語辞典

The imaging means takes a medical image on a phase of the breathing pattern previously stored.例文帳に追加

前記撮影手段は、前記呼吸パターンの予め記憶された位相における医用画像を撮影する。 - 特許庁

although the line pattern 132 for phase matching provided on the line pattern layer 125 for phase matching is extended around even onto a wire bonding pad layer 122 and a cavity layer 123a provided right below it in conventional constitution, the branching filter of the present invention does not have the line pattern for phase matching extended around.例文帳に追加

従来構成では、位相整合用線路パターン層１２５上に設けられた位相整合用線路パターン１３２が、ワイヤボンディングパッド層１２２およびその直下に設けられているキャビティ層１２３ａ上にも引き回されているのに対して、本発明の分波器ではかかる位相整合用線路パターンの引き回しがない。 - 特許庁

The method includes a step for forming at least one non-critical feature on a mask by utilizing one of a low transmittance phase shift mask (pattern) and a non-phase shift mask (pattern) and a step for forming at least one critical feature on the mask by utilizing a high transmittance phase shift mask (pattern).例文帳に追加

この方法は、低透過率位相シフト・マスク（パターン）と非位相シフト・マスク（パターン）の一方を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルでないフィーチャを形成するステップと、高透過率位相シフト・マスク（パターン）を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルなフィーチャを形成するステップとを含む。 - 特許庁

A zero voltage is constituted with reference to the intermediate voltage phase of an input-phase voltage of an AC-AC direct conversion circuit, and a zero-phase switching pattern is determined by dividing an input spatial vector by 12.例文帳に追加

交流−交流直接変換回路の入力相電圧の中間電圧相を基準にして零電圧を構成し、入力空間ベクトルを１２分割して零相スイッチングパターンを決定する。 - 特許庁

The method comprises utilizing a stress-assisted rolling process for a microstructure phase film layer to form a microstructure phase film pattern with a plurality of openings and a plurality of phase retarder patterns.例文帳に追加

この方法は、マイクロ構造位相フィルム層に対する応力アシスト圧延プロセスを利用して複数の開口部および複数の位相リターダパターンを備えたマイクロ構造位相フィルムパターンを形成するステップを含む。 - 特許庁

To provide a color filter having phase difference control layers capable of obtaining phase difference amount suitable for each color pattern by changing the thickness of the phase difference control layers of liquid crystalline polymer used for improving the visibility of a liquid crystal display, etc., at every each color pattern of color filter layers made by laminating the phase difference control layers without accompanying an additional process.例文帳に追加

液晶ディスプレイ等の視認性を向上させるために用いる液晶性高分子の位相差制御層の厚みを、格別の工程の付加を伴なうことなく、位相差制御層が積層されるカラーフィルタ層の各色パターンごとに変えて、各色パターンに適した位相差量を実現することを課題とする。 - 特許庁

It comprises a phase detecting means 2 for detecting the phase of a power supply voltage, a first level discriminating means 3 for discriminating relationship, difference in level, of respective phase power supply voltages from the detected phase, and a commutation pattern generating means 4 for deciding the switching pattern of the AC switch according to the level discrimination signal.例文帳に追加

電源電圧の位相を検出する位相検出手段２と、検出した位相から各相電源電圧の大小関係を判別する第１の大小判別手段３と、この大小判別信号に従って交流スイッチのスイッチングパターンを決定する転流パターン生成手段４と、を備える。 - 特許庁

In this magnetic sensor having a magnetoresistant pattern with the magnetoresistor thin films formed on a substrate, wherein the magnetoresistant pattern is constituted of an A-phase magnetoresistant pattern and a B-phase magnetoresistant pattern for outputting two signals different in phases by 90°, the magnetoresistant pattern is formed by combining the two substrates.例文帳に追加

磁気抵抗体薄膜が基板上に形成された磁気抵抗パターンを有し、この磁気抵抗パターンは、９０°位相の異なる２個の信号を出力するＡ相磁気抵抗パターンとＢ相磁気抵抗パターンとから構成される磁気センサにおいて、その磁気抵抗パターンは、２個の基板が組み合わされて形成されることを特徴とする。 - 特許庁

Then, the second and fourth antennas perform phase inversion for each data communication between a pattern 1 that in-phase currents are allowed to flow through the second antenna 12 and the third antenna 13 and a pattern 2 that in-phase currents are allowed to flow through the first antenna 11 and the second antenna 12.例文帳に追加

第２及び第４アンテナは、第２アンテナ１２と第３アンテナ１３とに互いに同相の電流が流れるパターン１と第１アンテナ１１と第２アンテナ１２とに互いに同相の電流が流れるパターン２との間でデータ通信ごとに位相反転を行う。 - 特許庁

According to the pitch of the pattern, a correction quantity is calculated by using the rule base to correct data for pattern inspection and then data for phase shift mask correspondence inspection.例文帳に追加

次いで、パターンのピッチに基づいて、ルールベースから補正量を算出してパターン検査用データを補正して、位相シフトマスク対応検査用データを作成する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of forming a pattern having a high orientation and a phase-separated structure on a polymer alloy in a short time.例文帳に追加

ポリマーアロイに配向性の高い相分離構造のパターンを短時間で形成することのできるパターン形成方法及びポリマーアロイ下地材料を提供する。 - 特許庁

At that time, the forming is carried out such that the phase of the already recorded dot pattern is opposite to that of the next formed dot pattern in the low-frequency band.例文帳に追加

