「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result, the phase mask pattern to be formed in the signal light region is no longer required to be coincide with a spatial light modulator in a pixel units, which results in the expansion of the flexibility of manufacturing the mask and of the ease of manufacturing.例文帳に追加

これによって信号光領域に形成すべき位相マスクパターンは、空間光変調器のピクセル単位で一致させる必要がなくなり、その作製の自由度の拡大、及び製造の容易化を図ることができる。 - 特許庁

In a magnetic disk device having a head disposed to have writing and reading heads integrally corresponding to the respective data surfaces of a plurality of media, servo information containing a phase servo pattern is discretely written in the data surfaces of the plurality media in a track direction.例文帳に追加

複数媒体の各データ面に対応してライトヘッドとリードヘッドを一体に備えたヘッド２０を配置した磁気ディスク装置につき、複数媒体の各データ面に位相サーボパターンを含むサーボ情報をトラック方向で離散的に書き込む。 - 特許庁

By calculating the target torque response through a phase-lead-compensation means 26 with respect to input of the accelerator opening degree (ACCP), in place of a conventionally-known injection amount pattern, the target torque response is quantitatively defined by the lapse of time.例文帳に追加

従来公知の噴射量パターンの代わりに、アクセル開度（ＡＣＣＰ）の入力に対して、位相進み補償器２６を介して目標トルク応答を演算することで、定量的に時間経過で定義するようにしている。 - 特許庁

To shorten a measurement time by reducing the number of input images in a system for measuring a three dimensional geometry of a specimen by measuring a phase obtained by applying Fourier transformation on the image of the specimen on which a pattern light is projected.例文帳に追加

パターン光を投影した試料の画像に、フーリエ変換を施し位相を求め、それをもとに試料の３次元形状を計測する装置において、入力する画像の枚数を削減し、計測時間の短縮を図る。 - 特許庁

A light shielding film 1b is partially removed to dispose openings 1c for hole pattern transfer and frame-like openings 1d which surround the respective openings 1c in a two-dimensional way on a mask substrate 1a constituting a phase shift mask 1.例文帳に追加

位相シフトマスク１を構成するマスク基板１ａ上に、遮光膜１ｂの一部を除去することで孔パターン転写用の開口部１ｃと、その周囲を平面的に取り囲むように枠状の開口部１ｄとを設けた。 - 特許庁

To provide an image processor and its processing method, which perform filter processing according to a power variation rate, phase information by pixels of interest, and phase information control parameters (low-pass coefficients) for controlling the frequency characteristics of a filter and perform power variational processing which suppresses generation of a cyclic striped pattern such as moire without unnecessary reduction of resolution.例文帳に追加

変倍率と、各注目画素毎の位相情報と、フィルタの周波数特性を制御するための位相情報制御パラメータ（ローパス係数）とに応じて、フィルタ処理を行い、不必要に解像度を落とすことなく、モアレなどの周期的な縞模様の発生を抑えた変倍処理を行える画像処理装置及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with high developing solution dispersion stability, not generating agglomerate, and having high edge phase property, high trackability, and high plating resistance, a photosensitive resin laminated body having a photosensitive resin layer made of the composition, a forming method of a resist pattern using the laminated body, and a method of manufacturing a conductive pattern.例文帳に追加

現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性、高いめっき耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

The pulse width control circuit 13 feed-back-controls DC power while controlling pulse width modulation, based on a function table in variable value control which lets a current flow gradually according to a specified envelop pattern and a function table in fixed value control after variable value control, based on the conduction pattern corresponding to the AC power voltage from a three-phase commercial AC power source 5.例文帳に追加

パルス幅制御回路１３は、三相商用交流電源５からの交流電源電圧に対応した導通パターンに基づいて、所定の包絡線パターンに従って徐々に電流を流す追値制御の関数テーブルと追値制御後の定値制御の関数テーブルとに基づいてパルス幅変調制御しつつ、直流電力をフィードバック制御する。 - 特許庁

