「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the dimensional accuracy of a halftone material film pattern of a halftone type phase shift mask manufactured by using a blank having a laminated structure of the halftone material film and a light shielding film.例文帳に追加

ハーフトーン材料膜と遮光膜との積層構造を有するブランクを用いて製造されるハーフトーン型位相シフトマスクにおけるハーフトーン材料膜パターンの寸法精度を向上する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity, wide defocus latitude when zone illumination is used and hardly generating side lobe when a pattern is formed by using a half-tone phase shift mask.例文帳に追加

高感度で、輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

Phase data classified by a plurality of projection parts in relation to the substrate having the measuring object formed through the plurality of projection parts is acquired by successively irradiating the substrate with pattern illumination (S110).例文帳に追加

複数の投影部を通して測定対象物が形成された基板にパターン照明を順に照射して基板に対する投影部別位相データを取得する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

To form a pattern of arbitrary size including a size less than resolution in an arbitrary shape through exposure using one mask realizing phase shift effect.例文帳に追加

位相シフト効果を実現する１枚のマスクを用いた露光によって、解像度程度以下の寸法を含む任意の寸法のパターンを任意の形状について形成できるようにする。 - 特許庁

A pattern detection circuit detection circuit 52 conducts an arithmetic in response to a phase of pixels such as obtaining a mean value of pixel values of pixels with inverted phases to each other based on an output of the area extract circuit 51 and detects a pattern of the NTSC signal based on the arithmetic result.例文帳に追加

パターン検出回路５２は、領域抽出回路５１の出力に基づき、互いに逆位相の画素の画素値の平均を求める等の、画素の位相に応じた演算を行い、演算結果に基づいてＮＴＳＣ信号のパターンを検出する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which can suppress the dimples produced when using a halftone phase shift mask and permits the strict control of the variation of resist pattern sizes per unit temperature in order to cause the thermal flow of the resist pattern after development.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクを用いたときに生じるディンプルを抑制することができ、しかも現像後のレジストパターンを熱フローさせるため、単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量を厳密にコントロールできる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The optical image of the mask is acquired and the shift quantity of the best focus position from the center of the focus of the halftone mask part 10a when the center of the focus of the light shielding pattern parts 10b as an origin is derived and the evaluation of the phase difference in the real pattern is executed.例文帳に追加

そして、このマスクの光学像を取得し、遮光膜マスク部１０ｂのフォーカスの中心を原点としたときの、ハーフトーン膜マスク部１０ａのフォーカスの中心からのベストフォーカス位置のシフト量を導出して、実パターンでの位相差の評価を行う。 - 特許庁

In a phase difference servo burst pattern contained in servo information buried and recorded in the servo area of a disk medium by a DTR method, the tilting state of the burst pattern is set in the same direction as that of the in-line angle of a head in a single tilting direction.例文帳に追加

ＤＴＲ方式により、ディスク媒体上のサーボ領域に埋め込み記録されたサーボ情報に含まれる位相差サーボバーストパターンにおいて、当該バーストパターンの傾斜状態を単一傾斜方向で、ヘッドのインライン角と同一方向に設定した構成である。 - 特許庁

A SYNC signal addition and correction processing section 8 receives a SYNC timing signal generated by a SYNC timing generator 9, imbeds the SYNC signal to a modulation output of the phase modulator 7 to generate a synchronous pattern and to apply correction processing to the synchronous pattern.例文帳に追加

ＳＹＮＣ信号付加＆補正処理部８は、ＳＹＮＣタイミング生成器９で生成されたＳＹＮＣタイミング信号を受けて、位相変調器７の変調出力にＳＹＮＣ信号を埋め込んで同期パターンを生成すると共に、同期パターンを補正処理する。 - 特許庁

When the scanning of the data of the image memory 3 is completed, a pattern confirmation image and a structural analysis result displaying the original image stored in the pattern confirmation part 5 and the stored symbolic mark in consideration of the phase coupling relation of the spatial arrangement of molecule constituting elements are displayed.例文帳に追加

