「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The photomask has a transparent substrate (42) and a phase grating comprising a plurality of grooves with a certain pitch (P) formed in the substrate in such a way that the depth or width of each of the grooves of the phase grating carries an exposed pattern.例文帳に追加

透明基板(42)と、この基板に形成された一定ピッチ(P)の複数の溝からなる位相格子と、を備え、この位相格子の各溝の深さ又は幅が露光パターンを担うようにする。 - 特許庁

The output pattern data D3 and D4 is outputted from an output buffer 25 as an A-phase pulse signal and a B-phase pulse signal for interpolating one pitch to become movement information, when the scale has moved.例文帳に追加

この出力パターンデータＤ３，Ｄ４はスケールが移動したときの移動情報となる１ピッチを内挿するＡ相パルス信号とＢ相パルス信号として出力バッフア２５より出力される。 - 特許庁

To provide a technique for analysis of gas-liquid two-phase flow analysis, which reduces usage of constitutive equation, without using a flow pattern map in analysis of flow behavior of gas-liquid two-phase flow, thereby suppressing calculation cost.例文帳に追加

気液二相流の流動挙動を解析の際に、流動様式マップを用いず、構成方程式の使用量を低減し、且つ、計算コストが抑制される気液二相流解析技術を提供する。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加

位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Then, when the phases of the received fixed pattern signals and the binary identification threshold signals match, the phase of the binary identification threshold signals is set and the running key is synchronized according to the set phase.例文帳に追加

そして、受信する固定パターン信号と二値識別閾値信号の位相が揃った時に、二値識別閾値信号の位相を設定し、設定された位相に従ってＲｕｎｎｉｎｇ鍵の同期を行う。 - 特許庁

A threshold value decision section 190 applies threshold value decision at a prescribed phase and a prescribed amplitude to the phase pattern correlation signal point to decide whether or not the succeeding sub frame includes the BCH.例文帳に追加

閾値判定部１９０は、位相パターン相関信号点に対して所定の位相および所定の振幅による閾値判定を行うことにより、次のサブフレームにＢＣＨが含まれるか否かを判定する。 - 特許庁

The switching pattern determining means 16 determines switching patterns of a switch S11, etc. by performing pulse with modulation using the phase voltage command values converted by the phase voltage command value conversion means 14.例文帳に追加

スイッチングパターン決定手段１６は、相電圧指令値変換手段１４で変換された各相電圧指令値を用いてパルス幅変調を実施することにより、スイッチＳ11，…のスイッチングパターンを決定する。 - 特許庁

A motor drive control apparatus performs a drive control of a three-phase motor in a 180° energization mode to perform an advance angle control for output timing of energization pattern based on calculated phase angles φ1 and φ2.例文帳に追加

モータ駆動制御装置は、三相モータの駆動制御を１８０°通電モードにより行い、算出した位相角度φ１，φ２によって通電パターンの出力タイミングを進角制御する。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus wherein a phase shift method can be applied to a stereolattice-type moire method simply and without any trouble, without a need of the movement operation of a lattice pattern in order to change the phase of moire fringes.例文帳に追加

モアレ縞の位相を変化させるために格子パターンの移動動作を必要とせず、実体格子型のモアレ法に対して位相シフト法を簡単かつ支障なく適用できるようにする。 - 特許庁

In the specified advance notice pattern, when the step up advance performance is executed in each re-varying action during the pseudosuccessive varying phase, the continuation of the pseudosuccessive varying phase (continued execution of re-varying actions) is defined.例文帳に追加

特定予告パターンで擬似連の変動中の各再変動においてステップアップ予告演出が実行された場合は、擬似連が継続すること（再変動が継続して実行されること）が確定する。 - 特許庁

Then, based on the measured positional shifting amount, to eliminate relative positional shifting amounts between the reading heads for each head and for each cylinder position of the medium surface, writing is performed by adjusting the phase of the phase servo pattern.例文帳に追加

次に測定した位置ずれ量に基づいて、ヘッド毎及び媒体面のシリンダ位置毎に、各リードヘッド間の相対的な位置ずれ量をなくすように、位相サーボパターンの位相を調整して書き込む。 - 特許庁

