「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

In a focus detecting device arranging a first sensor 113 for outputting a signal for detecting a focus by phase difference detection and a second sensor 110 having a plurality of pixels mutually different in spectral sensitivity on the same substrate, the accumulation of the second sensor 110 is started after correction operation for removing the fixed pattern noise of the first sensor 113.例文帳に追加

位相差検出により焦点検出用信号を出力する第一のセンサ113と、分光感度が互いに異なる複数の画素を持つ第二のセンサ110を同一基板上に配置した焦点検出装置において、第一のセンサ113の固定パターンノイズを除去する補正動作終了後に第二のセンサ110の蓄積を開始する。 - 特許庁

The coma aberration of the laser beam exited from the light emitting part having the deviation of image height is corrected by providing an aberration correcting element 15 having a phase difference pattern between the laser beams different in a light emitting wavelength in an optical path which guides the laser beam exited from a plurality of light emitting parts provided in the two-wavelength laser diode chip 11 to a recording medium 12.例文帳に追加

２波長レーザダイオードチップ１１が持つ複数の発光部から出射されたレーザビームを記録媒体１２に導く光路に、発光波長が異なるレーザビーム間の位相差パターンを有する収差補正素子１５を設けることによって、像高ずれのある発光部から出射されるレーザビームのコマ収差を補正する。 - 特許庁

To provide manufacturing methods for a glass substrate for an electronic device and a mask blank with which no fine uneven surface defect occurs on a substrate surface or a failure rate is low, and a manufacturing method for a transfer mask free from a phase defect or a pattern defect caused by the fine uneven surface defect on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が発生しないか又は発生率の低い電子デバイス用ガラス基板及びマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が起因する位相欠陥やパターン欠陥のない転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In an embodiment, the method includes a step of acquiring information about the shift in the characteristics and a step of determining a desired change in phase to compensate at least partially for the shift in the characteristics to be applied to at least part of a radiation beam used to apply a pattern feature to a substrate.例文帳に追加

一実施形態では、この方法には、特性のずれに関連する情報を得る工程と、基板にパターンフィーチャを加えるために使用される放射ビームの少なくとも一部に加えられる、特性のずれを少なくとも部分的に補償することになる所望の位相変化を決定する工程が含まれている。 - 特許庁

A two-dimensional layout determining apparatus 10 determines a pattern 11 having a plurality of apertures of the same size (Wx×Wy), and a three-dimensional structure determining apparatus 20 determines a three-dimensional groove structure with a depth d and an undercut length Uc to shift the phase of transmitted light by 180° for the apertures of even numbers.例文帳に追加

二次元レイアウト決定装置１０により、同一サイズ（Ｗｘ×Ｗｙ）の複数の開口窓を有するパターン１１を決定し、三次元構造決定装置２０により、偶数番目の開口窓について、透過光の位相を１８０°シフトするため、深さｄ、アンダーカット量Ｕｃをもった三次元溝構造を決定する。 - 特許庁

This position demodulating device has a servo demodulator circuit (30) to demodulate the first and second vector information from the reproduced phase servo pattern signals of the recording medium (10), a processing unit (40) to calculate the tan value of the difference angle from the first and second vector information and to calculate the deviations at the track center in an approximate expression, and a difference table (64).例文帳に追加

記憶媒体（１０）の位相サーボパターンの再生信号から第１のベクトル情報と第２のベクトル情報を復調するサーボ復調回路（３０）と、第１、第２のベクトル情報から角度差のｔａｎ値を計算し、近似式で、トラック中心に位置ずれ量を計算する処理ユニット（４０）と差分テーブル（６４）とを有する。 - 特許庁

In the hologram reflector 12 having a hologram to form a display pattern by reflecting the incident light to a specified direction in a specified range, the hologram consists of a volume phase transmission type hologram layer 11 and an image 12c of figures, characters or the like are formed in a light reflecting layer 12a disposed under the hologram layer.例文帳に追加

入射光を所定方向と所定範囲に反射して表示パターンを形成するために用いられるホログラムを備えた反射板において、ホログラムが体積位相透過型ホログラム層１１であり、ホログラム層下に設ける光反射層１２ａに絵柄、文字等の画像１２ｃを形成したホログラム反射板１２である。 - 特許庁

