「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To conquer the difficulty of mask production while enhancing resolution in the exposure of a gate line, or the like, of a severe dimensional rule when a desired pattern is obtained by projection mapping using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いた投影写像によって所望パターンを得る場合において、寸法ルールの厳しいゲート線等の露光における解像性を高めることを可能にしつつ、そのマスク製造の困難さを克服する。 - 特許庁

To provide a sheet coil type resolver having high detection angle accuracy by forming a coil pattern, such that voltage distribution induced in a detection phase becomes sinusoidal distribution in resolvers having a relatively small shaft-multiple angle number.例文帳に追加

軸倍角数が比較的少ないレゾルバにおいても、検出相に誘起される電圧分布が正弦波分布となるようにコイルパターンを形成して、検出角度精度の高いシートコイル型レゾルバを提供する。 - 特許庁

To provide polarization illumination of an exposure apparatus with which resolution property can be enhanced, in exposure of gate lines, or the like, having strict dimensional rules, when a desired pattern is obtained by projection mapping that uses a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いた投影写像によって所望パターンを得る場合において、寸法ルールの厳しいゲート線等の露光における解像性を高めること露光装置の偏光照明を提供する。 - 特許庁

To provide an optical encoder capable of obtaining desired precision by regulating the relation among the necessary phase precision, distance between index scale and main scale, divergent angle of a parallel light beam, and a period of a periodic pattern.例文帳に追加

必要位相精度と、インデックススケールとメインスケールとの距離と、平行光線のビーム発散角度と、周期パターンの周期との関係を規定することにより、所望の精度をもつ光学式エンコーダ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical recorder and an optical reproducing device capable of obtaining an appropriate amplitude value by reproducing a pattern for reproduction power control based on a clock, a phase of which is stabilized, and also a magneto-optical recording madium using therefor.例文帳に追加

位相の安定したクロックに基づいて再生パワー制御用パターンを再生し、適切な振幅値を求めることのできる光記録装置，光再生装置及びそれに用いる光磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To limit regenerated power without recourse to the control by a control pattern at regeneration when the revolution-detected-value of a motor is over a specified value in case that the number of revolutions of the three-phase motor increases by any reason.例文帳に追加

三相モータの回転数が何らかの原因により急上昇した場合に、電動機の回転数検出値が所定値を超えるときは、回生時制御パターンによる制御によらずに、回生電力を制限する。 - 特許庁

The locations of the sensors S1 and S2 are computed by a code pattern, and it is verified whether the computed locations are displaced from each other by the predetermined number of codes or not and the relationship between both phase angles from the parity of the number of all the graduations.例文帳に追加

そして、これらのセンサＳ１，Ｓ２位置をコードパターンより算出し、この算出した位置が所定のコード数だけ異なっているか否かと、全目盛り数の偶奇性から双方の位相角の関係とを確認する。 - 特許庁

On a recipient side, a despread and demodulated output of the pilot channel is transformed in fast Hadamard to estimate the Hadamard matrix added to the fixed pattern, and its phase and amplitude are determined to obtain the second added data string.例文帳に追加

受信側では、パイロットチャネルの逆拡散復調出力を高速アダマール変換して固定パターンに加算されているアダマール系列を推定し、その位相・振幅判定を行うことで第２付加データ列を得る。 - 特許庁

Then, by performing second-stage exposure, another areas G to be irradiated of the photoresist film are irradiated with light by using another phase shift mask formed in another straight line pattern extended in the longitudinal direction A of active areas L.例文帳に追加

次に、同じフォトレジスト膜に第２段階の露光を行い、活性領域Ｌの長辺方向と同じＡ方向に延在する直線パターンからなる位相シフトマスクを用いて照射領域Ｇに光を照射する。 - 特許庁

To provide a phase difference layer capable of effectively suppressing the deterioration of display quality without producing a contrast pattern in a display image even when being arranged between a liquid crystal cell and a polarizing plate.例文帳に追加

液晶セルと偏光板との間に配置した場合でも、表示画像に明暗模様を発生させることがなく、表示品位が低下してしまうことを効果的に抑制することができる位相差層を提供する。 - 特許庁

A screen pattern is selected for the purpose of changing the copy mode (S1930) in accordance with the picture signal subjected to gradation conversion, and the extent of phase shift in the unit of one line in the main scanning direction is changed into resolved color units (S1950).例文帳に追加