When one of the respective driving devices 5, 6, for example, the driving device 5 is in trouble, after separating the faulty driving device 5, by a rescue operation pattern whose acceleration and deceleration are smaller than those of a normal operation pattern, the passengers are rescued by outputting three-phase drive voltages from the normal driving device 6 and moving the cage 2 to a closest floor.例文帳に追加

各駆動装置５、６のいずれか、例えば駆動装置５が故障したとき、故障した駆動装置５を切り離させた後、通常運転パターンより小さな加速度、減速度にされた救出運転パターンで、正常な駆動装置６から３相駆動電圧を出力させ、最寄りの階まで乗りかご２を移動させ、乗客を救出する。 - 特許庁

A film forming technique of a honeycomb porous thin film using waterdrops as a casting mold is used as a fundamental technique and a phase separation and thermal transfer method are combined with this technique to obtain the structure having a cyclicity other than a honeycomb structure, that is, a structure having the microring or microrod pattern by the degree of a heating temperature or the structure having this pattern.例文帳に追加

水滴を鋳型とするハニカム多孔質薄膜の製膜技術を基礎として、これに相分離および熱転写法を組み合わせることによって、ハニカム構造以外の周期性を有する構造、すなわち、加熱温度の高低によって、マイクロリングあるいはマイクロドットパターンないしはこのパターンを有する構造体を得るのに成功した。 - 特許庁

An image enhancing mask 6 for pattern formation includes a transmissive substrate which transmits exposure light and a semi-light-shielding portion 8 which is formed on the transmissive substrate and has transmittance allowing the exposure light to be partially transmitted and corresponds to an isolation line pattern, and a phase shifter 9 which is provided at an opening in the semi-light-shielding portion 8.例文帳に追加

パターン形成用のイメージ強調マスク６は、露光光に対して透過性を有する透過性基板７と、透過性基板７上に形成され、露光光の一部分を透過させる透過率を持ち且つ孤立ラインパターンと対応する半遮光部８と、半遮光部８の内部の開口部に設けられた位相シフター９とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for generating a mask pattern in which a variety of masks can be generated by setting the phase management of a mask and the management unit of offset for increasing randomness separately, and managing the position of a nozzle and the kind of a table to be copied.例文帳に追加

マスクのフェーズ管理とランダム性を増すためのオフセットの管理単位を別々に設定し、またノズルの位置とコピーするテーブルの種類を管理することにより多様なマスク生成を行うことが可能なマスクパターン生成方法を提供する。 - 特許庁

The measurement device for modulators is provided with an oscillator 1, a frequency divider 2, a 4-phase modulation pattern generator 3, S/P converters 4a, 4b, a vector network analyzer 6, a modulator 5 as a measurement object, and terminals 11, 12, 13, 14 used to interconnect each section of the measurement device.例文帳に追加

発振器１と、分周器２と、４相変調パターン発生器３と、Ｓ／Ｐ変換器４ａ，４ｂと、ベクトルネットワークアナライザ６と、被測定対象としての変調器５と測定装置各部とを接続する端子１１，１２，１３，１４とを設ける。 - 特許庁

A transmission signal in this spread spectrum communication equipment is divided into I and Q phase components, and a complex spread section 301 uses a complex number series pattern where 1,-1 appear alternately to allow multipliers 304, 305 and adders 302, 303 to conduct spread spectrum processing.例文帳に追加

送信信号はＩ相成分およびＱ相成分に分けられて、複素拡散部３０１では１，−１が交互に現れる複素数値系列のパターンを用いて乗算器３０４，３０５および加算器３０２，３０３によって拡散を行なう。 - 特許庁

Since the resonant signal consists of a single resonant mode with an axially symmetric radiation pattern, output characteristics of the emitted resonant signal can be used, for example, parallel, dispersive, or with the direction changed by using the phase shift.例文帳に追加

