「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The phase of the servo area pattern of recording area of the front surface side of the substrate, and the phase of the servo area pattern of the recording area of the back surface side of the substrate are shifted with each other.例文帳に追加

基板表面側の記録領域のサーボ領域パターンと基板裏面側の記録領域のサーボ領域パターンとは、互いに位相がずれている。 - 特許庁

Positions of a phase shifter 106 to a phase shifter 109 are determined based on the layout data with the underlay pattern 102 and the dummy underlay pattern 105 placed.例文帳に追加

下層パターン１０２及びダミー下層パターン１０５が配置されたレイアウトデータを基に位相シフタ１０６から位相シフタ１０９の配置を決定する。 - 特許庁

SIMPLE METHOD FOR DETERMINING ZIRCONIA CRYSTAL PHASE RATIO BY X-RAY DIFFRACTION PATTERN例文帳に追加

Ｘ線回折パターンによるジルコニア結晶相割合の簡易定量法 - 特許庁

MASK, PATTERN GENERATING METHOD FOR PHASE SHIFTER, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク、位相シフタのパターン生成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a phase shift mask which improves the NILS value of a pattern of ≤50 nm in mask pattern size when the pattern is exposed and a pattern exposing method using the same.例文帳に追加

マスクパターンサイズが５０ｎｍ以下パターンを露光する場合に、そのＮＩＬＳ値を改善する位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法を提供する。 - 特許庁

A wiring pattern P3 for a reverse phase signal is formed parallel to a wiring pattern P2 for an input signal S1, and a signal in a reversed phase to the input signal S1 is supplied to the wiring pattern P3 for a reverse phase signal.例文帳に追加

本発明は、入力信号Ｓ１の配線パターンＰ２と平行に逆相信号用の配線パターンＰ３を形成し、この逆相信号用の配線パターンＰ３に入力信号Ｓ１の逆相の信号を供給する。 - 特許庁

The phase shift quantity for difference pattern is composed of a phase shift quantity corresponding to a change in the bore site direction and a phase shift quantity fixed to each of element antennas but since the phase shift quantity corresponding to the change in the bore site direction is common in the case of obtaining the sum pattern and the difference pattern, the ordinary phase shifter capable of adjusting the phase shift quantity is shared.例文帳に追加

差パターン用の移相量は、ボアサイト方向の変化に対応する移相量と各素子アンテナに固定の移相量とから成るが、ボアサイト方向の変化に対応する移相量については、和パターン及び差パターンを得る場合に共通であることから、通常の、移相量を調整可能な移相器を共用するものである。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN ALIGNMENT FILM, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM USING THE SAME, AND MANUFACTURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置 - 特許庁

The user transferring destination generates the gap pattern from the gap pattern phase information informed from the user resource transferring source.例文帳に追加

ユーザリソース移動先はユーザリソース移動元から通知されたギャップパターン位相情報からギャップパターンを生成する。 - 特許庁

The width of the phase shifter is adjusted based on the distance from the pattern and other patterns near the pattern.例文帳に追加

前記パターンと近接する他のパターンから前記パターンまでの距離に基づいて、位相シフターの幅を調整する。 - 特許庁

The mask pattern of a phase shift mask has a light shielding pattern and first and second transmitting patterns which transmit exposure light.例文帳に追加

位相シフトマスクのマスクパターンを、遮光パターンと、露光光を透過する第１、第２の透過パターンとから構成する。 - 特許庁

A first mask pattern 13 consisting of a first phase shift region 11 which is offset in phase by 180°C with respect to the phase of the exposure light transmitted through the transmissible region exclusive of the pattern part and a second mask pattern 14 consisting of a second phase shift region 12 are formed as a phase shift mask 100 on a mask substrate 100.例文帳に追加

位相シフトマスタ１００として、パターン部以外の透過領域を透過する露光光の位相に対して、位相が１８０°ずれる第１の位相シフト領域１１からなる第１のマスクパターン１３および第２の位相シフト領域１２からなる第２のマスクパターン１４をマスク基板１１０上に形成する。 - 特許庁

The phase of exposure light passing through the auxiliary pattern portion 104 may be an inverted phase to the phase of exposure light passing through the light transmitting portion 102 or the phase shift portion 103 close to the auxiliary pattern portion 104.例文帳に追加

また、前記補助パターン部１０４を通過する露光光の位相は、前記補助パターン部１０４に直近の前記光透過部１０２または前記位相シフト部１０３を通過する露光光の位相に対して逆位相でよい。 - 特許庁