階調変換した画像信号に従い、複写モードを変更するためにスクリーンパターンを選択して（S1930）、主走査方向の１ライン単位の位相シフト量を前記分解された色単位に変更する（S1950）。 - 特許庁

To realize crystal of high quality which has small dislocation and cracking by selectively growing GaN on a substrate having a stepped striped pattern consisting of projection and recessed parts in various widths by using an organic metal vapor-phase grown crystal method.例文帳に追加

有機金属気相成長結晶法を用い、凸部と凹部の幅に粗密のある段差状ストライプ・パターンを有する基板上に、ＧａＮを選択成長させ、転位やクラックの少ない、高品質の結晶を実現する。 - 特許庁

By irradiating the plane waveguide type optical circuit with an ultraviolet laser beam 50 through a phase grating mask 30, the diffraction grating 25 is formed in the core layer 20 (figure 1 (d)) by the refractive index modulation pattern.例文帳に追加

そして、この平面導波路型光回路に対して、位相格子マスク３０を介して紫外レーザ光５０を照射して、屈折率変調パターンによる回折格子２５をコア層２０内に形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

A signal generator 11 calculates a phase difference pattern for displaying an image 18 to be formed with a preset brightness such as the same brightness according to the use efficiency of light or the area of the image 18 to be formed.例文帳に追加

形成される画像１８の光の利用率や面積に応じて、形成される画像１８を同じ明るさなど予め設定した明るさで表示するための位相差パターンを信号発生器１１が算出する。 - 特許庁

To provides method and device for exposure capable of exposing a pattern, having a fine hole diameter and patterns of rows of contact holes or mixed independent contact holes with the rows of contact holes, with a high degree of resolution (or the degree of resolution equal to L-and-S pattern employing a phase shift mask for the rows of contact holes) without exchanging any mask.例文帳に追加

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度（即ち、コンタクトホール列については位相シフトマスクを用いたＬ＆Ｓパターンと同等の解像度）で露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The method for forming the mask pattern uses techniques of optical proximity correction of the mask pattern having a phase shift region with a plurality off transmittance.例文帳に追加

複数の透過率の位相シフト領域を有するマスクパターンの光近接効果補正技術を用いたマスクパターン形成方法であって、単層の位相シフトマスクを想定した光近接効果補正を行うＯＰＣ処理工程と、光近接効果補正後に透過率を決定する工程と、透過率の決定後透過率に対応するマスクバイアスをかける工程を含む。 - 特許庁

A grounding electrode is formed in a bottom layer of the laminate 1, and the grounding electrode, an electrode pattern forming the filter, an electrode pattern forming the phase-setting means, and an electrode for mounting the FET switch SW50 are disposed, in this order, along a lamination direction starting from the relevant bottom layer to a top layer.例文帳に追加

積層体１の最下層にはグランド電極が形成されており、当該最下層から最上層へ向かう積層方向に沿って、グランド電極、フィルタを形成する電極パターン、位相設定手段を形成する電極パターン、ＦＥＴスイッチＳＷ５０の実装用電極の順に配置されている。 - 特許庁

The driving pattern and the driving voltage are properly controlled, which are applied to the outer circumferential pattern electrodes 31 to 38 in accordance with the directivity of astigmatism due to the optical system; the light beam is passed in this state, imparting a phase difference based on the difference in refractive index, thereby enabling the astigmatism to be well corrected.例文帳に追加

光学系に起因する非点収差の方向性に対応して外周部のパターン電極３１乃至３８に印加する駆動パターンと駆動電圧を適切に制御し、この状態で光ビームを通過させて屈折率の違いに基づく位相差を付与することにより、非点収差を良好に補正することができる。 - 特許庁

If a phase shift mask formed with the semipermeable film 12 on a transparent glass substrate 10 is regulated in the thickness of the semipermeable film 12 so as to be made optimum for the pitch of the patterns in fine pattern regions 14, the sub-peaks by adjacent apertures overlap each other in some cases in isolated pattern regions 16.例文帳に追加

透明なガラス基板１０上に半透過膜１２が形成された位相シフトマスクで、微細パターン領域１４におけるパターンのピッチに対して最適となるように半透過膜１２の厚さを調整すると、孤立パターン領域１６において、隣接する開口部によるサブピークが重なり合うことがある。 - 特許庁

A conductor pattern is disposed on the sheet-like structure via an insulating layer, thus generating coupling of an electromagnetic field between the sheet-like structure and the conductor pattern, and hence reducing the in-phase reflection frequency of the sheet-like structure and expanding the frequency bands operable as the leak antenna.例文帳に追加