The surface treatment method comprises bringing a resist pattern formed from a resin containing a specific lactone structure and a compound having two or more nucleophilic functional groups per molecule into a solid phase-gas phase reaction.例文帳に追加

特定のラクトン構造を含有する樹脂によって形成されたレジストパターンと、一分子中に二個以上の求核性官能基を有する化合物とを固相−気相反応させる表面処理方法。 - 特許庁

The laser beam flux is partitioned by the phase shift part 20 to shift the phase in a superposing manner on the slit 40, and uniform machining without any interference pattern is performed by suppressing the interference of the unified laser beam flux.例文帳に追加

位相シフト部２０で光束を分割して位相をシフトさせ、スリット４０上で重ね合わせて均一化した光束の干渉を抑えて干渉パターンのない均一な加工を行うことができる。 - 特許庁

The max. and min. values detected are used to approximate the phase distribution I(i, j) as a sawtooth pattern in a step 116.例文帳に追加

そして、検索された極大値及び極小値を用い、ステップ１１６において、位相分布Ｉ（ｉ、ｊ）を鋸歯状パターンで近似する。 - 特許庁

To provide a mask blank suited for manufacturing substrate digging type phase shift masks, including a light-shielding film pattern of a tantalum-based material.例文帳に追加

タンタル系材料の遮光膜パターンを有する基板掘り込みタイプの位相シフトマスクを作製するのに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁

CONCAVO-CONVEX PATTERN FORMING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, REFLECTION PREVENTING BODY, PHASE DIFFERENCE PLATE, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、反射防止体、位相差板、工程シート原版ならびに光学素子の製造方法 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a fine line pattern at a relatively low cost and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

比較的低コストで微細なラインパターンを形成することが可能な位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

After developing processing is successively performed, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a dummy pattern 22 on the substrate 31.例文帳に追加

次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にダミーパターン２２を形成する。 - 特許庁

After developing processing is successively performed thereto, the light shielding film 33 and the phase shift layer 32 are etched to form a device pattern 21 on the substrate 31.例文帳に追加

次いで、現像処理した後、遮光膜３３及び位相シフト層３２をエッチングして、基板３１上にデバイスパターン２１を形成する。 - 特許庁

To finely control a directivity pattern by performing arbitrary continuous phase control over respective antenna elements of a phased array antenna.例文帳に追加

フェーズドアレーアンテナのアンテナ素子それぞれに対して、任意の連続的な位相制御を行い、きめ細かい指向パターンの制御を行う。 - 特許庁

The external interface 8 outputs the pattern data outputted from the direct memory access controller 7 to the outside as a four-phase clock signal.例文帳に追加

外部インターフェース８は、ダイレクトメモリアクセスコントローラ７から出力されるパターンデータを４相クロック信号として外部に出力する。 - 特許庁

An upper electrode is formed on the phase conversion pattern and has a chip faced to the lower electrode above the lower electrode.例文帳に追加

相変換パターン上に上部電極が形成され、上部電極は下部電極の上部に下部電極に向かうチップを有する。 - 特許庁

The CPU 11 repeatedly moves the optical block 19 for one line and reads one line (an excitation pattern is bi-phase excitation).例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、１ライン分の光学ブロック１９の移動と１ラインの読み取りとをそれぞれ繰り返し行う（励磁パターンは２相励磁）。 - 特許庁

A scale 12 is equipped with not only an incremental pattern 31 formed at array pitches Pi having equal intervals of light and shade, and an absolute pattern 32 expressing an absolute position by a pseudo random pattern, but also a position reference pattern 33 having a prescribed phase relation to the absolute pattern 32 and formed at array pitches Pr (>Pi) having equal intervals of light and shade.例文帳に追加

スケール１２は、明暗の等間隔の配列ピッチＰｉで形成されたインクリメンタルパターン３１と、擬似ランダムパターンにより絶対位置を表現したアブソリュートパターン３２とに加え、アブソリュートパターン３２に対し所定の位相関係を有し且つ明暗の等間隔の配列ピッチＰｒ（＞Ｐｉ）で形成された位置基準パターン３３とを備える。 - 特許庁