The PWM converter 24 creates the PWM signals which are the PWM pattern signals of the section of 1/2^n phase representing the potential and are not at least the same in all relating to each potential 2^(n-1) times, thereby creating the respective PWM signals of the segment lines and the common lines.例文帳に追加

ＰＷＭ変換器２４は、各電位について、当該電位を表す１／２^ｎフェーズの区間のＰＷＭパターン信号であって、少なくとも全てが同一とはならないＰＷＭパターン信号を２^（ｎ−１）回生成することにより、セグメント線およびコモン線のそれぞれのＰＷＭ信号を生成する。 - 特許庁

Either tow kinds of driving voltages Va and Vb having different amplitudes or a GND is applied to pattern electrodes 30 to 38 of the electrode 22A through an amplitude modulator 106 and a selection switch 108, a desired phase difference is given to light beams and as a result, astigmatism caused by an optical system is compensated.例文帳に追加

透明電極２２Ａに対して、振幅変調器１０６、選択スイッチ１０８等を介して振幅の異なる２種の駆動電圧Ｖａ、ＶｂあるいはＧＮＤの何れかが各パターン電極３０乃至３８に印加され、光ビームに所望の位相差を与える結果、光学系に起因する非点収差が補正される。 - 特許庁

A laser beam applied by using a phase grating mask which diffracts the laser beam applied from above and forms grid-shaped interference fringes is allowed to interfere, a resist coated or deposited on the material surface is irradiated with the coherent beam and is developed and, thereby, a pattern corresponding to the periodic structure is formed.例文帳に追加

本発明は、上部から照射されたレーザー光を回折して格子状の干渉縞を形成する位相格子マスクを用いて、照射されたレーザー光を干渉させ、その干渉光を物質表面に塗布又は堆積したレジストに照射し、現像することによって、前記周期構造に対応するパターンを形成する。 - 特許庁

The method for forming a reticle includes a process of providing a reticle blank having a quartz layer, attenuation phase change layer and metal layer, a process of coating the reticle blank with a resist, a process of patterning the resist into a plurality of levels, and a process of etching the reticle blank in accordance with the multilevel resist pattern.例文帳に追加

本発明のレチクル形成方法は、石英層、減衰位相変化層および金属層を有するレチクルブランクを提供する工程と、該レチクルブランクをレジストで覆う工程と、該レジストを複数レベルにパターンニングする工程と、該マルチレベルレジストパターンに従って該レチクルブランクをエッチングする工程とを包含する。 - 特許庁

At least one of the inward member 41, the outward member 43 and the rolling element 42 is made of the titanium material having the new phase 22 that a diffraction spot is present at a position deviating from that on a virtual line connecting together almost the centers of diffraction spots of adjacent parent phases on an electron diffraction pattern obtained by electron microscopy.例文帳に追加

そして、内方部材４１、外方部材４３及び転動体４２のうちの少なくとも１つが、電子顕微鏡法によって得られた電子回折図形上で、隣り合う母相の回折斑点の略中心を結ぶ仮想線上から逸れた位置に回折斑点が存在する新相２２を有するチタン材料から成っている。 - 特許庁

In the radiation image conversion panel that has a phosphor sheet where the stimulable phosphor layer is placed by a gas phase lay-up pattern and a protective layer which is placed so as to cover the surface of the stimulable phosphor layer on a support (substrate), the protective layer is formed after the plasma treatment is given to the surface of the stimulable phosphor layer.例文帳に追加

支持体（基板）上に、輝尽性蛍光体層が気相堆積型により設けられている蛍光体シートと該輝尽性蛍光体層の表面を被覆するように設けられる保護層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の表面をプラズマ処理した後、該保護層を設けることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

To achieve the recognition of the symbol, the distance is computed from the phase difference between the reference projection signal emitted to the detection member and the received signal reflected from the detection member and the symbol number previously defined corresponding to the loaded distance data undergoes indexing (distance-symbol conversion TBL) to extract the valid pattern.例文帳に追加