シート状構造体の上に絶縁層を介して、導体パターンを配置することにより、シート状構造体と導体パターンとの間に電磁界の結合が生じ、それにより、シート状構造体の同相反射周波数を低下させると共に、リークアンテナとして動作可能な周波数帯域を拡張することができる。 - 特許庁

A test pattern is written on a carrying belt 2 by an LD that is a correction object (S1), the written test pattern is read by a sensor not shown, which is disposed oppositely to the carrying belt 2 (S2), and a relative slippage of dots is detected to acquire lighting phase information between LDs (light sources) is acquired (S3).例文帳に追加

搬送ベルト２上に補正対象となるＬＤによってテストパターンを書き込み（Ｓ１）、書き込まれたテストパターンは図示搬送ベルト２に対向した配置された図示しないセンサによって読み取られ（Ｓ２）、ドットの相対的なズレが検出され、ＬＤ（光源）間の点灯位相情報が取得される（Ｓ３）。 - 特許庁

In the image obtained by inverse-transforming the matrix to which the small component ΔF is added a phase difference pattern W01 corresponding to the small component ΔF is embedded, and if the original image is secretly hidden, this pattern cannot be taken out of an embedded image or cannot be erased by an overwriting attack.例文帳に追加

微小成分ΔＦを加えた行列を逆変換することにより得られた画像には、微小成分ΔＦに対応した位相差パターンＷ01が埋め込まれており、このパターンは、原画像が秘匿されていれば、埋め込み済みの画像から取り出したり、上書き攻撃により抹消したりすることができない。 - 特許庁

The zero-cross detection means detects the zero-cross point of the rising or falling edge of a specific pattern included in a preamble area, makes a period counter of a prescribed period from the detected zero-cross point operate, predicts the zero-cross point predicted from a specific pattern in the preamble area, and outputs a phase error for acquisition.例文帳に追加

ゼロクロス検出手段は、プリアンブル領域に含まれる特定パターンの立上り又は立下りエッジのゼロクロス点を検出し、検出されたゼロクロス点から所定周期の周期カウンタを動作させ、プリアンブル領域の特定パターンから予測されるゼロクロス点を予測し、アクイジション用位相誤差を出力する。 - 特許庁

The method for making a phase modulation type hologram not substantially accompanied by a surface relief image due to irregularity includes (1) a step of computing a variation pattern of light transmittance as a mask pattern through a computer generated hologram, (2) a step of making a photomask from the computed mask pattern, and (3) a step of exposing an index modulation type photopolymer with light passed through the photomask.例文帳に追加

（１）マスクパターンとして計算機合成ホログラムにより光線透過率の変化パターンを計算する工程、（２）計算されたマスクパターンからフォトマスクを作製する工程、および（３）当該フォトマスクを通過した光により屈折率変調型フォトポリマーを露光する工程とを含むことを特徴とする、実質的に凹凸による表面レリーフイメージを伴わない位相変調型ホログラムの作製方法。 - 特許庁

A method for forming a pattern includes a step of forming a film which comprises a pattern forming material containing a copolymer having a polystyrene derivative and a polymethacrylate derivative containing silsesquioxane, a step of forming a microphase separation structure in the film, and a step of etching the substrate with a phase of a polymer chain containing the silsesquioxane as a mask and transferring a pattern of the microphase separation structure on the substrate.例文帳に追加

ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the phase change memory formed in a memory matrix pattern, crevices 13 and 15 lower in the thermal conductivity than interlayer insulating films 9 and 12 are formed between adjacent upper electrode films 6 and between adjacent lower electrode films 4, whereby heat generating inside the phase change memory is prevented from dissipating through the interlayer insulating films 9 and 12, and a phase change material film 5 is efficiently heated at a lower current than a conventional one.例文帳に追加

メモリマトリクス状に形成された相変化メモリにおいて、隣り合う上部電極膜６同士の間および隣り合う下部電極膜４同士の間に、層間絶縁膜９、１２よりも熱伝導率の低い空隙１３、１５を形成することにより、相変化メモリ内で発生する熱が層間絶縁膜９、１２を通じて散逸することを防ぎ、相変化材料膜５を従来より低い電流で効率的に加熱することを可能とする。 - 特許庁

Prior to start rotation of the rotor, a control circuit supplies the drive coil of a corresponding phase with a drive current of such a conduction pattern A as generating a magnetic field for arranging the rotor at a predetermined rotary position ((1) in the figure).例文帳に追加