共振信号が、軸対称の放射パターンを有する単一共振モードから成るので、位相シフトを用いることにより、放射される共振信号の出力特性を、例えば平行にし、分散し、方向を変更し、形づくることができる。 - 特許庁

To provide a Levenson type phase shift mask which can be manufactured without complicating the manufacturing processes or increasing the factors of defects, which prevents deterioration in the transfer accuracy caused by unnecessary light reflecting from the photomask surface and which improves the resolution of a transfer pattern.例文帳に追加

製造プロセスを複雑にせず、欠陥の要因を増やさず製造でき、また、フォトマスク面で反射する不必要な光に起因する転写精度の劣化を防止し、転写パターンの解像力を向上させるレベンソン型位相シフトマスクを提供すること。 - 特許庁

(3) The substrate with a transparent electrode described in (1) has the structure comprising a phase change material layer and a dielectric material layer deposited thereon and having a reverse tapered cross-sectional shape in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the electrode pattern.例文帳に追加

（３）前記構造体が、相変化材料層とその上に積層された誘電体材料層からなり、構造体の、電極パターンの長手方向と直交する方向の断面形状が逆テーパー形状である（１）に記載の透明電極付き基板。 - 特許庁

To provide a matrix switch circuit with a plurality of inputs and a plurality of outputs that controls a phase of output data with respect to input data without increasing the circuit scale in the case of outputting data of an optional pattern other than that of the input data.例文帳に追加

入力データとは別の任意パターンのデータ出力する場合において回路規模を増大することなく入力データを出力データの位相制御可能な複数入力、複数出力のマトリックススイッチ回路の提供にある。 - 特許庁

A PSK modulator 20 applies digital modulation processing to an RF wave supplied from an RF wave oscillator 22 by phase shift keying (PSK) based on a periodical signal sequence supplied from a pattern generator 24 to generate the continuous wave.例文帳に追加

ＰＳＫ変調器２０は、パターン発生器２４から供給される周期的な信号列に基づいた位相シフトキーイング（ＰＳＫ）により、ＲＦ波発振器２２から供給されるＲＦ波に対してデジタル変調処理を施して連続波を発生する。 - 特許庁

To provide a phase correction circuit of a disk player, in which a sampling clock is producible by correcting the influence of a scratch, etc., in the manner of evading or reducing them even though the scratch, etc., exist on the fixed pattern area of a magneto-optical disk.例文帳に追加

光磁気ディスクの固定パターン領域にキズ等があっても、そのキズ等の影響を回避又は軽減するように補正してサンプリングクロックを生成し得るディスク再生装置の位相補正回路及びそれを用いたディスク再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a digital signal processor in which the output pulse train itself of a ΔΣ modulator is changed into a mute pattern of determined form and phase at all times in the input of '0' data regardless of the degree of the ΔΣ modulator without generating switching noise at all.例文帳に追加

切り替えノイズを全く発生することなく、ΔΣ変調器の次数を問わず、０データ入力時のΔΣ変調器の出力パルス列自体が常に決まった形と位相のミュートパターンへと変化するデジタル信号処理装置を提供する。 - 特許庁

In each of sinusoidal stripe patterns required for measuring a three-dimensional shape utilizing a phase shift method, a projection pattern in which sinusoidal amplitude A_n is changed for each period is generated and projected to the object M to be measured for imaging.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンの各々において、１周期毎に正弦波の振幅Ａ_ｎを変化させた投影パターンを生成して被計測物Ｍに投影して撮像する。 - 特許庁

Development is performed by jetting the gas-liquid two-phase water developer which is made electrolythic water by an electrode plate and in which water singly or air is mixed to the surface of the photosensitive resin printing plate hardened to a specified pattern by exposure.例文帳に追加

露光により所定のパターンに硬化された感光性樹脂印刷版に対して、電極板によって電解水化し、かつ水単一又はエアーを混入した気液二相の水性現像液を印刷版表面に対して噴射させて現像を行う。 - 特許庁