また、図柄認識は、検出部材に対して出射される基準投光信号と検出部材から反射される受光信号との位相差により距離を演算し、取り込まれた距離データに対応してあらかじめ定義された図柄番号を索引（距離−図柄変換ＴＢＬ）して有効絵柄を抽出することにより行われる。 - 特許庁

The delay circuit is provided with a ceramics substrate 1 containing ceramics, and phase delay circuits each including a pair of transmission lines 21 formed on the ceramics substrate by a strip line pattern, and in the circuit, the porosity of the ceramics substrate 1 is not lower than 20% and the ratio of closed pores to all pores is not lower than 50%.例文帳に追加

本発明の遅延回路は、セラミックスを含むセラミックス基板１と、それぞれがストリップラインパターンによりセラミックス基板上に形成された１対の伝送線路２１を含む位相遅延回路とを備え、セラミックス基板１の気孔率が２０％以上であり、全気孔中の閉気孔の割合が５０％以上であることを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a shape measuring apparatus which extracts phase information of spatial carrier fringes from a spatial carrier fringe pattern image resulting from the interference of a reflected light from a reference mirror with a reflected light from the surface of an object to measure the surface shape of the object at a high accuracy.例文帳に追加

参照ミラーからの反射光と計測対象物の表面からの反射光との干渉により生じる空間キャリア縞パターン画像から空間キャリア縞の位相情報を抽出することにより計測対象物の表面形状を計測する形状計測装置に関し、高精度の計測を行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide an electrostatic actuator fixing sheet having a multi-phase electrode pattern of three phases or more, which requires only a one-side wiring not using a through-hole, has an electrode line of long extended total width, has a large static power, uses uniform static power for each of phases and can be easily manufactured: and to provide an electrostatic actuator using the fixing sheet.例文帳に追加

スルーホールを使用しない片面配線で済ませることができ、電極線の延長総幅が長く静電力が大きく、各相による静電力が均等であり、しかも製造が容易な３相以上の多相電極パターンを有する静電アクチュエータの固定シートおよびその固定シートを使用した静電アクチュエータを提供する。 - 特許庁

For forming a light transmission path with SiO2, a mask such as resist pattern is formed on the substrate 1, a well in semicircular form is formed by etching the substrate 1 using the mask, SiO2 exhibiting flowability is grown in the shape of the cross section of a round using the mask through a liquid phase CVD method, and SiO2 is solidified.例文帳に追加

ＳｉＯ_2 で光伝送路を形成するには、基板上にレジストパターンなどのマスクを形成し、このマスクを用いて基板をエッチングすることにより半円形の溝を形成し、このマスクを用いて液相ＣＶＤ法により溝の部分に流動性を有するＳｉＯ_2 を円形の断面形状に成長させた後、このＳｉＯ_2 を固化させる。 - 特許庁

Diffraction light generated by an index diffraction grating 13 is made to reinterfere with a moving diffraction grating 15; an interference pattern (periodic light intensity distribution) of the interference light is allowed to vibrate by rotational vibration of a modulation mirror 16; phase modulation of the periodic light intensity distribution is performed, and then the modulated signal is detected by a light receiving part 17.例文帳に追加

インデックス回折格子１３で発生した回折光を、移動回折格子１５で再干渉させ、その干渉光の干渉縞（周期的な光強度分布）を変調ミラー１６の回転振動で振動させ、その周期的な光強度分布の位相変調したうえで、受光部１７でその変調信号を検出する。 - 特許庁

The information recording medium 1 having an information recording part 10 wherein a plurality of phase diffraction gratings 20 are disposed with a two-dimensional pattern corresponding to the information to be recorded, is irradiated with linear laser beams emitted from a two-dimensional semiconductor laser array 71, then the diffracted light generated in the information recording part 10 is detected by a CCD array 76.例文帳に追加

記録する情報に応じた２次元パターンで複数の位相回折格子２０が配設された情報記録部１０を有する情報記録媒体１に対して、２次元半導体レーザアレイ７１から出射した直線状のレーザ光を照射し、情報記録部１０で生じた回折光をＣＣＤアレイ７６によって検出する。 - 特許庁