画像メモリ３のデータを走査し終えると、パターン認識部５に保存された原画像、保存した象徴する記号を分子構成要素の空間配列の位相結合関係に配慮しながら表示したパターン認識画像、及び構造解析結果を表示する。 - 特許庁

In the pole-type antenna system provided with a cylinder (11) on the circumferential face of which an antenna pattern and a phase shifter pattern are formed, and a first annular cushion member (51), wound on a tip part of the outer circumferential face of the cylinder (11), adjusts the antenna frequency characteristic of the pole-type antenna system.例文帳に追加

周面にアンテナパターンとフェーズシフタパターンとが形成された筒体（１１）を備えたポール型アンテナ装置に於いて、筒体（１１）の外周面の先端部に巻かれた第１の環状クッション材（５１）は、ポール型アンテナ装置のアンテナ周波数特性を調整する。 - 特許庁

For controlling the rotation of the motor 4, a commutation pattern is outputted from a control unit 1, and a rotor position signal obtained by CR-phase-shifting a motor terminal voltage in a sensing part 3 is inputted into the control unit 10 to switch the commutation pattern on the basis of the rotor position.例文帳に追加

モータ４の回転制御のためにコントロール部１から転流パターンを出力すると共に、モータ端子電圧をセンシング部３でＣＲ位相シフトしたロータ位置信号をコントロール部に入力し、ロータ位置信号に基づいて転流パターンを切り換える。 - 特許庁

The phase difference pattern generated by the signal generator 11 is supplied as a signal according to the image to be formed on a liquid crystal display device 13, whereas the pattern is supplied to a light source power supply 14 to vary the luminous energy of a light source 15 comprising a semiconductor laser.例文帳に追加

信号発生器１１で発生された位相差パターンは液晶表示素子１３に形成する画像に応じた信号として供給される一方、光源用電源１４に供給され半導体レーザからなる光源１５の光量を可変する。 - 特許庁

The method of refreshing the toner in two-component developing apparatus includes: detecting a change in toner density in the developing apparatus by using a toner density sensor when a predetermined toner consumption pattern is developed; and carrying out a toner-consuming operation so that the phase of the waveform output from the toner density sensor and generated when the second toner consumption pattern is developed, is out-of-phase with the detected first waveform output from the toner density sensor.例文帳に追加

２成分現像装置におけるトナーリフレッシュ方法において、所定のトナー消費パターンを現像したときの現像装置内のトナー濃度の変化をトナー濃度センサにより検知し、該検知した１回目のトナー濃度センサの出力波形に対して、２回目のトナー消費パターンを現像するときのトナー濃度センサの出力波形の位相がズレるようにトナー消費動作を行う。 - 特許庁

Covering the optical fiber with thermoplastic ultraviolet ray transparency resin (S110), heating this covering resin to soften (S120), and pressing a phase modulation pattern die to it in a way continuously changing the pressure on the resin in the length direction of the optical fiber (S130), a phase modulation pattern is transferred to the thermoplastic ultraviolet ray transmissive resin.例文帳に追加

光ファイバの周囲を熱可塑性紫外線透過樹脂で被覆し（Ｓ１１０）、被覆した熱可塑性紫外線透過樹脂を加熱して軟化させ（Ｓ１２０）、熱可塑性紫外線透過樹脂に押し付ける力が光ファイバの長手方向に連続的に変化するように位相変調パターン型を押し付け（Ｓ１３０）、位相変調パターンを熱可塑性紫外線透過樹脂に転写する。 - 特許庁

The magnetoresistive element 10 is manufactured by adhering a first magnetoresistive element substrate 11, comprising a first substrate 111 made of a ceramic glaze substrate formed with a phase A magnetoresistance pattern 112 and a second magnetoresistive element substrate 12, comprising a second substrate 121 made of a transparent glass substrate formed with a phase B magnetoresistance pattern 122 by using a UV-curing adhesive.例文帳に追加