To provide a photomask that can be manufactured at a low manufacturing cost, in which a phase defect due to a residue can be detected and a three-dimensional shape effect can be suppressed, and to provide a method for manufacturing a photomask, a method for designing a pattern of a photomask and a method for manufacturing an electronic device.例文帳に追加

安価な製造コストで製造でき、残渣による位相欠陥を検出でき、かつ３次元形状効果を抑制できるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクのパターン設計方法および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a waveform generator, a signal generation apparatus therewith, a waveform generation method and a signal generation method that keep phase continuity at connection parts of a waveform pattern sequence while reducing a frequency offset of each bit data.例文帳に追加

各ビットデータの周波数オフセットの発生を低減しつつ、波形パターン列の接続部の位相を連続にすることができる波形発生器及びそれを備えた信号発生装置並びに波形発生方法及び信号発生方法を提供する。 - 特許庁

In the diffraction element 1 for diffracting incident light, a plurality of first and second phase difference regions 10 and 20 for diffracting incident light are alternately arranged to form a diffraction pattern on a transparent substrate 30.例文帳に追加

入射光を回折させるための回折素子１には、透明基板３０上に、入射光を回折させるための第１の位相差領域１０と第２の位相差領域２０とが交互に複数配列されて回折パターンが形成されている。 - 特許庁

A complex multiplier 203 reads data for every symbol from the memory 201 and multiplies each of an orthogonal component and an in-phase component by a PI pattern at the time all symbols of the PI parts of a self-station among grouped PI parts are stored.例文帳に追加

群分けされたＰＩ部の内の自局のＰＩ部の全シンボルを蓄えた時点で、複素乗算器２０３は、受信データメモリ２０１からシンボル毎にデータを読み出し、直交成分と同相成分のそれぞれについてＰＩパターンとの乗算を行う。 - 特許庁

The drawing apparatus 1 for drawing a pattern includes: a light splitting section 15 for splitting laser light by a reflection surface 150; spatial optical modulation devices 16, 17 equipped with a plurality of micro-mirrors; and a parallel flat plate 18 for inverting the phase by 1/4.例文帳に追加

パターンを描画する描画装置１に、反射面１５０によってレーザ光を分割する光分割部１５、複数の微小ミラーを備えた空間光変調デバイス１６，１７、１／４だけ位相を反転させる平行平面板１８を設ける。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high resolving power when a bracelet illumination lamp is used, having a broad defocus latitude, less liable to produce a side lobe in pattern formation using a halftone phase shift mask and less liable to generate particles in storage with age.例文帳に追加

輪帯照明を用いた際に高解像力であり、デフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難く、且つ経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The driving device is provided with the brushless motor 1; position sensors S1-S3 for detecting that the rotation phase of a rotor has been changed, and outputting a position switching signal; the output shaft 8; and an electronic control device 2 for switching an excitation pattern of a stator coil.例文帳に追加

駆動装置はブラシレスモータ１と、ロータの回転位相が切り替わったことを検出して位置切替信号を出力する位置センサＳ１〜Ｓ３と、出力軸８と、ステータコイルの励磁パターンを切り替える電子制御装置２とを備える。 - 特許庁

To provide a forming method of high productivity for a metal pattern hard to cause the thickening of a dotted line or a fine line even in the case that plating is applied to the surface of an extremely thin silver film and not showing a copper color in a color phase when looked from its back.例文帳に追加

本発明の課題は、きわめて薄い銀膜上にめっきした場合も、断線や細線の太りを起こしにくく、かつ裏面からみて色相が銅色を呈さない金属パタンの生産性の高い形成方法を提供することである。 - 特許庁

The phase shift interferometer comprises: an illumination optical system 200 for emitting P wave and S wave; a collimate lens 110; a reference half mirror 120; a pinhole plate 130 having a pinhole 131; and a phase shift interference pattern acquiring section 300 for making object light included in a luminous flux passing the pinhole 131 interfere with the reference light at four different phases, and for acquiring interference patterns of differential phases.例文帳に追加