In the case of starting printing, a pattern recognition part compares the character of the repeated waveform pattern stored in the storage means with the value of the deviation in a main scanning direction detected by a sensor and detects the phase information of each repeated waveform pattern.例文帳に追加

印刷開始の際、パターン認識部が記憶手段に記憶されている繰り返し波形パターンの特徴と、センサによって検出された主走査方向のずれ量の値とを比較して各繰り返し波形パターンの位相情報を検出する。 - 特許庁

The piezoelectric/electrostrictive film is formed on a solid-phase carrier 2, the piezoelectric/electrostrictive film including an incompletely bonding region having a predetermined pattern on the solid-phase carrier 2, and a bonding region which bonds on the surface of the solid-phase carrier so as to separate the incompletely bonding region.例文帳に追加

固相担体２上に不完全に結合する所定パターンの不完全結合領域と、該不完全結合領域を分離可能に前記固相担体表面に結合する結合領域と、を備えている、圧電／電歪膜を固相担体２上に形成する。 - 特許庁

A transmission line amplitude and phase estimation part 105 finds as a transmission estimated value 301 an amplitude and phase estimation error due to variation of a transmission line through a transmission line amplitude and phase estimation part 105 by using a pilot symbol whose transmission pattern is already known among signals spread reversely by a reverse spreading filter 103.例文帳に追加

逆拡散フィルタ１０３で逆拡散した信号のうち送信パターン既知のパイロットシンボルを用いて、伝送路振幅・位相推定部１０５において、伝送路の変動に起因する振幅・位相誤差を求め伝送路推定値３０１とする。 - 特許庁

In a phase shift mask blank 11, film thickness for obtaining a desired phase difference with a phase shift film 13 of which the refraction index is greater than that of a transparent substrate 12 is made smaller than the amount of engraving the transparent substrate 12, thereby suppressing pattern falling.例文帳に追加

本発明に係る位相シフトマスクブランク１１では、透明基板１２よりも屈折率の大きな位相シフト膜１３により所望の位相差を得るための膜厚を透明基板１２の掘り込み量よりも小さくし、パターン倒れを抑制することが可能となる。 - 特許庁

A phase angle θ between the modulation and one signal to drive the probe tip in a circular pattern is used to determine the angle of a normal 190 from the side wall 153 to the center of the circular pattern.例文帳に追加

この変調とプローブ先端を円形パターンで駆動する信号の１つとの間の位相角θを使用して、側壁から円形パターンの中心までの法線１９０の角度を決定する。 - 特許庁

Thus, when the display position of the reference light pattern is shifted, another reference light is generated where a phase relationship with a reference light generated from the reference light pattern before the shifting of the display position is low.例文帳に追加

その結果、参照光パターンの表示位置をずらすと、表示位置をずらす前の参照光パターンから生成する参照光との位相相関が低い、別の参照光が生成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal sheet having an uneven pattern on the surface, by which it is unnecessary to manufacture a press die, it is easy to change an uneven pattern phase and tit is unnecessary to use a high ductile base stock.例文帳に追加

プレス金型製作が不要で、凹凸パターン相の変更も容易で、高延性素材を用いる必要もない、表面に凹凸パターンを有する金属板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a phase shift mask pattern formed by dry-etching a transparent substrate is inspected, a state wherein an etched surface is made porous is measured to detect an incomplete shifter pattern part.例文帳に追加

透明基板をドライエッチングによって形成した位相シフトマスクパターンのパターン検査において、エッチング表面が多孔質化された状態を計測することによって不完全なシフターパターン部を検出する。 - 特許庁

To project a stripe-like pattern on an object by relatively simple constitution and to easily alter the waveform, wavelength, phase or the like of the brightness distribution curve of the stripe-like pattern projected on the object.例文帳に追加

比較的簡単な構成で対象物に縞状パターンを投影することができ、対象物に投影される縞状パターンの明度分布曲線の波形、波長又は位相等の変更を容易にすること。 - 特許庁

A pattern is formed on a substrate 51 such as a glass that corresponds protruding parts of a protruding/recessed pattern of the phase lattice, by etching, for removing, a first light reflection film 55 with a photoresist 59 as a mask.例文帳に追加

