「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a signal distribution phase switching circuit for preventing reduction in the flexibility of a null beam pattern, while maintaining an effect of a tree structure as it is.例文帳に追加

本発明の目的は、ツリー構造の効果は維持したまま、ヌルビームパターンの自由度の減少を防ぐ信号分配位相切り換え回路を提供することである。 - 特許庁

To manufacture a high-quality pattern phase difference film easily in a large amount, which can be applied to a three-dimensional image display employing a passive method.例文帳に追加

パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、高品質なパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作成することができるようにする。 - 特許庁

The phase shift mask consists of a light transmissive substrate, a translucent film pattern formed on the surface of the light transmissive substrate and an organic film pattern formed on the surface of the light transmissive substrate or on the translucent pattern in such a way that the transmittance can be varied by irradiation with light.例文帳に追加

透光性基板と、前記透光性基板表面に形成された半透明膜パターンと、前記透光性基板表面または前記半透明パターン上に形成され、光照射によって透過率を変更可能なように形成された有機膜パターンとから構成されていることを特徴とする。 - 特許庁

In the production method of a semiconductor device including a process of transferring a specified pattern by overlapping two photomasks and exposing to light, one photomask 3 having a phase shifter 3d has a shading region 3B3 which functions as the auxiliary pattern to correct the pattern to prevent formation of a constriction.例文帳に追加

２枚のフォトマスクを用いた重ね合わせ露光処理によって、所定のパターンを転写する工程を有する半導体装置の製造方法において、位相シフタ３ｄを有する一方のフォトマスク３に、パターンのくびれが生じるのを補正するための補助パターンとして機能する遮光領域３Ｂ3 を設けたものである。 - 特許庁

The pole type antenna system includes a cylinder formed by cylindrically rolling up a flexible insulating film member (20); an antenna pattern, comprising four conductors (21 to 24), formed on an inner circumferential face (20-1) of the cylinder; and a phase shifter pattern (25), formed on the inner circumferential face (20-1) of the cylinder and electrically connected to the antenna pattern.例文帳に追加

ポール型アンテナ装置は、可撓性の絶縁フィルム部材（２０）を筒状に丸めて形成された筒体と、この筒体の内周面（２０−１）に形成された４本の導体（２１〜２４）から成るアンテナパターンと、筒体の内周面（２０−１）に、アンテナパターンと電気的に接続されて形成されたフェーズシフタパターン（２５）とを有する。 - 特許庁

When a specific pattern detecting means 113 detects a specific pattern contained in a modulated code from a bit string inputted via the transmission path 104, a modulation code recognizing means 117 generates a demodulated data strobe signal 119 with a phase of the modulated code containing the specific pattern as reference.例文帳に追加

特定パターン検出手段１１３により伝送路１０４を経て入力されたビット列から変調コードに含まれる特定パターンが検出されると、変調コード認識手段１１７はその特定パターンを含む変調コードの位相を基準にして復調データストローブ信号１１９を生成する。 - 特許庁

The diplexer 21 is formed of a conductive pattern on pattern dielectric sheets of a laminated structure, the SAW duplexer 22 includes two SAW filters mounted on a cavity of the laminated structure and a phase shifting device formed as a conductive pattern on a dielectric sheet of the laminated structure.例文帳に追加

前記ダイプレクサ２１は積層構造物を成す複数個の誘電体層上に導電性パターンで具現され、前記ＳＡＷデュプレクサ２２は前記積層構造物内のキャビティに実装される二つのＳＡＷフィルターと前記積層構造物を成す誘電体層に導電性パターンで具現される位相変換素子とを含む。 - 特許庁

The phase shift reticle 100 includes a semi-transmission circuit pattern region 1 and a peripheral region 2 surrounding the circuit pattern region 1, wherein the oblique boundary line of a chamfered portion 5 in the boundary line partitioning the circuit pattern region 1 and the peripheral region 2 is formed as a step-like boundary line 51.例文帳に追加

半透光化された回路パターン領域１と、該回路パターン領域１を取り囲む周辺部領域２とを有し、該回路パターン領域１と周辺部領域２とを区画する境界線のうら、面取り部５の斜め境界線が階段状境界線５１になっているように位相シフトレチクル１００を構成する。 - 特許庁