制御回路は、ロータの回転始動に先立ち、予め定めた回転位置（図中マル１）にロータを配置させるための磁界がステータに生じるような通電パターンＡの駆動電流を、対応する相の駆動コイルに供給する。 - 特許庁

To provide an optically controlled phase array antenna which easily creates light intensity distribution of an arbitrary form on the front-side focusing plane of a Fourier transform lens at a high speed, and easily generates an array antenna radiation beam of a desired pattern.例文帳に追加

フーリエ変換レンズの前側焦点面上に任意の形状の光強度分布を容易にかつ高速に生成し所望のパターンのアレーアンテナ放射ビームを容易に生成する光制御型フェーズドアレーアンテナを提供する。 - 特許庁

A servo pattern is constituted of plural patterns arranged on both sides of a track central line while shifting in the track direction, and respective patterns A, B are constituted so that respectively two kinds of phase state patterns 11, 12, 13, 14 are arranged in the track width direction.例文帳に追加

サーボパターンをトラック中心線の両側にトラック方向にずらして配置した複数のパターンで構成し、各パターンＡ，Ｂはそれぞれ２種類の位相状態のパターン１１，１２；１３，１４をトラック幅方向に並べて構成する。 - 特許庁

Then a simple constitution requiring no circuit for level control is adopted for each of the transmission/reception modules 21 to 2n to decrease factors of a phase error influencing the antenna pattern and the entire system is miniaturized, made lightweight and low-cost.例文帳に追加

そして、各送受信モジュール２１〜２ｎをレベル制御のための回路を必要としない簡易な構成とすることで、アンテナパターンに影響を及ぼす位相誤差の要因を減らすとともに、装置全体を小型軽量化かつ低コスト化する。 - 特許庁

A feed phase is made different by 90° between the pair of dipole antennas connected by conductors 31 and 32 and the pair of dipole antennas connected by conductors 33 and 34, whereby the horizontal radiation pattern can be made omnidirectional.例文帳に追加

導体３１，３２により接続された１組のダイポールアンテナと導体３３，３４により接続された１組のダイポールアンテナとで給電位相を９０度異ならせることにより水平面指向性を無指向性とすることができる。 - 特許庁

For a direct radiation type phased array antenna 1, only the amplitude of a radiation pattern at a certain measurement distance is measured for two or more cases that phase distribution of the opening are arbitrarily varied from the initial state and initial value.例文帳に追加

直接放射型フェーズドアレーアンテナにおいて開口の位相分布を初期状態及び初期値から任意に変化させた２種類以上の場合について、一定の測定距離での放射パターンの振幅のみを測定する。 - 特許庁

To provide a PLL circuit for pulling data intermittently recorded and whose head includes a synchronization pull-in pattern region at high speed without providing a special VCO with a plurality of phase error outputs.例文帳に追加

複数の位相誤差出力をもつ特殊なＶＣＯを備えること無しに、間欠的に記録され、データの先頭部に同期引き込みパターン領域を有するデータに対し、高速での引き込みを可能とするＰＬＬ回路を提供する。 - 特許庁

Each color misregistration fluctuation is obtained from the pattern position information recorded in the memory, and from the obtained misregistration fluctuation of each color, one having the largest amplitude is regarded as a reference color to be used for obtaining the phase difference of the photoreceptor drum 1.例文帳に追加

メモリに記録されたパターン位置情報から、各色の位置ずれ変動を求め、求めた各色の位置ずれ変動から、その振幅が最も大きいものを感光体ドラム１の位相差を求める際の基準色とする。 - 特許庁

To realize high speed transmission in a CMOS LSI by reducing the phase difference among a plurality of data by a correction circuit consisting of a fixed pattern generating means, a variable delaying means and a simple digital circuit.例文帳に追加

複数データの位相を、固定パターン発生手段と、可変可能な遅延手段と、簡易なディジタル回路で構成する補正回路によりデータ間の位相差を低減することで、ＣＭＯＳ ＬＳＩにおける高速伝送を実現する。 - 特許庁

The first conductor pattern (24) of the power distribution phase shifter (12) includes a first surrounding part (30) which surrounds at least a part of a rotating shaft, and a first arcuate part (36) extending in the circumferential direction of the rotating shaft at a position separated from the first surrounding part (30).例文帳に追加