セラミックグレーズ基板からなる第１の基板１１１上にＡ相磁気抵抗パターン１１２が形成された第１の磁気抵抗素子基板１１と、透明なガラス基板からなる第２の基板１２１上にＢ相磁気抵抗パターン１２２が形成された第２の磁気抵抗素子基板１２とをＵＶ硬化接着剤によって貼り合せて磁気抵抗素子１０を製造する。 - 特許庁

A second meandering coil pattern 13a is provided as the same pattern at a position facing the meandering coil pattern 17a, the buffering member 12, the insert vibrating film 13, the vibrating film 15 and the lower and upper permanent magnet plates 11 and 19 have the same size and the same shape and the vibrating film 17 and the insert vibrating film 13 are driven in phase.例文帳に追加

第２の蛇行コイルパターン１３ａは、蛇行コイルパターン１７ａと対向する位置に同一のパターンとして設けられ、緩衝部材１２、挿入振動膜１３、振動膜１５、下側および上側永久磁石板１１および１９は同じ大きさおよび形状であって振動膜１７および挿入振動膜１３は同相で駆動する。 - 特許庁

In the method of manufacturing an exposure mask which is used to perform pattern exposure with a high resolution by shifting the phase of light transmitting both sides in the line width direction of a mask pattern, high-precision patterns requiring line width precision and high-resolution patterns requiring pattern exposure with high resolution are extracted from gate patterns (design patterns) (S2).例文帳に追加

マスクパターンの線幅方向両側を透過する光の位相をシフトさせることで高解像度のパターン露光を行う際に用いられる露光マスクの作製方法であって、ゲートパターン（設計パターン）の中から、線幅精度が要求される高精度パターンと、高解像度でのパターン露光が要求される高解像度パターンとを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

To relate to novel methods for affecting, controlling and/or directing various crystal formation, structure formation or phase formation/phase change reaction pathways or systems by exposing one or more components in a crystallization reaction system to at least one spectral energy pattern.例文帳に追加

少なくとも１つのスペクトル・エネルギー・パタンに結晶化反応系の１つ以上の成分を曝露することによって、いろいろな結晶形成、構造形成又は相形成／相変化の反応経路又はシステムに影響を及ぼし、コントロールし、及び／又は導く新しい方法に関する。 - 特許庁

Furthermore, between the noninverted phase side delay circuit 2 and the inverted phase side delay circuit 3 constituting the delay circuit, two non-delay signal wires 13 from the amplifier 1 to the comparator 4 are inserted and disposed approximately linearly in parallel with each other and ground pattern 18 are disposed among the respective wires.例文帳に追加

また、増幅器１から比較器４に至る２本の非遅延信号配線１３が遅延回路を構成する正相側の遅延回路２と逆相の遅延回路３の間に略直線かつ平行に引き通されて配置されるとともに、それぞれの配線間にグランドパターン１８が配置される。 - 特許庁

The photo mask 5 for phase shift focus monitor has first and second light transmission parts 5c and 5d adjacent to each other across a light shielding pattern 5b between them and is so constituted that a phase difference other than 180° may be given for respective exposure light transmitted through the first and second light transmission parts 5c and 5d.例文帳に追加

この位相シフトフォーカスモニタ用フォトマスク５は、遮光パターン５ｂを挟んで隣り合う第１および第２の光透過部５ｃ、５ｄを有し、かつ第１および第２の光透過部５ｃ、５ｄを透過した各露光光に１８０°以外の位相差が生じるように構成されている。 - 特許庁

To provide a method of producing a phase shift mask by which an etched state of the surface of a quartz substrate as the base is decreased and a rough surface or production of a rough pattern are suppressed when etching of a coating film consisting of a phase shift mask material such as oxide nitride of molybdenum silicon is completed.例文帳に追加