For example, a control part 3 detects the direct current idc, corrects a voltage instruction V* for the alternating current voltage whose phase is according to a switching pattern in each period so that the difference in the offset amount among respective periods of the direct current idc is made smaller, and controls the switching elements S1 to S6 based on the voltage instruction after the correction.例文帳に追加

例えば制御部３は、直流電流ｉｄｃを検出し、直流電流ｉｄｃの各周期間におけるオフセット量の差が低減するように、各周期でのスイッチングパターンに応じた相の前記交流電圧についての電圧指令Ｖ*に対して補正を行い、補正後の電圧指令に基づいてスイッチング素子Ｓ１〜Ｓ６を制御する。 - 特許庁

At the time of crystallizing a thin semiconductor film with a laser beam, an array of a substantially single crystal grain having a large diameter and only containing a twin crystal grain boundary is created by generating a single growing crystal nucleus near the center of the optical axis of energy light by using a phase shifter, in which dot-pattern steps are arranged at fixed intervals and radially growing the crystal nucleus in the lateral direction.例文帳に追加

半導体薄膜のレーザ結晶化の際に、ドットパターン段差を一定間隔で配置した位相シフタを使い、エネルギ光の光軸の中心近傍に単一の成長性の結晶核を発生させ、放射状に横方向成長させることで、内部に双晶粒界のみを含む実質的に単一の大粒径結晶粒のアレイを作製する。 - 特許庁

The measurement phase includes conditioning a radiation beam with a first beam condition, forming the patterned radiation beam by imparting the radiation beam with the first beam condition with a first pattern in its cross-section, and projecting the patterned beam onto a sensor capable of providing a sensor output signal.例文帳に追加

測定段階は、第１のビーム条件を含む放射ビームを調整するステップと、第１のビーム条件を含む放射ビームにその断面の第１のパターンを付与することにより、パターン形成された放射ビームを形成するステップと、センサ出力信号を供給することができるセンサ上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む。 - 特許庁

A regeneration control circuit 20 sweeps voltage threshold level and the extracted clock phase one after the other with respect to the input signal, determines whether the levels of adjacent monitor points agree to automatically measure the least error occurrence recognizing point in an effective region of eye pattern, and takes this recognition point as the optimum point for executing the regeneration control.例文帳に追加

再生制御回路２０は、入力信号に対し、電圧しきい値レベルと、抽出したクロックの位相とを順次スイープさせ、隣り合うモニタポイントのレベルが一致するか否かの判定を行って、アイパターンの有効領域内での最もエラー発生の低い識別点を自動測定し、その識別点を最適点として再生制御を行う。 - 特許庁

To obtain an array antenna system consisting of a logarithmic period dipole array antenna, a phase shifter and a feeding circuit that can suppress deterioration in an element array pattern due to unbalanced currents on the logarithmic period dipole array antenna stimulated at a specific frequency so as to avoid a gain reduction at the specific frequency and the increase in a side lobe level.例文帳に追加

対数周期ダイポールアレーアンテナと移相器と給電回路で構成するアレーアンテナ装置において、特定周波数において励起する対数周期ダイポールアレーアンテナ上の不平衡電流による素子アレーパターンの劣化を抑圧し、特定周波数において利得低下およびサイドローブレベル上昇をしないアレーアンテナ装置を得る。 - 特許庁

The light modulator module of the present invention includes: a light modulator which modulates incident light and outputs the modulated output light; and a translucent substrate which is positioned on the light modulator, through which the incident light and the output light pass, and in which a phase adjustment pattern is formed on a part of the surface serving as an optical path.例文帳に追加

本発明の光変調器モジュールは、入射光が入射されて、上記入射光を変調した出力光を出力する光変調器と、及び上記光変調器上に位置しながら、上記入射光と上記出力光が通過するし、光経路となる表面の一部に位相調整パターンが形成されている光透過性基板と、を含む。 - 特許庁

A multiple patterning process employs a phase change material, portions of which can be converted to an amorphous state and then a remaining portion is selectively removed to provide high resolution pattern features with a feature spacing smaller than, for example, a minimum spacing available in a conventional patterning layer employing a single exposure.例文帳に追加