電力分配型移相器(12)の第１導体パターン(24)は、回転軸の少なくとも一部を囲む第１囲繞部(30)と、第１囲繞部(30)から離間した位置にて、回転軸の周方向に延びる第１円弧部(36)とを含む。 - 特許庁

A table of correlation between three-dimensional information of a glass defect 11 of the phase shift mask 10 and a CD (minute dimension) error of a transfer pattern is created and a specification in which the glass defect 11 is allowed is determined based on the table.例文帳に追加

位相シフトマスク１０のガラス欠陥１１の３次元情報と転写パターンのＣＤ（微細寸法）誤差との相関関係のテーブルを作成し、このテーブルを基にしてガラス欠陥１１の許容される仕様を決定する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in the adaptability for a halftone phase difference shift mask and resolution for the formation of a contact hole pattern and to provide a positive resist composition having little deformation of a hole during etching and a wide exposure margin for under exposure.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時のハーフトーン位相差シフトマスク適性と解像力に優れたポジ型レジスト組成物、更には、エッチング時のホール変形が少なく、アンダー露光時の露光マージンが広いポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The moving direction is informed by determining an advancing condition of a phase, because shifted by 1/4 of period by arranging the slit gratings 14a, 14b while shifted spatially by (1/4)p along the moving direction of the speckle pattern.例文帳に追加

スリット格子１４ａ、１４ｂを空間的にスペックルパターンの移動方向に（１／４）ｐずらして配置することにより、１／４周期ずれるので、その位相の進み具合を判別することにより、移動方向を知ることができる。 - 特許庁

The fixed pulse pattern generation means 12 sets a modulation factor to not less than 1.2 when on/off phase angles of a quarter cycle are nearly 11.2°(on), 13.8°(off), 16.5°(on), 20.0°(off), and 21.7°(on), and a system impedance at a side of the AC power supply 1 is 15%.例文帳に追加

固定パルスパターン発生手段１２は、四半周期のオンオフ位相角が略１１．２°（オン）、１３．８°（オフ）、１６．５°（オン）、２０．０°（オフ）、２１．７°（オン）で、交流電源１側の系統インピーダンスが１５％のとき、変調率を１．２以上とする。 - 特許庁

To control regeneration power, without having to depend on controlling the performance by a controlling pattern at a regenerating period of time, when a detected value in the number of rotations in a motor exceeds a predetermined level, when the number of rotations in a three-phase motor is suddenly increased for some reason.例文帳に追加

三相モータの回転数が何らかの原因により急上昇した場合に、電動機の回転数検出値が所定値を超えるときは、回生時制御パターンによる制御によらずに、回生電力を制限する。 - 特許庁

To provide a pulse pattern forming configuration with respect to a three-phase current power converter by which switching loss can be reduced as much as possible regardless of a high/low power factor, and power conversion efficiency can be improved by this reduction.例文帳に追加

力率の大小に関わらずスイッチング損失を可及的に低減でき、これにより電力変換効率を向上させることができる三相電流形電力変換器に対するパルスパターン生成構成を提供する。 - 特許庁

Then, after the analog PLL circuit 13 is locked, the address information ADD is demodulated from a phase inversion pattern of an ADIP detected on the basis of a 2nd clock Apck to be produced by the analog PLL circuit 13.例文帳に追加

そして、アナログＰＬＬ回路１３がロックした後は、該アナログＰＬＬ回路１３により生成される第２クロックＡｐｃｋに基づいて検出したＡＤＩＰの位相反転パターンからアドレス情報ＡＤＤ を復調する。 - 特許庁

To provide a design pattern capable of evaluating depending on the design conditions at a level requiring phase shift mask and a light proximity effect in manufacture a circuit of a wafer following the advanced microminiaturization of circuit wirings.例文帳に追加

回路配線の微細化が進み、ウエハの回路作製に光近接効果と同補正を必要とし、位相シフトマスクの使用を必要とするレベルにおいて、設計条件に対応し且つ実用レベルで評価できるテスト設計パタンを提供する。 - 特許庁

The reception-side integrated circuit detects a phase difference by comparing a data signal of the initialization pattern with a frequency division clock being a clock obtained by dividing the frequency of a reference clock for every data path corresponding to each transmission path.例文帳に追加

前記受信側集積回路が、前記各伝送経路に対応するデータパス毎に、前記初期化パタンのデータ信号と、基準クロックを分周したクロックである分周クロックと、を比較することにより、位相差を検出する。 - 特許庁