This pattern can be used to create an optical phase standard for calibrating phase metrology equipment for attenuated phase masks or as a witness pattern on a product mask, to verify the phase accuracy of that mask.例文帳に追加

このパターンは、減衰位相マスク用の位相測定装置を較正するために、またはそのマスクの位相精度を確かめるための製品マスク上の証明パターンとして、光学位相標準を作るために使用することができる。 - 特許庁

A phase shift data generating section 5 includes an LUT storing a phase shift data pattern and reads a phase shift data corresponding to the above difference from the LUT to output it.例文帳に追加

位相シフトデータ生成部５は、位相シフトデータ・パターンを記憶したＬＵＴを内蔵し、上記差に応じた位相シフトデータをＬＵＴより読み出し出力する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING PHASE-CHANGE MATERIAL LAYER PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING PHASE-CHANGE MEMORY DEVICE, AND PHASE-CHANGE MATERIAL POLISHING SLURRY COMPOSITION FOR USE IN THE METHODS例文帳に追加

相変化物質層パターンの形成方法、相変化メモリー装置の製造方法、及びこれに使用される相変化物質層研磨用スラリー造成物 - 特許庁

A lithographic equipment includes a phase adjuster that adjusts the phase of a light wave crossing an optical device of the phase adjuster while exposing a pattern onto a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、基板にパターンを露光する間に、位相調整器の光学素子を横断する光波の位相を調整する位相調整器を含む。 - 特許庁

Phase / amplitude compensators 153-1 to 153-4 compensate the phase and amplitude of the candidate signal to a symbol pattern in which the phase and amplitude have nearest values.例文帳に追加

位相・振幅補償器１５３−１〜１５３−４は、候補信号をそれぞれ位相と振幅が最も近いシンボルパターンに位相と振幅を補償する。 - 特許庁

A two-phase image is detected by projecting a two-phase grid pattern, in which a phase having an intensity distribution of a sine wave or a triangular wave is shifted by π/2, to an object.例文帳に追加

正弦波、あるいは三角波の強度分布を有する位相がπ／２シフトした２相の格子パタンを物体に投影し、２相画像を検出する。 - 特許庁

To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a phased grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution to a space light modulator of a phase modulation type.例文帳に追加

ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁

In the 1st step, a printing system provided with a print head is used and the phase change material is deposited in a 1st printing pattern and consequently the 1st printing pattern remains after change of the phase change material from a liquid phase to a solid phase and the 1st printing pattern defines the gap.例文帳に追加

第１のステップは、プリントヘッドを備えるプリンティング・システムを使用して、相変化材料が第１のプリント・パターンで堆積し、その結果、第１のプリント・パターンが、相変化材料の液相から固相への変化に続いて残存し、第１のプリント・パターンがギャップを画定する。 - 特許庁

To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a blazed grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution on a phase modulation type space light modulator.例文帳に追加

ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁

Next, a homogeneous material layer is formed on the microstructure phase film pattern.例文帳に追加

次に、均質の材料層がマイクロ構造位相フィルムパターン上に形成される。 - 特許庁

To perform proper pattern examination of even an eaves shape phase shift mask.例文帳に追加

ひさし型位相シフトマスクについても適切なパターン検査を行えるようにする。 - 特許庁

Between the first and second electrodes, a phase change substance pattern is provided.例文帳に追加

前記第１及び第２電極間に相変化物質パターンが提供される。 - 特許庁

When the PWM signal of each phase is input into a pattern which is not adjacent to the present pattern, when the difference in duty between two phases where the magnitude relation of the duty is reversed is smaller than the predetermined value, the phase of the PWM signal of each phase is moved, based on the pattern not adjacent to the present pattern.例文帳に追加

また、デューティの大小関係が逆転する２相のデューティ差が所定値より小さい場合に、現在のパターンに隣接しないパターンに各相ＰＷＭ信号が入ったときは、隣接しないパターンに基づいて各相ＰＷＭ信号の位相を移動させる。 - 特許庁

The mask pattern is divided into a plurality of exposure masks (S3 to S6) until the phase shifter is arranged without phase contradictions.例文帳に追加

また、位相シフタが位相矛盾なく配置されるまでマスクパターンを複数枚の露光マスク（Ｓ３〜Ｓ６）に分割する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DECOMPOSING SEMICONDUCTOR DEVICE PATTERN INTO PHASE AND CHROME REGIONS FOR CHROMELESS PHASE LITHOGRAPHY例文帳に追加