In a subsequent communication speed confirming/coding pattern determining phase S12, after the communication channel shifts to a communication state by the phase S11, the number of the communication channels reserved by the terminals on the originator side and the receiver side is confirmed, and a coding pattern is determined based on the confirmation of the number of the communication channels.例文帳に追加

次の通信速度確認・符号化パターン決定フェーズＳ１２において、通信路確保フェーズＳ１１によって通信チャンネルが通信状態に移行した後に、発信側通信端末と着信側通信端末とがそれぞれに確保した通信チャンネル数を確認し、かつ、この通信チャンネル数確認に基づいて符号化パターンを決定する。 - 特許庁

To provide a phase inversion mask which can improve the yield and reliability of a semiconductor element by equalizing the limit sizes of a light transmission pattern formed on a wafer in respective directions by using conventional exposure wavelength when the pattern of a light transmission area formed on the phase inversion mask is different in array pitch with the direction and its manufacturing method.例文帳に追加

位相反転マスクに形成される透光領域のパターンの各方向の配列ピッチが異なる場合に、従来の露光波長を使用して、ウエハに形成される透過光パターンの限界寸法を各方向に亘って同じにし、半導体素子の歩留まり及び信頼性を向上し得る位相反転マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスク６０の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板１に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン３’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁

The method comprises: forming spheroids in the cell contact region by culturing hepatocytes of animal origin on a pattern culture material which specifies the cell contact region to a pattern shape; and, after exposing a substrate to the spheroids, measuring the second phase metabolites.例文帳に追加

パターン状に細胞接着領域を規定するパターン培養基材上に動物由来の肝細胞を培養することで前記細胞接着領域にスフェロイドを形成し、該スフェロイドに基質を暴露した後、第II相代謝物を定量する。 - 特許庁

This motor drive control method is provided for switching an application current pattern at equal intervals by a specified number of times of two or more when switching the application current pattern, on the basis of the point of time (the point of time of zerocross) of positive and negative inversion of counter electromotive force of each phase (for example, three phases).例文帳に追加

各相（例えば３相）の逆起電力の正負の反転時点（ゼロクロス時点）を基準として印加電流パターンを切替えるときに、２回以上の所定の回数だけ等間隔に切替えるモータ駆動制御方法である。 - 特許庁

In this case, the depth Lr and the position of each of the recesses 4 and 4 are decided so that the near field pattern of the laser beam has the same distribution as the light intensity distribution and the phase distribution obtained by inverse Fourier transformation of the far field pattern of the predetermined single lobe.例文帳に追加

この凹面４，４の深さＬｒおよび位置は、レーザ光の近視野像が、予め定めた単一ローブの遠視野像を逆フーリエ変換して求めた光強度分布および位相分布と同じ分布をなすように決められている。 - 特許庁

Also, line impedance with the same pattern width matches by making the tester board substrate 101 a film substrate with the same material and thickness as the film substrate 70 and a phase difference is eliminated by mutually equalizing line lengths of the line pattern on the substrate 70.例文帳に追加

またテスタボード基板１０１をフィルム基板７０と同じ材質で同じ厚みのフィルム基板にすることで、同一のパターン幅で線路のインピーダンスを合わせ、さらにフィルム基板７０上線路パターンの線路長を互いに等しくして位相差を無くす。 - 特許庁

In a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of a magnetic disk device, a track width of 0.24 μm is formed by using an edge emphasis phase shift mask in which the phase of the transmissive light of one electrode pattern is reversed from that of the other transmissive light.例文帳に追加

磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転するエッジ強調型位相シフトマスクを用い、０．２４μｍ以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁

In the liquid crystal display device including a liquid crystal layer exhibiting a blue phase, the liquid crystal layer exhibiting a blue phase is interposed between a pixel electrode layer having an opening pattern (slit) and first and second common electrode layers which face each other and have opening patterns.例文帳に追加

ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、ブルー相を示す液晶層を対向する開口パターン（スリット）を有する第１の共通電極層及び第２の共通電極層と、開口パターンを有する画素電極層とで挟持する。 - 特許庁

In the liquid crystal display device including a liquid crystal layer showing a blue phase, first and second common electrode layers, which are positioned to face each other, sandwich the liquid crystal layer showing the blue phase therebetween and have opening patterns (slits), and a pixel electrode layer has an opening pattern.例文帳に追加

ブルー相を示す液晶層を含む液晶表示装置において、ブルー相を示す液晶層を対向する開口パターン（スリット）を有する第１の共通電極層及び第２の共通電極層と、開口パターンを有する画素電極層とで挟持する。 - 特許庁

To provide a volume type gas-liquid two-phase flowmeter which is hardly affected by a flow pattern on the occasion of measuring each of flow rates of liquid and gas composing a gas-liquid two-phase flow and which has a compact and durable structure and is designed for precisely measuring a wide flow rate range.例文帳に追加

液体及び気体からなる気液二相流の各流量を計測する際に、フローパターンの影響を受け難く、コンパクト且つ堅牢な構造で、広い流量範囲を精度良く計測するための容積式気液二相流量計を提供する。 - 特許庁

An image of the measuring object projected by this light pattern is shot with a camera and a phase ϕ1 corresponding to the sine signal with the basic cycle and a phase ϕ2 corresponding to the sine signal with the double cycle are calculated based on this image shot.例文帳に追加

このような光パターンが投射された計測対象物体を画像をカメラで撮影し、この撮影した画像に基づいて、基本の周期の正弦波信号に対応する位相φ_１と２倍の周期の正弦波信号に対応する位相φ_２とが計算される。 - 特許庁

Since an intensity ratio of the three colors is different in each subpattern, a subpattern number of the repetitive patterns can be specified, and an absolute phase can be found from a relative phase ψ, by finding an intensity ratio of the three colors with respect to the flat pattern from reflected images of these four-in-total patterns.例文帳に追加

この合計４パターンの反射画像から３色の平坦状パターンに対する強度比を取ると、サブパターンごとに３色の強度比が異なるので、繰り返しパターンのサブパターン番号を特定でき、相対位相ψから絶対位相が求められる。 - 特許庁

A reference wave phase control section 23 controls the phase of the output reference wave of a reference wave generation section 22 so that the above integrated value level becomes maximum or minimum, and a change in the integrated value level is made maximum at the before/after the specific pattern of wobble.例文帳に追加

参照波位相制御部２３は、上記の積算値レベルが最大又は最小となるように、参照波発生部２２の出力参照波の位相を制御することで、積算値レベルの変化をウォブルの特定のパターンの前後で最も大きくする。 - 特許庁

The CPU 7 divides a discharge electric charges amount and a charged potential phase into q and p pieces, respectively, to represent a phase ϕ-electric charges amount q by a plurality of elements, thereby acquiring a ϕ-q-n pattern allocating the number of occurrence to a value of each element, and calculating the age-based change amount.例文帳に追加

ＣＰＵ７は、放電電荷量と課電位相をそれぞれｑ，ｐ個に分割して位相φ−電荷量ｑを複数の要素で表し各要素の値に発生数を割り当てたφ−ｑ−ｎパターンを求め、その経時変化量を計算する。 - 特許庁

To provide a method for fixing a particulate substance such as a cell to a line-like pattern by patterning a membrane containing a functional substance having affinity for the particulate substance onto the surface of a solid phase carrier and making the particulate substance absorbed on the surface of solid phase carrier.例文帳に追加

まず粒子状物質に親和性を有する機能性物質を含む膜を固相担体表面にパターニングし、これに粒子状物質を吸着させることによって、細胞等の粒子状物質をライン状のパターンに固定化する方法を提供すること。 - 特許庁

The phase deviation of the reproducing clock PCLK generated in a PLL circuit 108 according to a mark signal (TPP) on a disk 1 is steeply corrected according to a phase deviation amount ERR based on a training pattern of a frame start position, and is finely corrected according to the phase deviation amount ERR based on a pre-code of a start position of each segment.例文帳に追加

