「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

An emission unit 16 emits stripe pattern light, whose intensity changes periodically to a subject, while shifting the phase of the pattern by π/2.例文帳に追加

照射部１６が、強度が周期的に変化する縞パターン光を、パターンの位相をπ／２ずつ移動させつつ被写体に照射する。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

To provide a pattern generating method for a mask phase shifter which enables accurate exposure to a fine pattern while preventing the cost of a mask from increasing.例文帳に追加

マスクのコスト上昇を防止しながら、微細なパターンを正確に露光し得るマスク位相シフタのパターン生成方法を提供する。 - 特許庁

Since a magnetic pattern corresponds to the phase intervals of the ribs 142a to be detected, the magnetic pattern can be easily confirmed visually.例文帳に追加

磁気パターンが被検出リブ１４２ａの位相間隔と対応するため、磁気パターンを目視によって容易に確認することができる。 - 特許庁

PHASE GRATING PATTERN DESIGNING METHOD FOR PROVIDING MODIFIED LIGHTING OPTIMIZED INTO TARGET PATTERN AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

目標パターンに最適化された変形照明を提供する位相格子パターン設計方法及びこれを利用したフォトマスク製造方法 - 特許庁

This device comprises an adhesive pattern made of a substance containing carbon, while being disposed between a heating electrode and a phase change material pattern.例文帳に追加

この素子は、ヒーター電極と相変化物質パターンとの間に介されると共に炭素を含む物質から成る粘着パターンを備える。 - 特許庁

The dash-offset defines the phase of the pattern, specifying how many pixels into the dash-list the pattern should actually begin in any single graphics request.例文帳に追加

dash-offset はパターンの位相を定義する。 これは単独のグラフィックスリクエストで、dash-list 中のいくつのピクセルでパターンを実際に始めるかを指定する。 - XFree86

A phase space filtering phenomenon is used for the principle of discrimination of an optical signal pattern.例文帳に追加

光信号パターンの識別の原理に、スピンに依存する位相空間フィリング現象を用いる。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME例文帳に追加

感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR TRANSFERRING MASK PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法及びそれを用いたマスクパターン転写方法 - 特許庁

To make a traveling vehicle having a three-phase induction traveling motor travel according to a target speed pattern.例文帳に追加

３相誘導走行モータを備えた走行車を、目標速度パターンに従って走行させる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法、レジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

Multiple layers of the melted phase change ink are then deposited on the flexographic plate to form a raised pattern.例文帳に追加

次に、溶融相転位インクを複数層フレキソプレート上に成膜して隆起パターンを形成する。 - 特許庁

The bit extending part is extended to the inside of the contact hole over the phase transition pattern.例文帳に追加

前記ビット延長部は前記相転移パターン上の前記コンタクトホール内部に伸長される。 - 特許庁

To provide a halftone phase shifting mask capable of transferring a high-precision transfer pattern.例文帳に追加

高精度な転写パターンを転写することが可能なハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a diffraction grating mask applicable even to the transfer of a phase shifted diffraction grating pattern.例文帳に追加

位相がシフトした回折格子パターンの転写にも適用可能な回折格子マスクを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MASK PATTERN CORRECTION例文帳に追加

半導体装置の製造方法、位相シフトマスク、マスクパターン補正方法およびマスクパターン補正プログラム - 特許庁

To provide a method and an apparatus for generating a mask pattern for alternating phase-shift mask lithography.例文帳に追加

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンを生成する方法および装置を提供すること。 - 特許庁

In addition, by applying phase modulation to the reference light to give a predetermined phase pattern, the correlation between the light intensity and the phase distribution can be suppressed on the recording medium.例文帳に追加

そのうえで、参照光については、所定の位相パターンが与えられるようにして位相変調を施すことで、記録媒体内での強度、位相分布の相関の発生を抑制する。 - 特許庁

A phase difference generator 4 outputs phase difference information indicating the phase error of an A/D converter output based on the pattern row identification information and the output of the A/D converter 1.例文帳に追加

位相差生成器４は、パタン列識別情報とＡ／Ｄ変換器１の出力に基づいてＡ／Ｄ変換器出力の位相誤差を示す位相差情報を出力する。 - 特許庁

Therefore, while maintaining strong phase shift effects as features of a conventional crome-less phase shift mask, pattern falling can be suppressed.例文帳に追加