Ｐ波とＳ波とを発射する照明光学系２００と、コリメートレンズ１１０と、参照ハーフミラー１２０と、ピンホール１３１を有するピンホールプレート１３０と、ピンホール１３１を通過する光束に含まれる物体光と参照光とを４つの異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る位相シフト干渉縞取得部３００と、を備える。 - 特許庁

An apparatus for indicating a temperature of an object includes a porous substrate, a mirror image of a first image pattern printed on a first side of the porous substrate using a first phase-change ink having a first phase change temperature, and an adhesive layer applied to the first side of the porous substrate to enable the porous substrate to be affixed to the object.例文帳に追加

対象物の温度を提示する装置は、多孔質基材と、第１相変化温度を有する第１の相変化インクを用いて、前記多孔質基材の第１の面に印刷される第１画像パターンの鏡像と、前記多孔質基材の第１の面に塗布されて、対象物に前記多孔質基材を貼り付けられるようにする接着剤層と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The exposure phase includes fast switching for the conditioning of the radiation beam to a second beam condition, with the second beam condition which is different from the first beam condition, forming the patterned radiation beam by imparting the radiation beam with the second beam condition with a second pattern in its cross-section, with the second pattern being provided by a patterning device, and projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

露光段階は、放射ビームを、第１のビーム条件とは異なる第２のビーム条件に調整する高速切替えステップと、第２のビーム条件を含む放射ビームに、その断面のパターニングデバイスが提供した第２のパターンを付与することによりパターン形成された放射ビームを形成するステップと、基板のターゲット部分上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む。 - 特許庁

The anti-counterfeit medium characteristically includes, at least a pattern-like light reflection layer 13 and a phase difference layer 14 to partly or entirely cover the pattern-like light reflection layer, on the multi-layered thin film layer 18 provided on one side of the base material 11, which causes color change in accordance with the visual observation angle under the irradiation of visible light.例文帳に追加

基材１１の一方の面側に設けられている、可視光線の照射下で目視角度に対応して色変化が生じる多層薄膜層１８の上に、少なくともパターン状光反射層１３が設けられ、さらにそのパターン状光反射層の一部もしくは全面を覆うように位相差層１４が設けられていることを特徴とする偽造防止媒体。 - 特許庁

Mask pattern material on a base substrate coated with a multilayer film, and reaction gas which is used when the mask pattern material is worked with plasma dry etching are so combined that at least one kind of reaction product formed when the plasma dry etching is performed becomes solid phase at a room temperature or a substrate temperature which is raised during the plasma dry etching.例文帳に追加

多層膜をコーテイングした下地基板上のマスクパターン材料と、該マスクパターン材料をプラズマ・ドライエッチングで加工する際に用いられる反応ガスとを、プラズマ・ドライエッチング時に生成される反応生成物の少なくとも一種が室温又はプラズマ・ドライエッチング中に昇温した基板温度において固相になるごとく組み合わせて構成したことを特徴とする。 - 特許庁

The photodiode group 5 for detecting the origin position includes photodiodes 5Z, 5Z1, 5Z', 5Z1' arrayed according to an array pattern patternized using random numbers, and the reflecting grating group 8 for detecting the origin position includes a reflecting grating 81 and a non-reflecting grating 82 wider than gratings for detecting A and B phase signals arrayed according to an array pattern patternized using random numbers.例文帳に追加

原点位置検出用のホトダイオード群５は、乱数を用いてパターン化した配列パターンに従って配列されたホトダイオード５Ｚ、５Ｚ１、５Ｚ’、５Ｚ１’を含み、原点位置検出用の反射格子群８は、同じく乱数を用いてパターン化した配列パターンに従って配列されたＡ、Ｂ相信号検出用の格子よりも広幅の反射格子８１および非反射格子８２を含む。 - 特許庁