ディスク１上のマーク信号（ＴＰＰ）に応じてＰＬＬ回路１０８にて生成された再生クロックＰＣＬＫの位相ずれは、フレーム開始位置のトレーニングパターンに基づく位相ずれ量ＥＲＲに応じて急峻に補正され、且つ、各セグメントの開始位置のプリコードに基づく位相ずれ量ＥＲＲに応じて微細に補正される。 - 特許庁

The method for exposure includes a process of first exposure by using a chromium mask 1 having a shading region 11 as a two-dimensional random pattern and a process of second exposure by using a chromium-free phase shift mask 2 having a part 15 of the phase shifter edge 16 of the phase shifter 20 in the position corresponding to the shading region 11.例文帳に追加

二次元ランダムパターン形状である遮光領域１１を有するクロムマスク１を用いて第１の露光を行う工程と、遮光領域１１に対応する位置に位相シフタ２０の位相シフタエッジ１６の一部１５を有するクロムレス位相シフトマスク２を用いて第２の露光を行う工程とを備えることによって上記課題を解決する。 - 特許庁

The grating constant of the scanning scale 25 is changed along the extending direction A of the scanning scale 25 so that the phase of the detection pattern is changed by 2π in the predetermined route.例文帳に追加

検出パータンの位相が、所定の経路において２πだけ変化するように、走査目盛２５の格子定数が、走査目盛２５の延在方向Ａに沿って変化することを特徴とする。 - 特許庁

First information is superimposed on the combination pattern of ten subcarriers among sixteen subcarriers f1-f16 and phase modulation or the like is applied by second information to the ten subcarriers themselves further.例文帳に追加

１６本のサブキャリアｆ１〜ｆ１６のうちの１０本のサブキャリアの組合せパターンに第１の情報を乗せ、更に１０本のサブキャリア自体に第２の情報により位相変調等をかける。 - 特許庁

If the value of the control voltage is about to go out of a range in which phase-lock is enabled, the control circuit 32 controls a back light control circuit 42 to flash the back light in a specified pattern.例文帳に追加

そして、制御電圧の値が位相ロック可能な範囲から外れそうになると、制御回路３２は、バックライト制御回路４２を制御して、所定パターンでバックライト４４を点滅させる。 - 特許庁

In a communication phase S13 thereafter, a coding/decoding a communication process is performed to match a communication speed based on the result of determining the coding pattern, and a voice communication is executed.例文帳に追加

この後の通信フェーズＳ１３において、符号化パターン決定の結果から通信速度を対応させるための符号化復号化通信処理を実行して音声通信を行う。 - 特許庁

However, the phase restoration operation is effected, whereby many pieces of information (at least the information of transparent wavefront in a specified direction) can be obtained comparatively, when considering that the pattern for measurement is simple.例文帳に追加

しかし、位相回復演算をするので、測定用パターンがシンプルである割には、多くの情報（少なくとも特定方向の透過波面の情報）を取得することができる。 - 特許庁

A profile tracking section 11 finds positions of respective points constituting the profile of the specific tissue in tomogram data acquired in respective cardiac phases, for every cardiac phase by a pattern matching.例文帳に追加

輪郭追跡部１１は、各心時相に取得された断層像データにおける特定組織の輪郭を構成する各点の位置を心時相ごとにパターンマッチングによって求める。 - 特許庁

With the designated outline as an initial outline, an outline position calculation part 12 obtains a position of the endomembrane outline in each time-phase by pattern matching between two tomographic image data.例文帳に追加

輪郭位置算出部１２は、指定された輪郭を初期輪郭とし、２つの断層像データ間におけるパターンマッチングにより、各時相における内膜の輪郭の位置を求める。 - 特許庁

To provide a high transmittance halftone phase shifting mask capable of clearly transferring a required pattern to a photosensitive resin and to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the mask.例文帳に追加

所望のパターンを明確に感光性樹脂に転写することが可能な、高透過率型ハーフトーン位相シフトマスクおよびそのマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a clock synchronizing circuit which performs desired phase and frequency locking operations without jitter peaking phenomenon and increase of pattern jitter of a control voltage by utilizing an injection locking system.例文帳に追加