したがって、従来のクロムレス位相シフトマスクの特徴である強い位相シフト効果を維持しつつ、パターン倒れを抑制することが可能となる。 - 特許庁

Also, it is preferable that the lower wiring 22 is formed by the liquid phase film formation method and the electrode pattern 24 is formed by a gas phase film formation method.例文帳に追加

また、下部配線２２は液相成膜法により成膜され、電極パターン２４は気相成膜法により成膜されるのが好ましい。 - 特許庁

PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK, PHOTOMASK SET, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、フォトマスク、位相シフトマスク、フォトマスクセット及びパターン転写方法 - 特許庁

A processing unit analyzes the motion signal to detect a first predefined motion pattern including an acceleration phase and a deceleration phase.例文帳に追加

処理ユニットが、加速フェーズ及び減速フェーズを含む第１の事前に規定された動きパターンを検出するために、動き信号を分析する。 - 特許庁

Thus, an offset which eliminates the phase error between the fixed pattern and clock is added to the phase error information obtained from the reproduced signal of the mark.例文帳に追加

このようにマークの再生信号から得た位相誤差情報に対して固定パターンとクロックの位相誤差が０となるようなオフセットを加える。 - 特許庁

The phase shifter generates a reversed phase to exposure light with respect to a light transmitting part where no mask pattern is formed on a transmitting substrate.例文帳に追加

位相シフターは、透過性基板におけるマスクパターンが形成されていない透光部との間で露光光に対して反対位相を生じる。 - 特許庁

The phase-change structure fills partially the HARS, fills a first phase-change substance layer pattern, including a first phase-change substance and the remainder of the HARS, and includes a second phase-change substance having a composition being different from the first phase-change substance.例文帳に追加

相変化構造物はＨＡＲＳを部分的に満たし、第１相変化物質を含む第１相変化物質層パターン、及び前記ＨＡＲＳの残りを満たし、前記第１相変化物質と相異なる組成を有する第２相変化物質を含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive pattern-covered body for eliminating definite visibility between a conductive pattern part and a non-conductive pattern part by reducing a difference in color phase, light transmittance and haze value between the conductive pattern part and the non-conductive pattern part; and to provide the conductive pattern-covered body.例文帳に追加

導電性パターン部と非導電性パターン部との色相、光線透過率、ヘイズ値の差異を少なくし、導電性パターン部と非導電性パターン部とが明確に視認されることのない導電性パターン被覆体の製造方法および導電性パターン被覆体を提供するものである。 - 特許庁

The mask pattern includes a pattern group having a main pattern 303 that is a light-shielding region in an isolated line form, an assist pattern 301 composed of a plurality of minute phase shifters disposed on one side of the main pattern 303, and an opening region 302 disposed on the other side of the main pattern 301.例文帳に追加

マスクパターンは、孤立線状の遮光領域であるメインパターン３０３と、メインパターン３０３の一側方に配置された複数の微小位相シフターから構成されるアシストパターン３０１と、メインパターン３０１の他側方に配置された開口領域３０２とを有するパターン群を含む。 - 特許庁

A dummy pattern is formed in a thin pattern region on a mask by utilizing phase contrast to impart the same shape as the shape of light diffracted by a dense pattern to light diffracted by the thin pattern, thereby reducing the thin-dense deflection of an element pattern formed on a wafer.例文帳に追加

マスク上の疎らなパターン領域に位相差を利用してダミーパターンを形成して、疎らなパターンの回折光を密なパターンの回折光と同じ形にすることによって、ウェーハ上に形成される素子パターンの疎密偏差を低減する。 - 特許庁

In the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part, the phase of the exposure light is reversed by 180°, and the intensity of the exposure light can be reduced in a corner part which is the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part.例文帳に追加

これにより、凸パターン部と凹パターン部の境界において、露光光は１８０°位相が反転し、凸パターン部と凹パターン部の境界であるコーナー部において露光光の強度を低下することが出来る。 - 特許庁

Furthermore, a controller 16 shifts a phase of the image plane pattern relatively to a phase of the projection pattern, brings the CCD sensor 31 to photograph images at each operation of shifting the phase, and computes a shape of the object 13, based on brightness information of those images.例文帳に追加

また、コントローラ１６は、像面パタンの位相を、投影パタンの位相に対して相対的にシフトさせ、位相がシフトされるごとにCCDセンサ３１により画像を撮像させ、それらの画像の輝度情報に基づいて被検物１３の形状を算出する。 - 特許庁