多重パターニングプロセスで相変化材料を使用し、相変化材料の一部分をアモルファス状態に転化させることができ、次いで残りの部分が選択的に除去され、たとえば単一の露光を使用して従来のパターニング層内で使用可能な最小間隔より小さいフィーチャ間隔を有する高解像度パターンフィーチャをもたらす。 - 特許庁

A wavefront control part 20d of a control device 20 controls a phase modulation module 100 of a wavefront forming light source 10 based on data of an aberration cancel pattern for canceling desired aberration, generates detection light having the wavefront required for determining the contribution degree to the desired aberration of the lens L, and allows the lens L to be irradiated therewith.例文帳に追加

制御装置２０の波面制御部２０ｄは、所望の収差をキャンセルするための収差キャンセルパターンのデータに基づいて波面成形光源１０の位相変調モジュール１００を制御し、レンズＬの当該所望の収差に対する寄与度を判定するために必要な波面を有する検出光を生成させ、レンズＬに照射させる。 - 特許庁

If the toggle rate calculated in the toggle rate calculating step is lower than the predetermined specific value, a step of revising the burn-in pattern or drawings of a burn-in board or changing the RTL design and a step of calculating the toggle rate with respect to connection data in the RTL designing phase are repeated until the toggle rate reaches or exceeds the specific value.例文帳に追加

トグル率算出工程において算出されたトグル率があらかじめ設定された規定値より低い場合には、トグル率が前記規定値以上になるまで、バーンインパターンまたはバーンインボード図面の修正あるいはＲＴＬ設計の変更を行う工程と、ＲＴＬ設計段階の接続データに対してトグル率を算出する工程を繰り返す。 - 特許庁

The transparent material for forming the lattice structure is formed of a silicon nitride film and has a thickness of 800 nm or less, and provides a wide band quarter-wave plate which has a thin film thickness and is easily processed, and accordingly can enhance accuracy of a required phase difference and high transmissivity, by making a cross-sectional shape of each line pattern into a trapezoidal shape according to required characteristics.例文帳に追加

本発明は、格子構造を形成するための透明性材料は、窒化シリコン膜からなり、その厚さは８００ｎｍ以下であり、要求特性に応じ各ラインパターンの断面形状を台形形状とすることにより、薄い膜厚で加工しやすく、従って必要な位相差と高い透過率の精度を向上することができる広帯域１／４波長板を提供する。 - 特許庁

In the four-phase clock signal preparation system 1, according to a preset program 4, a CPU 3 outputs a signal when the count value of clock signals of an oscillator 2 by a counter 5 becomes a preset comparative value and corresponding to the output from this counter 5, pattern data stored in a memory 6 are selectively read out and outputted to an external interface 8 by a direct memory access controller 7.例文帳に追加

４相クロック信号作成システム１においては、ＣＰＵ３が予め設定されたプログラム４にしたがって、カウンタ５による発振子２のクロック信号のカウント値が予め設定された比較値になると出力し、このカウンタ５からの出力により、ダイレクトメモリアクセスコントローラ７がメモリ６に格納されているパターンデータを選択して読み出して、外部インターフェース８に出力する。 - 特許庁

When the presence of an obstacle is determined, the reception power of received waves is acquired at a predetermined control period and taken as reception power time-series data and compared with a threshold range pattern preset on the basis of the phase interference of wave motion dependent on the height of the object from a road to determine whether the object is an object on the road or not at a secondary determination module 54.例文帳に追加

対象物が有ると判断されると受信波の受信パワーを予め定めた制御周期で取得して受信パワー時系列データとし、これを対象物の路上からの高さに依存する波動の位相干渉に基づいて予め設定された閾値範囲パターンと比較して、対象物が路上障害物が否かの判断を２次判断モジュール５４において行う。 - 特許庁

An amplifier means 104 and an impedance conversion circuit 105 are formed in the same IC chip, at least a matching circuit 106, a power supply means 107 and a phase shift circuit 108 are configured in a laminated body composed of an electrode pattern and a dielectric layer, and at least the IC chip and a SAW filer are mounted on the laminated body.例文帳に追加

増幅手段１０４およびインピーダンス変換回路１０５を同一のＩＣチップ内に形成するとともに、少なくとも整合回路１０６、電源供給手段１０７および移相回路１０８を電極パターンと誘電体層とからなる積層体内に構成し、前記積層体上に少なくとも前記ＩＣチップおよびＳＡＷフィルタを搭載して構成したものである。 - 特許庁