モリブデン−シリコンの酸窒化物のような位相シフトマスク材料からなる被膜のエッチング終了後における下地である石英基板表面のエッチングを低減して表面荒れや凹凸の発生を抑制した位相シフトマスクの製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The condensing/diverging element (3) converts light fed from the lighting system (2) to light having a light intensity distribution of a concave pattern showing that the light is reduced to a minimum in intensity at the phase-shifting part or its vicinity and increases in intensity toward its periphery, and irradiates the phase shifting mask (1) with the above light.例文帳に追加

集光発散素子は、照明系から供給された光を、位相シフト部またはその近傍において光強度が最も小さく且つその周囲に向かって光強度が増加する凹型パターンの光強度分布を有する光に変換して位相シフトマスクに照射する。 - 特許庁

To provide a method which can improve the degree of production margin in a phase shift mask manufacturing process and takes the actual width and length of a linear pattern into consideration as a correcting method for photomask data for a drawing device for manufacturing a substrate digging type Levenson phase shift photomask.例文帳に追加

基板掘り込みタイプのレベンソン型位相シフトフォトマスクを作製のための、描画装置用フォトマスクデータの補正方法であって、位相シフトマスク製造プロセスの製造余裕度を向上させることができ、且つ、線状パタンの実際の幅と長さを考慮した方法を提供する。 - 特許庁

The hologram grating element 1 has optically anisotropic patterns 3 arranged in a specified period, and each pattern 3 consists of a single phase in which a liquid crystal core part 7 (molecular structure part showing the liquid crystal phase) is aligned in one direction.例文帳に追加

光学的異方性を有するパターン３が所定周期で配列され、このパターン３が単一相で構成され、かつその内部において液晶コア部７（液晶相を示す分子構造部分）が同一方向に配向していることを特徴とするホログラム回折格子素子１である。 - 特許庁

To provide a blank for a halftone type phase shift mask, capable of providing a blank improving the size precision of a pattern of a halftone film much higher than before, using a halftone blank structure provided with no light shielding film, and to provide a method for manufacturing the halftone type phase shift mask.例文帳に追加

遮光膜を設けていないハーフトーンブランク構造を用いることにより、従来に比べて格段にハーフトーン膜のパターンの寸法精度を向上させるブランクを提供することができるハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

The phase-change ink can be applied in a process comprising, for example, (1) a step for incorporating the phase-change ink into an ink jet printing apparatus, (2) a step for melting the ink and (3) a step for forming droplets of the melted ink to be ejected in an imagewise pattern onto a substrate to be printed on.例文帳に追加

この相変化インキは、例えば（１）相変化インキをインキジェット印刷装置に組み込む工程と、（２）前記インキを溶融する工程と、（３）被印刷体上に画像の形に射出するための前記溶融インキの液滴を生じる工程と、を含む方法に用いることが可能である。 - 特許庁

The halftone phase shift mask has a structure where a pattern recognized by a difference in the reflectance depending on the presence or absence of a light shielding layer on a phase shift layer is used as an identification mark of the mask, and the mask is manufactured by the manufacturing method for simultaneously forming the identification mark with other patterns of the light shielding layers.例文帳に追加

位相シフト層上の遮光層の有無による反射率の差に起因して認識されるパターンを当該マスクの識別マークとする構造のハーフトーン型位相シフトマスクであって、識別マークを遮光層のパターンと同時に形成する製造方法により作製する。 - 特許庁

In the interior finishing wall structure comprising a wall panel 4 having the decorating pattern 13 on the surface and a lighting apparatus 12 mounted on a surface of the wall panel 4, the decorating pattern 13 has a color change function by which the color phase is changed depending on seeing angles.例文帳に追加

表面に装飾模様１３を有する壁パネル４と、この壁パネル４の表面側に取り付けられた照明器具１２とを備えた内装壁構造において、装飾模様１３として、見者が見る角度によって色相が変化する変色機能を有するものを採用する。 - 特許庁