フォトレジスト５９をマスクとして第１光反射膜５５をエッチング除去することにより、ガラスなどの基板５１上に位相格子の凹凸パターンの凸部と対応するパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method of judging the flow pattern of vapor-liquid two- phase flow in which the flow pattern of a vapor-liquid two-phase flow in piping, the inside of which cannot be observed visually, can be judged objectively with high correct rate (accuracy) from the outside without having any effect on the piping and its flow.例文帳に追加

内部が目視観察できない配管内の気液二相流のフローパターンを、配管およびその流れに影響を与えることなく、外部から高い正解率（精度）で、客観的に判別することができる気液二相流のフローパターン判別方法を提供する。 - 特許庁

In a mask 1 for transferring a hole pattern to a photoresist film spread on a semiconductor wafer by exposure using oblique lighting, a pseudo repetition area is formed by providing an anti-phase area 3A, an in-phase half-tone area 3B, and a light-shading area 4 around a real pattern 2H provided for transferring the hole pattern.例文帳に追加

半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジスト膜に斜方照明を用いた露光処理によってホールパターンを転写するマスク１において、そのホールパターンを転写するための実パターン２Ｈの周囲に、逆相ハーフトーン領域３Ａ、同相ハーフトーン領域３Ｂおよび遮光領域４を設けることで擬似的な繰り返し領域を形成するようにした。 - 特許庁

At this time, a pattern detecting section 23 detects whether the fluctuation pattern of the regenerative signal is a certain specific pattern (for example, a 3T pattern in the case of a DVD disk) and controls a selecting section 24 to restrain the phase error estimation value of low reliability from being utilized for the control of a PLL for clock extraction.例文帳に追加

このとき、パターン検出部２３は、再生信号の変動パターンがある特定パターン（例えばＤＶＤディスクであれば３Ｔパターン）であるか否かを検出し、信頼性の低い位相誤差推定値がクロック抽出用ＰＬＬの制御に利用されることがないように、選択部２４を制御する。 - 特許庁

The influence of phase is reduced by decreasing the mark distance by making the pattern distance at the second time smaller than that of the first time.例文帳に追加

１回目より２回目のパターン間隔を狭めることで、マーク間隔を小さくしてやることで位相の影響を少なくすることができる。 - 特許庁

To easily adjust an optical system for obtaining a desired interference pattern when a tilt type phase shift holography system is used.例文帳に追加

チルト式位相シフトホログラフィ法を用いた場合に、所望の干渉パターンを得るための光学系の調整を容易に行いえるようにすること。 - 特許庁

To manufacture a pattern phase difference film easily in a large amount, which can be applied to a three-dimensional image display employing a passive method.例文帳に追加

パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、容易かつ大量に作成することができるようにする。 - 特許庁

A frequency offset estimation part 105 calculates frequency shift between the known symbols from phase difference between the known symbols from which the transmission pattern is removed.例文帳に追加

周波数オフセット推定部１０５は、送信パターンが除去された既知シンボル間の位相差から既知シンボル間の周波数ずれを算出する。 - 特許庁

When the reference light pattern is shifted by (a) in an x axis direction and by (b) in a y axis direction, the phase of a reference light is shifted by |2π(μa+υb)|.例文帳に追加

参照光パターンがｘ軸方向にａ、ｙ軸方向にｂずれたとき、参照光の位相は｜２π（μａ＋νｂ）｜だけずれる。 - 特許庁

The diffraction grating is formed with a phase modulation pattern designed so that the diffraction lights in a plurality of wavelengths is separated at angles that each of the diffraction lights needs.例文帳に追加

複数の波長における回折光が、各々必要とされる角度に分離するよう設計された位相変調パターンにて形成した。 - 特許庁

When a plurality of rollers 10, 20 are employed in series, the random pattern 11 can be transferred to one side or both sides of the sheet while varying the phase.例文帳に追加

一連の複数のローラ１０、２０を用いれば、シートの片面または両面に位相を変えたランダムパターン１１を転写することができる。 - 特許庁