In the optical disk device, matching between combination of appearing patterns of phase reverse parts included in a wobble period pattern and previously prepared patterns for determination is detected and whether PLL synchronization can be applied is discriminated for a plurality of states according to the degree of matching with the detected pattern for determination and the PLL synchronization is applied by a prescribed procedure according to the state.例文帳に追加

この発明の光ディスク装置は、ウォブル周期パターンに含まれる位相反転部の出現パターンの組み合わせが予め用意されている判定用パターンと一致することを検出し、検出された判定用パターンとの一致の程度に応じて、ＰＬＬ同期が可能か否かを複数のステートに識別し、ステートに応じて、所定の手順でＰＬＬ同期をかけることを特徴とする。 - 特許庁

In a photomask 200 for forming photoresist patterns in the manufacturing process of semiconductors, the photomask is achieved such that the patterns are formed at one axis by the chromeless phase lithography, at least one pattern is formed at predetermined angles separated from the patterns, and slits 130,140 of chrome materials are formed at the end of each pattern.例文帳に追加

本発明の前記目的は半導体の製造工程の中のフォトレジスト・パターンを形成するためのフォトマスクにおいて、前記フォトマスクはクロムレス方式で、その一軸にパターンが形成されて、前記パターンと離隔されて所定の角度を持って一つ以上のパターンがもっと形成されて、前記それぞれのパターンの端部にクロムの材質のスリットが形成されることを特徴とするフォトマスクによって逹成される。 - 特許庁

Information light carrying and supporting the two-dimensional pattern information corresponding to data and reference light for recording modulated by phase modulation patterns are arranged on the hologram optical information recording medium in such a manner that the optical axes are aligned to the same line and the generated interference patterns are recorded.例文帳に追加

ホログラム光情報記録媒体に、データに対応する２次元パターン情報を担持した情報光と位相変調パターンで変調された記録用参照光を光軸が同一線上となるように配置し、発生する干渉パターンを記録される。 - 特許庁

The polarization inversion layers 5 are formed so as to present a concentric circular pattern of regular intervals with a prescribed period A in view of a cross-section along the proceeding direction of incident light in the nonlinear optical crystal 3 in order to satisfy a pseudo phase matching condition.例文帳に追加

分極反転層５は、擬似位相整合条件を満たすように、非線型光学結晶３内における入射光の進行方向に沿った断面で見て、所定の周期Λで等間隔の同心円状パターンを呈するように形成されている。 - 特許庁

Further, a phase difference film, a light diffusion pattern, etc., are formed on the slant 8 of the plate 1 to give a function of rotating polarization, and polarized light entering the slant 8 from the grating 7 is rotated to increase the polarization components of high diffraction efficiency.例文帳に追加

さらに、導光板１の斜面８に位相差膜や光拡散パターン等を設けて偏光を回転させる機能を与え、回折格子７から反射して斜面８に入射した偏光を回転させて、回折効率の高い偏光成分を増加させる。 - 特許庁

A solid phase of amorphous (-)-FTC and (-)-cis-FTC called II and III(-)-cis-FTC which is distinguishable from I(-)-cis-FTC by its powder X-ray diffraction pattern, heat characteristic and production methods is provided.例文帳に追加

Ｘ線粉末回折パターン、熱特性、および製造の方法によってＩ型（−）−シス−ＦＴＣと区別することができ、ここでは非晶質（−）−ＦＴＣおよびＩＩおよびＩＩＩ型（−）−シス−ＦＴＣ）と呼ばれる（−）−シス−ＦＴＣの固相を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask which gives a symmetric spatial image with respect to an image plane even when the dimension of a pattern formed on the mask is in the size of around wavelengths of light from a light source, and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクであってこれに形成されたパターンの寸法が光源光の波長程度の大きさであっても、空中像が像面に関して対称となるようなハーフトーン型位相シフトマスク及びこれを用いた露光方法を提供すること。 - 特許庁