With respect to the driving pattern, a type A of a fundamental pattern comprising a bit array indicating drive to turn on or off a liquid crystal element per subfield and types B, C, and D of shift patterns resulting from shifting the phase of the bit array of the type A with four subfields as a unit are prepared for one gradation level.例文帳に追加

駆動パターンには、一の階調レベルに対し、サブフィールド毎に液晶素子をオン駆動またはオフ駆動を指示するビット配列からなる基本パターンのタイプＡと、当該タイプＡに対し、サブフィールド数の「４」を単位としてビット配列の位相をシフトさせたシフトパターンのタイプＢ、Ｃ、Ｄとがある。 - 特許庁

To provide a phase shifting mask capable of reducing errors in transfer of patterns due to aberration caused by a difference in transmittance by reducing the difference between the light transmittance of the inside of a larger pattern and that of the outside of the larger pattern.例文帳に追加

他よりも大きなパターンの内側の光の透過率とのその他よりも大きなパターンの外側の光の透過率との差を小さくすることにより、透過率の差によって生じる収差に起因したパターンの転写誤差を小さくすることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting foreign matter, capable of easily and stably separating the fine foreign matter of a micron order bonded to a transparent or translucent substrate having a circuit pattern, especially, a reticle having a phase shift film from the circuit pattern by optically simple constitution to detect the same.例文帳に追加

回路パターンを有する透明または半透明の基板、特に位相シフト膜を有するレチクル等上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物を、光学的に簡単な構成で、容易に安定して回路パターンから分離して検出できる異物検査装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

A wiring pattern for connecting the shunt winding of each phase in series, parallel, stat or delta connection is selected, and a hole is made in the connection board comprising overlapped connection board elements to obtain the wiring pattern of a desired stator winding which is then fixed to the stator winding.例文帳に追加

各相の分巻巻線を直列又は並列に接続するか、スター結線又はデルタ結線にするか等の巻線の配線パターンを選択して、結線基板要素が重畳された結線基板に孔をあけ、所望のステータ巻線の配線パターンを得てステータ巻線に取り付ける。 - 特許庁

A method of manufacturing a photomask comprises: a step S12 of preparing a half-tone-type phase shift mask on which a mask pattern is formed; and a step S15 of forming a light-shielding frame by selectively applying a light-shielding material onto a region around the region in which the mask pattern is formed.例文帳に追加

実施形態に係るフォトマスクの製造方法は、マスクパターンが形成されたハーフトーン型位相シフトマスクを用意する工程Ｓ１２と、マスクパターンが形成された領域の周囲の領域に選択的に遮光材を塗布して遮光枠を形成する工程Ｓ１５とを備える。 - 特許庁

Since a non-magnetic body region is partially established on one circumference in the repetition pattern of the burst lines, however the phase of the repetition pattern is shifted in the radial direction, the non-magnetic region is not always disposed on one common circumference in all burst lines.例文帳に追加

バーストラインの繰り返しパターン中では部分的に１円周上に非磁性体領域が確立されるものの、繰り返しパターンの位相は半径方向にずれることから、全てのバーストラインで共通の１円周上に非磁性体領域が配置されるわけではない。 - 特許庁

A flexible circuit board is provided with an electrode wiring pattern to feed electricity to a liquid crystal panel, as well as a hole which is at least larger than a circular shape of a phase modulation electrode group, a heater disposed around the hole to heat a liquid crystal layer, and a heater wiring pattern to feed electricity to the heater.例文帳に追加

フレキシブル回路基板に、液晶パネルに給電するための電極配線パターンを設けるとともに、位相変調電極群の円形外形よりも少なくとも大きな孔部と、孔部の外周に設けた液晶層を加熱するヒータと、ヒータに給電を行うヒータ配線パターンと、を設ける。 - 特許庁

Further, the light-shielding layer 3 is patterned to form a light-shielding pattern 3a, and the shifter layer 2 is subjected to dry etching with chlorine, using ICP(inductively coupled plasma) type dry etching apparatus, to form a phase shift pattern 2a for obtaining shift mask 100 of the invention.例文帳に追加