The phase control circuit 4 switches the pattern when a phase signal from the phase detecting circuit 5 is changed, and when a specified output time has passed after the first phase signal is changed during a period when the directions of changes in phase signal become identical in a period from when one of phase signals is changed to when the other of phase signals is changed.例文帳に追加

位相制御回路４は位相検出回路５からの位相信号が変化したとき、及び一方の位相信号が変化した後他方の位相信号が変化するまでの期間のうち位相信号の変化方向が同じとなる期間において、最初の位相信号が変化したときから所定の出力時間経過後に上記パターンを切り換える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part.例文帳に追加

有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The switching pattern determination means 16 determines the switching pattern of a switch S11 by conducting the pulse-width modulation by using the phase-voltage command value converted by the phase-voltage command value conversion means 14.例文帳に追加

スイッチングパターン決定手段１６は、相電圧指令値変換手段１４で変換された各相電圧指令値を用いてパルス幅変調を実施することにより、スイッチＳ11，…のスイッチングパターンを決定する。 - 特許庁

An optical system, having illumination optical systems 103-108 for radiating an illumination light on a phase pattern WM and image forming optical systems 107-115 for forming image of the phase pattern is inspected.例文帳に追加

位相パターン（ＷＭ）に照明光を照射するための照明光学系（１０３〜１０８）と位相パターンの像を結像させるための結像光学系（１０７〜１１５）とを有する光学系を検査する。 - 特許庁

The wavefront modulator 30 presents a compensation phase pattern for compensating aberration of input light and also a branching phase pattern for branching the input light to a first and a second light.例文帳に追加

波面変調部３０は、入力光の収差を補償する補償用位相パターンを呈示するとともに、入力光を第１および第２の光に分岐する分岐用位相パターンを呈示する。 - 特許庁

A phase difference monitoring pattern capable of measuring a phase difference on the way of fabricating a phase shifting mask is created and the engraving quantity of a translucent substrate on a phase shifting part is controlled so as to be measured by a level difference measuring instrument even in a deposited state of resist.例文帳に追加

位相シフトマスク作製途中に位相差を測定可能な位相差モニタパターンを作成し、その位相シフト部における透光基板の掘り込み量をレジスト付きの状態でも段差測定器で測定できるようにする。 - 特許庁

Within the random phase unit, the number of pixels corresponding to each of n phase modulation degrees are set in common, and the array pattern of the pixels corresponding to a phase modulation degree is set to be random between random phase units.例文帳に追加

そして、このランダム位相単位内での、ｎ個の位相変調度ごとに対応させる画素数は共通に定めたうえで、位相変調度が対応する画素の配列パターンについてはランダム位相単位間でランダムとなるようにする。 - 特許庁

The phase-change substance pattern is directly, in contact with a conductive film pattern in a plate line contact hole penetrating the upper interlayer insulating film.例文帳に追加

前記相変化物質パターンは前記上部層間絶縁膜を貫通するプレートラインコンタクトホール内の導電膜パターンと直接接触する。 - 特許庁

To provide a long pattern alignment film capable of easily manufacturing a large number of pattern phase difference films.例文帳に追加

本発明は、パターン位相差フィルムを容易かつ大量に製造することが可能な長尺パターン配向膜を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask by which a pattern with a profile nearer to the profile of a target pattern can be formed on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板に目標とするパターンの形状により近い形状のパターンを形成し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

After a pattern layout is made as well as the transmittance T of a phase shifter is determined, the pattern layout is divided to generate a plurality of split patterns.例文帳に追加

パターンレイアウトを作成すると共に位相シフターの透過率Ｔを決定した後、パターンレイアウトを分割して複数の分割パターンを生成する。 - 特許庁

This manufacturing technique forms an auxiliary pattern 301 having a more detailed aperture diameter than an aperture pattern 204 on an absorption layer 203 adjacent to the aperture pattern 204 where a phase failure 211 occurs.例文帳に追加

位相欠陥２１１が生じている開口パターン２０４の近傍の吸収層２０３に、開口パターン２０４よりも微細な開口径を有する補助パターン３０１を形成する。 - 特許庁

On the contrary, When it is discriminated that the transition pattern is the specific pattern (step S24, YES), phase error information is calculated conforming to the calculation means corresponding to the specific pattern.例文帳に追加

これに対して、その推移パターンが特定パターンであると判定された場合（ステップＳ２４ＹＥＳ）、特定パターンに対応する演算手法に従って位相誤差情報が算出される。 - 特許庁