A process of production of low-grade olefin, comprising methanol in gaseous phase and the constituents expressible as aM2O・bM'O・Al2O3・cSiO2・nH2O (where M = alkali metal and/or hydrogen atom, M' = alkali earth metal, a = 0-1.5, b = 0.2-40, except a+b >1, c = 12-3,000 and n = 0-40) heated to 500-600oC in contact with alkali earth metal including crystal alminocilicate zeolite catalyst having X-ray defecation pattern indicated as xxx. 例文帳に追加

メタノールを気相で、aM2O・bM′O・Al2 O3・cSiO2・nH2O（式中Mはアルカリ金属及び／又は水素原子、M′はアルカリ土類金属、aは０～1.5、bは0.2～40、ただしa＋b＞１、cは12～3,000及びnは０～40である）で表される組成を有し、かつ×××で示されるX線回折パターンを有するアルカリ土類金属含有結晶アルミノシリケートゼオライト触媒と、500～600℃の温度で、接触させることからなる低級オレフィンの製造方法。 - 特許庁

The hologram observation tool configured to have the computer hologram, constituted as a transmission type Fourier transformation hologram, fitted in a frame is characterized in that an original image pattern reproduced from the computer hologram is recorded while at lest one of phase information and amplitude information at circumferential part positions of relatively predetermined fixed computer holograms 2 and 3 is omitted.例文帳に追加

枠１内に透過型のフーリエ変換ホログラムとして構成された計算機ホログラム２、３が嵌め込まれてなるホログラム観察具において、計算機ホログラムから再生可能な原画パターンに対して相対的に一定の予め定めた計算機ホログラム２、３の周辺部位置の位相情報、振幅情報の少なくとも何れか一方が省かれて記録されているホログラム観察具である。 - 特許庁

To provide an optical transmission system using an optical phase modulator capable of improving non-linearity and dispersion characteristics of NRZ transmission in high-speed middle/long-distance WDM transmission of 10Gbps or higher by conquering transmission quality dependency and bit pattern dependency caused by filter transmission characteristics of a duobinary structure including an electrical low-pass filter structure.例文帳に追加

電気的低帯域フィルタ構造を有するデュオバイナリ構造のフィルタ透過特性による伝送品質の依存性及びビットパターンの依存性を克服し、１０Ｇｂｐｓ以上の高速中長距離ＷＤＭ伝送において、ＮＲＺ伝送の非線形及び分散特性を向上させることのできる光位相変調器を利用した光伝送システムを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the solar cell has a process in which the power generation layer 102 is formed on the first surface of the polycrystalline semiconductor substrate 101, a pattern by a growth preventive film 103 is formed on the surface of the layer 102, and a texture structure is formed by selectively growing a semiconductor layer 105 on the surface of the layer 102 in an epitaxial manner by a liquid-phase growth method.例文帳に追加

多結晶半導体基板１０１の第一の表面に発電層１０２を形成し、該発電層１０２表面上に成長阻止膜１０３によるパターンを形成し、該発電層１０２表面上に液相成長法にて半導体層１０５を選択的にエピタキシャル成長することによりテクスチャ構造を形成する工程を有する太陽電池の製造方法。 - 特許庁

The method for forming an alignment layer to align liquid crystal molecules includes: a plasma polymerization film forming step of forming a plasma polymerization film 86a on a substrate by using a plasma chemical vapor phase method; and a UV ray irradiation step of irradiating the plasma polymerization film 86a with UV rays to form a rugged pattern and rendering the plasma polymerization film as an alignment layer.例文帳に追加

液晶分子を配向する配向膜の形成方法であって、プラズマ化学気相法を用いて基板上にプラズマ重合膜８６ａを形成するプラズマ重合膜形成工程と、紫外光を照射することによって上記プラズマ重合膜８６ａに凹凸を形成し、これによって上記プラズマ重合膜を上記配向膜とする紫外光照射工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