さらに、遮光層３をパターニング処理して遮光パターン３ａを形成し、さらに、シフター層２をＩＣＰ（誘電結合プラズマ）タイプのドライエッチング装置を用いて塩素によるドライエッチングにてエッチングし、位相シフトパターン２ａを形成し、本発明の位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved.例文帳に追加

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

In the heat exchanger for cooling hydrate slurry, a blocking pattern map for indicating the presence of blocking in the heat exchanger is obtained beforehand by using two parameters of Reynolds number and a supercooling degree based on a three-phase parallel condition, and the control is carried out while the blocking is not generated on the pattern map.例文帳に追加

ハイドレートスラリーを冷却する熱交換器において、レイノルズ数及び三相平行条件からの過冷却度の２つをパラメータとして熱交換器の閉塞の有無を表す閉塞パターンマップを予め求め、前記パターンマップ上で閉塞が発生しない条件で制御を行う。 - 特許庁

The phase shift mask is provided with a shielded region having a line pattern formed therein and first and second transparent regions disposed on both sides of the shielded region on a substrate transparent to irradiated light, wherein a phase shifter is formed below the first transparent region and a side wall of the phase shifter has a curved portion convex to the outside.例文帳に追加

照射光に対して透明な基板上に、ラインパターンが形成された遮蔽領域と、前記遮蔽領域の両側にそれぞれ配置された第一の透明領域および第二の透明領域とを有し、前記第一の透明領域の下方には位相シフタが形成されており、前記位相シフタの側壁が、外側に凸の湾曲部を有している位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The halftone phase shift mask 100 having a transparent region 23 and a semitransparent region 24 comprising a phase shift pattern 21a is obtained by pattering a halftone phase shift mask blank 10 prepared by forming a semitransparent layer 21 comprising a metal silicide compound thin film containing zirconium, metal except for zirconium, and silicon, on a transparent substrate 11 consisting of a quartz glass substrate or the like.例文帳に追加

石英ガラス基板等からなる透明基板１１上にジルコニウムと、ジルコニウム以外の金属と、シリコンとを含んだ金属シリサイド化合物薄膜からなる半透明膜層２１を形成したハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス１０をパターニング処理して、透明領域２３と位相シフトパターン２１ａとからなる半透明領域２４とを有するハーフトーン型位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁

To provide a device and a method of measuring a code error rate which can automatically set a clock phase and a data threshold voltage at the center of an opening portion of the eye pattern at a high speed and with high precision.例文帳に追加

クロック位相とデータ閾値電圧を高速かつ高精度でアイパータンの開口部中心に自動設定できる符号誤り率測定装置および符号誤り率測定方法を提供すること。 - 特許庁

The CPU 5 determines the maximum absolute value Xab of operation AB phase difference during operation of a movable body 4 in a predetermined pattern at a set drive frequency f_dr and decides whether Xab>80° is satisfied or not.例文帳に追加

ＣＰＵ５は、設定した駆動周波数ｆ＿ｄｒで、移動体４の所定パターンの動作中の、操作ＡＢ位相差の絶対値の最大値Ｘａｂを求め、Ｘａｂ＞８０°であるか判定する。 - 特許庁

To provide a three-phase PWM signal generator which, with little limitation in the range of output voltage, can prolong the holding time of a switching pattern, using a simple method, without having to add new devices.例文帳に追加

新たな装置を付加せずに、出力電圧範囲の制約が少なく、簡易な方法でスイッチングパターンの保持時間を長くすることが可能な３相ＰＷＭ信号発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for performing accurate phase connection, in a three-dimensional measuring system for measuring a surface shape by observing an image obtained by irradiating a measuring object with sine-wave pattern light.例文帳に追加

正弦波パターン光を計測対象物に照射して得られる画像を観察することによりその表面形状を計測する三次元計測システムにおいて、正確な位相接続を行う。 - 特許庁