このとき、既に記録されたドットパターンに対して次に作成されるドットパターンの位相が低周波域で逆位相となるように作成する。 - 特許庁

In this pattern forming method, a circuit pattern 14 is formed on a resist film on a substrate 141 with an exposing process using phase shift masks 10, 12.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、位相シフトマスク１０，１２を用いた露光により、基板１４１上のレジスト膜に回路パターン１４を形成するものである。 - 特許庁

The resolution of the pattern can be enhanced and ≤0.25μm resist pattern can be resolved and ≤0.25μm track width can be formed by using the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いることにより、パタ−ンの解像度の向上が図れ、0.25μｍ以下のレジストパタ−ンを解像でき、0.25μｍ以下のトラック幅が形成可能となる。 - 特許庁

To provide a phase grating pattern designing method for providing modified lighting optimized into a target pattern and a photomask manufacturing method using the same.例文帳に追加

目標パターンに最適化された変形照明を提供する位相格子パターン設計方法及びこれを利用したフォトマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

Each time a spiral servo pattern to be used as a base pattern is switched, a correction value corresponding to the spiral servo pattern to be newly used as a base pattern is acquired from the correction table, and a phase of a servo write clock is adjusted.例文帳に追加

そしてベースパターンとして使用すべきスパイラルサーボパターンが切り替えられる度、新たにベースパターンとして使用すべきスパイラルサーボパターンに対応する補正値が補正テーブルから取得されてサーボライトクロックの位相が調整される。 - 特許庁

A processed layer pattern 4 is formed using an alternating phase shift mask, then ion implantation of an impurity is selectively carried out in the unnecessary pattern 4b to increase an etching rate of the unnecessary pattern 4b, after which the unnecessary pattern 4b is etched away.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクを用いて被加工層パターン４を形成した後、不要パターン４ｂに選択的に不純物をイオン注入して不要パターン４ｂのエッチングレートを上げた後に、不要パターン４ｂをエッチングにより除去する。 - 特許庁

When change of the phase angle is 60° or more at phase switch timing (time t1), MOSFETs at all phases are temporarily turned off and the advance angle control for the output timing of the energization pattern is performed at the phase angle φ2 after the phase switch.例文帳に追加

位相切り替わりタイミング（時刻ｔ１）において６０°以上の位相角度の変化が生じた場合、全相のＭＯＳＦＥＴを一時的にＯＦＦにさせ、切り替わり後の位相角度φ２で通電パターンの出力タイミングを進角制御する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied.例文帳に追加

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

When the information peculiar to the individual is inputted to an individual information input part 501, a modulation pattern of the phase of the reference light is prepared by a phase modulation pattern encoder 502 based on the information inputted from the individual information input part 501, the information of the generated modulation pattern is given to the phase space modulator at information recording and the phase space modulator is driven.例文帳に追加

個人情報入力部５０１に対して、個人の固有の情報を入力すると、位相変調パターンエンコーダ５０２は、個人情報入力部５０１より入力された情報に基づいて、参照光の位相の変調パターンを作成し、情報の記録時に、位相空間変調器に対して、作成した変調パターンの情報を与えて、位相空間変調器を駆動する。 - 特許庁

When data of the mask patterns of a phase shifting mask are drawn up, the pattern data are separated into an actual pattern data layer having data of actual patterns and a phase shifting pattern data layer having data of the phase shifting patterns and the mask patterns are examined to find whether they satisfy the rule of the interval between identical phase patterns in which the phases of light passing through adjacent patterns become identical with each other.例文帳に追加

位相シフトマスクのマスクパターンのデータを作成する際に、前記パターンデータを実パターンのデータを有する実パターンデータ層および前記位相シフトパターンのデータを有する位相シフトパターンデータ層に分離した後、マスクパターンが、互いに隣接するパターンを透過した光の位相が同一となる同位相パターンの間隔の規定を満足するか否かを検証する。 - 特許庁

A phase shifter is laid in a split pattern satisfying Ic/Io>T, a light shielding part is laid in a split pattern satisfying T/4>Ic/Io, and a light shielding part having an opening as a phase shifter is laid in a split pattern satisfying T≥Ic/Io≥T/4.例文帳に追加

Ｉｃ／Ｉｏ＞Ｔが成り立つ分割パターンには位相シフターを配置し、Ｔ／４＞Ｉｃ／Ｉｏが成り立つ分割パターンには遮光部を配置し、Ｔ≧Ｉｃ／Ｉｏ≧Ｔ／４が成り立つ分割パターンには、位相シフターとなる開口部を有する遮光部を配置する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which suppresses decrease in the intensity of the main peak or generation of a side peak and makes pattern transfer with high accuracy possible while relaxing the dimensional limitation as an auxiliary pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the above phase shift mask.例文帳に追加

補助パターンとしての寸法的な制限を緩和しつつ、メインピークの強度低下やサイドピークの発生を抑制して、より高い精度でのパターン転写を可能とする位相シフトマスクおよび該位相シフトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A phase transformation diagram pattern prediction part 16 similarly consisting of a learned neural network predicts a phase transformation diagram pattern based on the critical cooling time Cz', Cp', Cf', Ce' outputted from the prediction part 12.例文帳に追加

同様に学習済のニューラルネットワークからなる相変態図パターン予測部１６は、臨界冷却時間予測部１２から出力される臨界冷却時間Ｃｚ’、Ｃｐ’、Ｃｆ’、Ｃｅ’に基づいて相変態図パターンを予測する。 - 特許庁