クロック同期化回路は、インジェクションロッキング方式を使用してジッタピーキング現象と制御電圧にパターンジッタが大きくなる現象なく、所望の位相・周波数ロッキング動作を行う。 - 特許庁

To form a pattern in a desired dimension including a dimension smaller than resolution and in a desired shape by exposure using a single mask realizing a phase shift effect.例文帳に追加

位相シフト効果を実現する１枚のマスクを用いた露光によって、解像度程度以下の寸法を含む任意の寸法のパターンを任意の形状について形成できるようにする。 - 特許庁

Further, an exposure parameter is changed (S3) to obtain a distance between the centers of gravity of a chief opening in a resist pattern and a second opening in the case of exposure using the half tone type phase shift mask (S4).例文帳に追加

露光パラメータを変化させて（Ｓ３）、ハーフトーン型位相シフトマスクを用いて露光した場合のレジストパターンにおける主開口と第２開口との重心間距離を求める（Ｓ４）。 - 特許庁

The composite diffraction device is produced by adding a diffraction function caused by a rugged pattern to a diffraction device comprising a liquid crystal which keeps the helically aligned state of a smectic liquid crystal phase having a helical structure.例文帳に追加

螺旋構造を有するスメクチック液晶相の螺旋配向状態を保持した液晶層からなる回折素子に、凹凸形状に由来する回折機能をさらに付与する。 - 特許庁

A phase-type position detection servo pattern is recorded as servo data over the whole of a deep servo data region of a disk 300, independently of the data track pitch of a user data region.例文帳に追加

ディスク３００の深層サーボデータ領域には、サーボデータとして位相型位置検出用サーボパターンが全面的に、かつユーザデータ領域のデータトラックピッチに依存することなく記録される。 - 特許庁

When a change of the frequency is considered as a horizontal axis and a change of the phase difference is considered as a vertical axis and described as a waveform diagram, the waveform diagram with a different pattern is described by each liquid.例文帳に追加

そして、周波数の変化を横軸にし、縦軸に位相差の変化をとりこの変化を波形図として描くと個々の液体によってパターンの異なる波形図を描く事が分かった。 - 特許庁

The phase pattern of the diffraction type optical element (DOE) is previously determined in such a manner that the beam power at the lattice point within a certain range is made the same.例文帳に追加

回折型光学素子と集光レンズを用いて一定範囲でパワーを等分配した回折点を形成しデフォーカスすることによって、その範囲でトップハット型の光量分布を得る。 - 特許庁

A raster generating section 400 in the image coding apparatus acquires a period, a phase, a shape and a size of a binary dot pattern on the basis of input image data, and outputs the acquired items to a symbol dictionary generating section 402.例文帳に追加

ラスタ生成部４００は、入力画像データに基づいて、２値網点パターンの周期、位相、形状並びにサイズを取得し、シンボル辞書作成部４０２に対して出力する。 - 特許庁

In this cross-connecting device, a reception SDH part (R-SDH part) connected to a reception transmission line is provided with a location pattern insertion part 14 to insert in-device 2K phase information and path trouble (warning) information.例文帳に追加

受信伝送路に接続された受信ＳＤＨ部（Ｒ＿ＳＤＨ部）にロケーションパタン挿入部１４を設け、装置内２Ｋ位相情報及びパス障害（警報）情報を挿入する。 - 特許庁

To provide an electrostatic actuator having a fixing sheet of a four-phase electrode pattern, which needs only one face wiring, has a large and uniform electrostatic force, and is easy to be manufactured, and also to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

片面配線で済み、静電力が大きく、静電力が均等で、製造が容易な４相電極パターンの固定シートを有する静電アクチュエータおよびその製造方法。 - 特許庁

The image display medium includes an electrophoretic medium which is constituted of a first medium and a second medium undergoing phase separation at least at room temperature, wherein a predetermined pattern is formed.例文帳に追加

本発明の画像表示媒体は、基板間の電気泳動媒体が少なくとも室温で相分離される第１媒体と第２媒体とによって所定のパターンが形成されている。 - 特許庁