The production method includes a process of forming a film consisting of any of an oxide of molybdenum silicon, nitride of molybdenum silicon, oxide nitride of molybdenum-silicon, nitride of silicon and oxide nitride of silicon on a quartz substrate, and a process of forming a phase shift mask pattern by reactive ion etching to selectively etch and remove the film by using an etching gas containing gaseous chlorine.例文帳に追加

石英基板上にモリブデン−シリコンの酸化物、モリブデン−シリコンの窒化物、モリブデン−シリコンの酸窒化物、シリコンの窒化物およびシリコンの酸窒化物のいずれかからなる被膜を形成する工程と、前記被膜を塩素ガスを含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングにより選択的にエッチング除去することにより位相シフトマスクパターンを形成する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The phase difference filter for stereoscopic vision display device is constituted by alternately arranging a 1st area where only a 1st image is made visible and a 2nd area where only a 2nd image is made visible in two-dimensional checkered pattern on a display panel for stereoscopic image so that stereoscopic vision is enabled according to right and left image distribution states.例文帳に追加

立体画像用表示パネルに装着され、左右の画像分布状態にあわせて立体視させることができるように配置され、第一の画像だけを可視状態とする第一領域及び第二の画像だけを可視状態とする第二領域とが平面的に交互に配置される市松模様をなすように配置して立体映像表示装置用位相差フィルタを構成した。 - 特許庁

To provide a liquid crystal lens that keeps a desired temperature of a liquid crystal layer and responses at a sufficient speed even at a low temperature by sufficiently reducing the resistance of a heater so as to obtain sufficient heat energy, and increasing the flexibility of pattern wiring of the heater so as to uniformly heat within the effective circle of a phase modulation electrode group, while reducing the size of the liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルの小型化を実現しながらも、十分な熱エネルギーが得られようにヒータの抵抗値を十分下げ、同時に、ヒータのパターン配線の自由度を増して位相変調電極群の有効円内を均一に加熱できるようにして、液晶層を所望の温度以上に維持し、低温下でも十分な速さで応答する液晶レンズを提供する。 - 特許庁

The forgery prevention sheet is composed of ferromagnetic micro flake which is obtained by miniaturization of a ferromagnetic thin film obtained by a vapor phase growth such as vacuum deposition method, etc., dispersed in a substrate, set to form a specific pattern and having an inherent magnetic characteristics, wherein the substrate is made of a paper or a resin and the prescribed ferromagnetic thin film is set to have a smooth surface.例文帳に追加

この課題を解決するため、本発明による偽造防止シートは、蒸着膜などの気相成長した強磁性体薄膜を微細片化した強磁性体微細片が基材内に分散されて、特定のパターンに形成され、固有の磁気特性を保持せしめており、前記基材が紙であるか、または、前記基材が樹脂であり、前記強磁性体薄膜は、その表面が平滑に形成されている。 - 特許庁

This method comprises classifying the traffic state in the traffic network having the effective obstacle factor to at least each state phase of 'traffic state of running without limitation', 'traffic state of synchronous running' and 'moving extensive traffic jam', and classifying the traffic state into a high density traffic pattern including these state phases formed on the upper stream of the effective obstacle factor.例文帳に追加

本発明は、有効障害要因を有する交通網における交通状況を、少なくとも「制限なしに流れている交通状態」と「同期して流れている交通状態」と「移動している広範囲の渋滞」の各状態相に分類すると共に、有効障害要因の上流に形成されるこれらの状態相を含む高密度交通パターンに分類して判定する方法に関する。 - 特許庁

A contour data interpolating part 51 sets reference contour data for endocardium and epicardium of the reference image data (a first image data) selected from a plurality of sheets of time-series image data, and a tracking part 52 sets contour data to the endocardium and epicardium of a second image data by pattern matching between the first image data and a plurality of image data (the second image data) in the other time phase.例文帳に追加

輪郭データ補間部５１は、時系列的な複数枚の画像データの中から選択した基準画像データ（第１の画像データ）の心内膜及び心外膜に対し基準輪郭データを設定し、トラッキング処理部５２は、第１の画像データと他の時相における複数の画像データ（第２の画像データ）とのパターンマッチングにより第２の画像データの心内膜及び心外膜に対し輪郭データを設定する。 - 特許庁