クロムレス相リソグラフィのために半導体デバイス・パターンを相領域とクロム領域に分解するための方法および装置 - 特許庁

HALF-TONE PHASE-SHIFTING PHOTOMASK, BLANKS FOR HALF-TONE PHASE-SHIFTING PHOTOMASK THEREFOR AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The phase-change memory element is provided with a phase-change memory part which is provided with a phase-change layer pattern; a laser beam focusing part which locally focuses a laser beam to the phase-change layer pattern of the phase-change memory part; and semiconductor laser part which generates the laser beam and emits the laser beam to the laser beam focusing part.例文帳に追加

相変化層パターンを備える相変化メモリ部と、相変化メモリ部の相変化層パターンにレーザビームを局部的に集束するレーザビーム集束部と、レーザビームを発生させてレーザビーム集束部にレーザビームを放出する半導体レーザ部と、を備える相変化メモリ素子である。 - 特許庁

The number of steps of the phase difference correction pattern can be suppressed by providing the phase difference correction pattern and a phase shift layer, so the imprint mold where the uneven pattern with the plurality of steps is formed can be manufactured more suitably.例文帳に追加

本発明では、位相差補正パターンと、位相変位層と、を備えることにより、位相差補正パターンの段数を抑制することが出来るため、より好適に複数の段差を備えた凹凸パターンが形成されたインプリントモールドを製造することが出来る。 - 特許庁

The heating electrode, the adhesive pattern and the phase change material pattern adhere to each other with an extremely excellent adhesive force by using the adhesive pattern.例文帳に追加

炭素を含む物質から成る粘着パターンによってヒーター電極、粘着パターンおよび相変化物質パターンは、極めて優れた接着力で結合される。 - 特許庁

The halftone type phase shift mask has a translucent film pattern on a transparent substrate and a shading film pattern formed on the translucent film pattern.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクは、透明基板上に半透光膜パターンとこの半透光膜パターンの上に形成された遮光膜パターンとを有して成る。 - 特許庁

A self-servo reference signal including a timing pattern and an oblique phase pattern is previously and magnetically transferred and recorded in the magnetic disk 1.例文帳に追加

磁気ディスク１に、タイミングパターン及び斜め位相パターンよりなるセルフサーボ参照信号を予め磁気転写記録する。 - 特許庁

A sequence code can be established by determining the phase difference of the random pattern 11.例文帳に追加

ランダムパターン１１の位相差を決定して、シーケンス・コードを確立することができる。 - 特許庁

In the phase adjusting process, phase shift detection patterns are successively drawn on an intermediate transfer belt 3, and the absolute position information of the pattern detected by a pattern detection sensor is recorded in a memory.例文帳に追加

位相調整行程では、位相ずれ検出パターンを中間転写ベルト３上に順次描き、パターン検知センサによりパターンの絶対位置情報をメモリに記録する。 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスク、その製造方法およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFTING MASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

透過型位相シフトマスク及び該透過型位相シフトマスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The hologram recording medium is irradiated with a signal light with a phase modulation pattern according to recording data and a reference light with a predetermined phase modulation pattern.例文帳に追加

記録データに応じた位相変調パターンを与えた信号光と、所定の位相変調パターンを与えた参照光とをホログラム記録媒体に対して照射する。 - 特許庁

A phase transition pattern is interposed between the first and second electrodes.例文帳に追加

前記第１電極及び前記第２電極の間に相転移パターンが介在される。 - 特許庁

To provide a bit-wise phase shifting method, in a digital signal pattern and apparatus.例文帳に追加

ディジタル信号パターンにおけるビット毎移相方法および装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture an auxiliary pattern phase shift mask without degrading the quality.例文帳に追加

品質を損なわずに、補助パターン型位相シフトマスクを製造することが可能とする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。 - 特許庁

The imager (30) is composed to obtain the image data of projection phase shift pattern.例文帳に追加

イメージャ（３０）は、投影位相シフトパターンの像データを取得するように構成される。 - 特許庁

A technique is disclosed, in which a first boundary region is added to the ends of a phase zero (0) pattern defining polygons and a second boundary region is added to the ends of a phase 180 pattern.例文帳に追加

複数のポリゴンを形成する位相ゼロ（０）パターンの端部に第１境界領域が付加され、位相１８０パターンの端部に第２境界領域が付加される技術。 - 特許庁